An optical proximity correction method includes: providing target graphics; performing initial segmentation of the target graphics boundary and dividing the target graphics boundary into several segments; performing OPC operation on the target graphics after the initial segmentation to obtain OPC polygon; and judging whether the aspect ratio of the OPC polygon is preset or not. Within the threshold value, when the aspect ratio of OPC polygon is greater than the preset threshold value, the length of the segment is adjusted by re-segmentation of the object graphics boundary corresponding to the OPC polygon, and the target graphics after re-segmentation is OPC operated to obtain the corrected OPC polygon, and the aspect ratio of the corrected OPC polygon is pre-determined. First set the threshold. The optical proximity correction method provided by the invention can find out the bad points after segmentation of the target graphics, and re-segment the boundary of the target graphics in time, so that the obtained OPC polygon can be well covered by the OPC model.
【技术实现步骤摘要】
光学邻近校正方法
本专利技术涉及半导体制造
,特别涉及一种光学邻近校正方法。
技术介绍
在半导体制造中,随着设计尺寸的不断缩小,光的衍射效应变得越来越明显,它的结果就是最终对设计图形产生的光学影像退化,最终在基底上经过光刻形成的实际图形变得和设计图形不同,这种现象被称为光学邻近效应(OPE:OpticalProximityEffect)。为了修正光学邻近效应,便产生了光学邻近校正(OPC:OpticalProximityCorrection)。光学邻近校正的核心思想就是基于抵消光学邻近效应的考虑建立光学邻近校正模型,根据光学邻近校正模型设计光掩模图形,这样虽然光刻后的光刻图形相对应光掩模图形发生了光学邻近效应,但是由于在根据光学邻近校正模型设计光掩模图形时已经考虑了对该现象的抵消,因此,光刻后的光刻图形接近于用户实际希望得到的目标图形。现有的光学邻近校正方法中,提供目标图形后,整个光学邻近校正的过程包括多个循环(interation),每次循环均对图形进行修正获得调整后的初始图形,并计算边缘位置误差(EPE,EdgePlacementError),通过判断所 ...
【技术保护点】
1.一种光学邻近校正方法,其特征在于,包括:提供目标图形;对所述目标图形边界进行初始分段,将所述目标图形边界分为多个片段;对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算,获得OPC多边形;判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内;当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时,对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段,调整所述片段的长度;对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算,获得校正后OPC多边形,且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。
【技术特征摘要】
1.一种光学邻近校正方法,其特征在于,包括:提供目标图形;对所述目标图形边界进行初始分段,将所述目标图形边界分为多个片段;对所述初始分段后的目标图形进行OPC运算,获得OPC多边形;判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内;当所述OPC多边形的长宽比大于预先设定的阈值时,对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段,调整所述片段的长度;对所述重新分段后的目标图形进行OPC运算,获得校正后OPC多边形,且校正后OPC多边形的长宽比在预先设定的阈值内。2.如权利要求1所述的光学邻近校正方法,其特征在于,所述目标图形边界包括长边以及短边,其中,长边的长度大于短边的长度;对所述目标图形边界进行初始分段的方法包括:将所述长边均分为多个第一片段;将所述短边分为一个或均分为多个第二片段。3.如权利要求2所述的光学邻近校正方法,其特征在于,对与所述OPC多边形对应的目标图形进行重新分段,调整所述片段的长度的步骤包括:缩短与所述短边两端相邻的第一片段的长度。4.如权利要求2所述的光学邻近校正方法,其特征在于,所述OPC多边形包括中心部以及与所述中心部相连的四个凸出部。5.如权利要求4所述的光学邻近校正方法,其特征在于,所述凸出部中与所述中心部相邻的边界长度为第一长度,所述凸出部中远离所述中心部的边界长度为第二长度,所述第一长度与第二长度之间的比值为所述OPC多边形的长宽比。6.如权利要求5所述的光学邻近校正方法,其特征在于,判断所述OPC多边形的长宽比是否在预先设定的阈值内的方法包括:判断与所述目标图形边界短边位置对应的凸出部的第一长度与第二长度之间的比值是否在预先设定的阈值范围内。7.如权利要求1所述的光学邻近校正方法,其特征在于,所述预先设定的阈值为1.8。8.如权利要求1所述的光学邻近校正方法,其特征在于,所述目标图形的形状为方形;所述OPC多边形的形状为十字形。9.如权利要求1所述的光学邻近校正方法,其特征在于,对与所述OPC多边形对应的目标图形边界进行重新分段,调整所述片段的长度的方法包括:对所述OPC多边形进行模拟光刻,获得模拟光刻图形;基于所述模拟光刻图形与所述目标图形之间的位置差异,获取所述片段需要缩短的长度;所述片段的初始长度与所述片段需要缩短的长度之间的差值,为重新分段后所述片段的长度。10.如权利要求9所...
【专利技术属性】
技术研发人员:李亮,杜杳隽,陈啸,
申请(专利权)人:中芯国际集成电路制造上海有限公司,中芯国际集成电路制造北京有限公司,
类型:发明
国别省市:上海,31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。