本实用新型专利技术公开了一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，它涉及硅片加工领域，它包含酸洗槽、喷气孔、搅动板、进气管、气道、流量阀、进气歧管和气罐，搅动板固定安装在酸洗槽内部槽底上，喷气孔均匀分布在搅动板上表面上，进气管分别位于搅动板两侧面上，气道位于酸洗槽内壁内部，流量阀固定安装在酸洗槽外侧面上端，进气歧管两端分别与流量阀和气罐连通。它通过将N2从所述搅动板上表面均匀冒出对酸液进行搅动，相比传统的机械搅拌的方式，搅拌更均匀，没有灰尘落入酸液中，不会产生电机转速过高引起花篮晃动比较大造成里面的硅片损伤或者损坏的问题，而且造价成本低，有效解决了传统的机械搅拌装置长时间使用后容易被酸液腐蚀的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置
：本技术涉及一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，属于硅片加工领域。
技术介绍
：目前将硅片上的铝去掉是在磷酸槽里通过化学反应去掉，但是在酸槽里反应的时候如果不去抖动花篮就会出现局部酸液的浓度不均匀而导致腐蚀速度不一致，从而使硅片上的有些地方腐蚀过快而钻蚀，有些地方又没有完全被腐蚀掉，引起花篮印、浮胶等质量问题。现有技术就是通过电机和一系列机械传动，利用夹具带动花篮按照一定规律抖动，这种方法在实际使用过程中仍存在诸多问题：1、整个装置在清洗酸槽上方，所用的材料必须是抗强酸强碱腐蚀的，否则时间一久就会被腐蚀掉；2、在抖动时偶尔会因为震动而灰尘或颗粒物掉到酸槽里造成玷污；3、因为所用的材料要求比较高，所以整个装置成本较高；4、花篮抖动的轨迹曲线很难符合实际生产的要求，因为电机转速过高的话花篮晃动比较大容易造成里面的硅片损伤或者损坏。
技术实现思路
：针对上述问题，本技术要解决的技术问题是提供一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置。本技术的一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，它包含酸洗槽、喷气孔、搅动板、进气管、气道、流量阀、进气歧管和气罐，搅动板固定安装在酸洗槽内部槽底上，喷气孔均匀分布在搅动板上表面上，进气管分别位于搅动板两侧面上，气道位于酸洗槽内壁内部，流量阀固定安装在酸洗槽外侧面上端，进气歧管两端分别与流量阀和气罐连通。作为优选，所述的搅动板为一内部中空的长方形壳体，这样设置，可以使N2均匀搅拌酸液。作为优选，所述的喷气孔在搅动板上表面呈矩形阵列分布；其中，每个喷气孔的直径为0.75毫米，相邻两个喷气孔之间的距离为7毫米，这样设置，可以使N2均匀搅拌酸液。作为优选，所述的喷气孔为通孔，其与搅动板内部连通，这样设置，保证N2进入搅动板后能够从喷气孔喷出。作为优选，所述的进气管与搅动板内部连通，其管径为10毫米，这样设置，保证N2能够快速进入搅动板内。作为优选，所述的气道数量有两条，两条气道下端分别与两个进气管连通，上端与两个流量阀连通，这样设置，保证N2能够同时从两个进气管进入搅动板内。作为优选，所述的进气歧管一端与两个流量阀入口连通，另一端与气罐出口连通，这样设置，方便调节两个进气管的进气量。本技术的有益效果：该N2射流处理硅片上的铝的反应装置通过将N2从所述搅动板上表面均匀冒出对酸液进行搅动，相比传统的机械搅拌的方式，搅拌更均匀，搅拌效果更好，没有灰尘落入酸液中，不会产生电机转速过高引起花篮晃动比较大造成里面的硅片损伤或者损坏的问题，而且造价成本低，有效解决了传统的机械搅拌装置长时间使用后容易被酸液腐蚀的问题。附图说明：为了易于说明，本技术由下述的具体实施及附图作以详细描述。图1为本技术的主视图的内部结构图；图2为本技术的右视图；图3为本技术的搅动板的俯视图；图4为本技术的图3的局部放大图。1-酸洗槽；2-喷气孔；3-搅动板；4-进气管；5-气道；6-流量阀；7-进气歧管；8-气罐。具体实施方式：如图1、图2、图3和图4所示，本具体实施方式采用以下技术方案：它包含酸洗槽1、喷气孔2、搅动板3、进气管4、气道5、流量阀6、进气歧管7和气罐8，搅动板3固定安装在酸洗槽1内部槽底上，喷气孔2均匀分布在搅动板3上表面上，进气管4分别位于搅动板3两侧面上，气道5位于酸洗槽1内壁内部，流量阀6固定安装在酸洗槽1外侧面上端，进气歧管7两端分别与流量阀6和气罐8连通。其中，所述的搅动板3为一内部中空的长方形壳体，这样设置，可以使N2均匀搅拌酸液；所述的喷气孔2在搅动板3上表面呈矩形阵列分布；其中，每个喷气孔2的直径为0.75毫米，相邻两个喷气孔2之间的距离为7毫米，这样设置，可以使N2均匀搅拌酸液；所述的喷气孔2为通孔，其与搅动板3内部连通，这样设置，保证N2进入搅动板3后能够从喷气孔2喷出；所述的进气管4与搅动板3内部连通，其管径为10毫米，这样设置，保证N2能够快速进入搅动板3内；所述的气道5数量有两条，两条气道5下端分别与两个进气管4连通，上端与两个流量阀6连通，这样设置，保证N2能够同时从两个进气管4进入搅动板3内；所述的进气歧管7一端与两个流量阀6入口连通，另一端与气罐8出口连通，这样设置，方便调节两个进气管4的进气量。本具体实施方式的工作原理为，通过气罐8向气道5内输入高压N2，N2的流量可通过流量阀6进行调节控制，N2经进气管4从搅动板3两端进入搅动板3内部，然后从喷气孔2向上喷出对酸液进行搅动。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，其特征在于：它包含酸洗槽(1)、喷气孔(2)、搅动板(3)、进气管(4)、气道(5)、流量阀(6)、进气歧管(7)和气罐(8)，搅动板(3)固定安装在酸洗槽(1)内部槽底上，喷气孔(2)均匀分布在搅动板(3)上表面上，进气管(4)分别位于搅动板(3)两侧面上，气道(5)位于酸洗槽(1)内壁内部，流量阀(6)固定安装在酸洗槽(1)外侧面上端，进气歧管(7)两端分别与流量阀(6)和气罐(8)连通。
【技术特征摘要】
1.一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，其特征在于：它包含酸洗槽(1)、喷气孔(2)、搅动板(3)、进气管(4)、气道(5)、流量阀(6)、进气歧管(7)和气罐(8)，搅动板(3)固定安装在酸洗槽(1)内部槽底上，喷气孔(2)均匀分布在搅动板(3)上表面上，进气管(4)分别位于搅动板(3)两侧面上，气道(5)位于酸洗槽(1)内壁内部，流量阀(6)固定安装在酸洗槽(1)外侧面上端，进气歧管(7)两端分别与流量阀(6)和气罐(8)连通。2.根据权利要求1所述的一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，其特征在于：所述的搅动板(3)为一内部中空的长方形壳体。3.根据权利要求1所述的一种N2射流处理硅片上的铝的反应装置，其特征在于：所述的喷气孔(2)在搅动板(3)上表面呈矩形阵列...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵杰，
申请(专利权)人：赵杰，
类型：新型
国别省市：贵州,52
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