一种清洗机台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洗机台，包括升降机构，升降机构包括旋转轴和环绕旋转轴的支撑装置；保护罩，所述保护罩盖住所述支撑装置，使所述保护罩与所述支撑装置之间形成一封闭式空间，以保护所述升降机构。本实用新型专利技术的清洗机台在现有的基础上，增加一保护罩的设计，当在维护清洗机台，取出卡盘后，将所述保护罩盖住所述支撑装置，便能够避免酸碱性气体或结晶进入所述升降机构，阻止酸碱性气体或结晶对升降机构的腐蚀，从而提高升降机构的使用寿命，增加清洗机台的稼动率，降低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗机台
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种清洗机台。
技术介绍
清洗机台在半导体器件制程中使用的非常频繁，通常采用各种酸碱性溶液/气体对其进行清洗，以去除半导体器件表面的颗粒物或去除残胶等，从而保证半导体器件的良好性能。然而，在对清洗机台进行维护时，如更换用于承载晶圆的卡盘时，位于所述卡盘下方的升降机构就会暴露出来，如图1所示，图1中暴露出的升降机构包括：旋转轴10和环绕所述旋转轴的支撑装置11，则清洗机台中残留的酸碱环境(如酸碱性气体或酸碱性溶液形成的结晶)会腐蚀所述升降机构，从而影响升降机构的使用寿命，降低清洗机台的稼动率，增加半导体器件的生产成本，造成一定的经济损失。因此，有必要提供一种改进的清洗机台。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种清洗机台，以解决现有技术中在清洗机台维护时存在升降机构被腐蚀的问题，从而提高升降机构的使用寿命。为解决上述技术问题，本技术提供的清洗机台，包括：升降机构，所述升降机构包括旋转轴和环绕所述旋转轴的支撑装置；保护罩，所述保护罩盖住所述支撑装置，使所述保护罩与所述支撑装置之间形成一封闭式空间，以保护所述升降机构。进一步的，在所述清本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗机台，其特征在于，包括：升降机构，所述升降机构包括旋转轴和环绕所述旋转轴的支撑装置；保护罩，所述保护罩盖住所述支撑装置，使所述保护罩与所述支撑装置之间形成一封闭式空间，以保护所述升降机构。

【技术特征摘要】
1.一种清洗机台，其特征在于，包括：升降机构，所述升降机构包括旋转轴和环绕所述旋转轴的支撑装置；保护罩，所述保护罩盖住所述支撑装置，使所述保护罩与所述支撑装置之间形成一封闭式空间，以保护所述升降机构。2.如权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述支撑装置为圆形平台。3.如权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述保护罩的横截面为圆形。4.如权利要求3所述的清洗机台，其特征在于，所述保护罩的形状为半球形或桶形。5.如权利要求1所述的清洗机台，其特征在于，所述保护罩底部的尺寸等于或大于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘红伟，赵黎，刘家桦，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32