流体二极管止回阀制造技术

本发明专利技术涉及一种流体二极管，该流体二极管具有壳体，该壳体具有入口和出口，和在其中形成的分开的流体通道，其中所述分开的流体通道由镜像分区限定，每个所述镜像分区通常是泪滴形状，通过恒定宽度的主流体通道被定位为彼此相距第一间隔距离，其尖端大致指向出口，并且被定位为与壳体内壁相距第二间隔距离，所述第二间隔距离限定恒定宽度的次级流体通道；从入口到出口的流体流动通过主流体通道，其中一些另外的流动通过次级流体通道，在靠近出口处并入主流体通道，以便在相同方向上一起流动，并且在与所述主流体通道中的流动大致相反的方向上，从出口到入口通过次级流体通道的流体流动在靠近入口处离开次级流体通道。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】流体二极管止回阀相关申请本专利申请要求享有于2016年3月3日提交的美国临时申请第62/303076号的权益，本文中通过引用并入了该申请全部内容。
本专利技术涉及一种用作止回阀的流体二极管，更加特别地，涉及一种流体二极管，当压力差被施加在出口和入口上时，该流体二极管具有高流量限制，并且当压力差是相反的时候，该流体二极管具有低流量限制，所述入口和所述出口引导流体流动。
技术介绍
在许多情况下，需要一种手段来限制在一个方向的流量，同时允许流体在相反方向上容易流动。实现此目的的一种方法是使用止回阀。止回阀通常在流体流量通道中具有例如密封件的部件，该部件可在打开和关闭位置之间移动，其中在关闭位置，密封件阻止在一个方向上的流动，而在打开位置，密封件允许通过其流动。需要一种手段用这种方式来控制流动，而不增加成本、复杂性和与这些传统形式的止回阀相关的其他问题。
技术实现思路
本文中公开了代替传统式止回阀的流体二极管，即，没有可在打开位置和关闭位置之间移动的密封构件。相反，穿过流体二极管的内部通道的形状和配置仅使用流过其的流体流动本身操作作为止回阀。在所有方面，本文的流体二极管具有壳体，该壳体限定入口和本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流体二极管，包括：壳体，所述壳体具有入口和出口、以及在所述壳体中形成的分开的流体通道，其中所述分开的流体通道由镜像分区限定，所述镜像分区通过恒定宽度的主流体通道被定位为彼此相距第一间隔距离，并且被定位为距所述壳体的内壁第二间隔距离，所述第二间隔距离限定在每个分区与所述内壁之间的恒定宽度的次级流体通道；其中，当将所述镜像分区中的每个看作具有大致指向所述出口的尖端的冠状平面横截面时，所述镜像分区中的每个是大致泪滴形状；其中，从所述入口到所述出口的流动通过所述主流体通道，其中一些另外的流动通过所述次级流体通道，在靠近所述出口处并入所述主流体通道，以便在相同方向上一起流动；以及其中，在与所述主...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.03 US 62/303,0761.一种流体二极管，包括：壳体，所述壳体具有入口和出口、以及在所述壳体中形成的分开的流体通道，其中所述分开的流体通道由镜像分区限定，所述镜像分区通过恒定宽度的主流体通道被定位为彼此相距第一间隔距离，并且被定位为距所述壳体的内壁第二间隔距离，所述第二间隔距离限定在每个分区与所述内壁之间的恒定宽度的次级流体通道；其中，当将所述镜像分区中的每个看作具有大致指向所述出口的尖端的冠状平面横截面时，所述镜像分区中的每个是大致泪滴形状；其中，从所述入口到所述出口的流动通过所述主流体通道，其中一些另外的流动通过所述次级流体通道，在靠近所述出口处并入所述主流体通道，以便在相同方向上一起流动；以及其中，在与所述主流体通道中的流动大致相反的方向上，从所述出口到所述入口通过所述次级流体通道的流动在靠近所述入口处离开所述次级流体通道进入所述主流体通道。2.根据权利要求1所述的流体二极管，其中所述镜像分区中的每个具有两个直边，所述两个直边的长度为约4mm至约6mm，通过半径为约1至约2的主弧形边连接。3.根据权利要求2所述的流体二极管，其中，所述镜像分区中每个的所述尖端具有半径为约0至约0.1的次级弧形边。4.根据权利要求1所述的流体二极管，其中，所述出口在尺寸上大于所述入口。5.根据权利要求4所述的流体二极管，其中所述出口的尺寸与所述入口的尺...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·汉普顿，D·E·弗莱彻，B·M·格雷琴，J·H·米勒，M·C·吉尔默，A·D·尼德尔特，
申请(专利权)人：戴科知识产权控股有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国,US