【技术实现步骤摘要】
一种有机发光显示面板及其制作方法
本专利技术涉及半导体
,尤其涉及一种有机发光显示面板及其制作方法。
技术介绍
有机发光显示面板(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)的阴极材料本身具有一定的电阻值,当OLED面板的尺寸较大时,OLED阴极材料本身的电阻会造成电压下降,导致面板显示亮度下降。为解决此问题,需要降低阴极材料的电阻值。现有技术中,通常通过采用辅助阴极来降低阴极的电阻值。参见图1和图2所示,为现有技术中的一种有机发光显示面板的结构示意图,其中,图2为图1在过孔070处的剖面示意图。其中,现有技术在制作辅助阴极07时(具体可以由位于相邻像素03行之间间隙处的第一电极071以及位于相邻像素03列之间间隙的第二电极072交叉形成),一般在制作背板的膜层时,制作该辅助阴极07,例如,将辅助阴极07制作在像素定义层02之下,即,在背板之上先形成网格状的辅助阴极07,再在辅助阴极07之上形成像素定义层02,之后,形成有机发光层03以及阴极层04。在将阴极层04与辅助阴极07进行导通时,需采用激光工艺,去除局部有机发光层03,使阴极层0 ...
【技术保护点】
1.一种有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括:在基板之上依次形成发光层以及阴极层;在所述阴极层之上形成导电的刻蚀阻挡层;在所述刻蚀阻挡层之上形成第一封装层;通过刻蚀工艺,在所述第一封装层形成多个暴露所述刻蚀阻挡层的过孔;在所述第一封装层之上形成辅助阴极层,其中,所述辅助阴极层在所述过孔处通过所述刻蚀阻挡层与所述阴极层连接。
【技术特征摘要】
1.一种有机发光显示面板的制作方法,其特征在于,包括:在基板之上依次形成发光层以及阴极层;在所述阴极层之上形成导电的刻蚀阻挡层;在所述刻蚀阻挡层之上形成第一封装层;通过刻蚀工艺,在所述第一封装层形成多个暴露所述刻蚀阻挡层的过孔;在所述第一封装层之上形成辅助阴极层,其中,所述辅助阴极层在所述过孔处通过所述刻蚀阻挡层与所述阴极层连接。2.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在所述刻蚀阻挡层之上形成第一封装层,具体包括:在所述刻蚀阻挡层之上形成第一无机封装层。3.如权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述在所述刻蚀阻挡层之上形成第一无机封装层,具体包括:在所述刻蚀阻挡层之上形成氮化硅层。4.如权利要求2所述的制作方法,其特征在于,在所述第一封装层之上形成辅助阴极层之后,所述制作方法还包括:在所述辅助阴极层之上形成第二有机封装层;在所述第二有机封装层之上形成第三无机封装层。5.如权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述在阴极层之上形成导电...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙阔,王杨,皇甫鲁江,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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