【技术实现步骤摘要】
一种均匀场流的蚀刻装置
本专利技术涉及晶圆蚀刻装置
，尤其涉及一种均匀场流的蚀刻装置。
技术介绍
现有的晶圆蚀刻装置，如图1所示，包含反应槽100和溢流槽110，循环管路120，机械手臂130。机械手臂用于吊装晶圆，反应槽用于溶液蚀刻晶圆，晶圆蚀刻的时候需要流动的液体，称为场流。现有的做法是在反应槽底部补充溶液，从而使得反应槽内的溶液流动。多余的溶液会从反应槽的槽口流出，溢流槽用于收集流出的溶液并通过循环管路的抽取装置在抽到反应槽底部，实现溶液循环。现有的循环管路在反应槽底部一般是采用一个方形具有通孔的圆管140，这样射出的液体会在反应槽内不同的区域形成不同速度，使得场流不均匀，影响蚀刻品质。
技术实现思路
为此，需要提供一种均匀场流的蚀刻装置，解决现有蚀刻装置场流不均匀影响蚀刻品质问题。为实现上述目的，专利技术人提供了一种均匀场流的蚀刻装置，包括反应槽、入射单元、溢流槽、循环洁净单元，所述入射单元设置在反应槽的底部，入射单元包括入射管和反射罩，所述反射罩上表面为设置通孔的平面，反射罩通过通孔与反应槽连通，下表面为抛物面，所述入射管置于所述抛物面的抛物线所在的焦...
【技术保护点】
1.一种均匀场流的蚀刻装置，其特征在于：包括反应槽、入射单元、溢流槽、循环洁净单元，所述入射单元设置在反应槽的底部，入射单元包括入射管和反射罩，所述反射罩上表面为设置通孔的平面，反射罩通过通孔与反应槽连通，下表面为抛物面，所述入射管置于所述抛物面的抛物线所在的焦点处，所述入射管上设置有方向指向抛物面的入射孔，所述溢流槽设在反应槽外部的四周，循环洁净单元进液口与溢流槽底部连通，循环洁净单元出液口与入射管连通，循环洁净单元用于抽取并过滤溢流槽的液体。
【技术特征摘要】
1.一种均匀场流的蚀刻装置，其特征在于：包括反应槽、入射单元、溢流槽、循环洁净单元，所述入射单元设置在反应槽的底部，入射单元包括入射管和反射罩，所述反射罩上表面为设置通孔的平面，反射罩通过通孔与反应槽连通，下表面为抛物面，所述入射管置于所述抛物面的抛物线所在的焦点处，所述入射管上设置有方向指向抛物面的入射孔，所述溢流槽设在反应槽外部的四周，循环洁净单元进液口与溢流槽底部连通，循环洁净...
【专利技术属性】
技术研发人员：许孟凯，陈胜男，黄建顺，王嘉伟，林张鸿，林豪，林伟铭，
申请(专利权)人：福建省福联集成电路有限公司，
类型：发明
国别省市：福建,35
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