The invention discloses a system for performing exposure processing, including an exposure chamber, a light source assembly, a projection assembly, a bearing platform, a fixed support, and a support frame; a light source assembly, a projection assembly and a support platform are all arranged in the exposure chamber; a light source assembly is used for generating exposure light; and a support member is arranged in the projection assembly. The supporting member is provided with the first and the second receiving components, the first and the second receiving components constitute the central axis of the oscillating motion of the lens, the first and the second receiving components are composed of the connecting part and the inserting shaft part, and the connecting part extends vertically upward from the upper surface of the plate-shaped part, and the inserting shaft part is a slender cylinder. The insertion shaft portion extends continuously with the front end of the coupling portion, and extends backward parallel to the plate portion. A circular contact portion protruding radially outward is formed near the front end of the insertion shaft portion. The invention can adjust the angle of the projection component in the system for carrying out the exposure processing.
【技术实现步骤摘要】
用于执行曝光处理的系统
本专利技术涉及曝光
,特别涉及一种用于执行曝光处理的系统。
技术介绍
传统的用于执行曝光处理的系统一般包括曝光光源和投影镜片,该曝光光源用于产生曝光光线,并将该曝光光线通过该投影镜片照射待进行曝光处理的器件。该投影镜片在上述传统的用于执行曝光处理的系统中的位置和角度一般是固定的,也就是说,该投影镜片无法改变其接收曝光光线或输出曝光光线的角度。当需要对具有斜面的显示器件或半导体器件进行曝光处理时,上述传统的用于执行曝光处理的系统无法向该具有斜面的显示器件或半导体器件输出正对该斜面的曝光光线,从而无法对待进行曝光处理的显示器件或半导体器件进行更优的曝光处理。故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于执行曝光处理的系统,其能调整投影组件在用于执行曝光处理的系统中的角度。为解决上述问题,本专利技术的技术方案如下:一种用于执行曝光处理的系统,所述用于执行曝光处理的系统包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件中的支撑构件具有安装台,所述安装台包括支承构件,所述支承构件的板状部的上表面设有第一接收部件、第二接收部件,所述第一接收部件、所述第二接收部件与所述投影组件的透镜连接,所述第一接收部件、所述第二接收部件构成所述透镜的摆动运动的中心轴,所述第一接收部件的下部设置在所述板状部的上表面的前端部,所述第二接收部件的上 ...
【技术保护点】
1.一种用于执行曝光处理的系统,其特征在于,所述用于执行曝光处理的系统包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件中的支撑构件具有安装台,所述安装台包括支承构件,所述支承构件的板状部的上表面设有第一接收部件、第二接收部件,所述第一接收部件、所述第二接收部件与所述投影组件的透镜连接,所述第一接收部件、所述第二接收部件构成所述透镜的摆动运动的中心轴,所述第一接收部件的下部设置在所述板状部的上表面的前端部,所述第二接收部件的上部设置在所述板状部的上表面的后端部;所述第一接收部件、所述第二接收部件由弯曲成L字形的棒状部件形成,所述第一接收部件、所述第二接收部件由联结部和插入轴部分构成,所述联结部是细长的圆柱状的部件,所述联结部从所述板状部的上表面垂直地向上方延伸;所述插入轴部分是细长的圆柱状的部件,所述插入轴部分与所述联结部的前端连续地延伸,并且与所述板状部平行地向后方延伸,所述插入轴部分的前端部附近形成有向径向外侧突出的环 ...
【技术特征摘要】
1.一种用于执行曝光处理的系统,其特征在于,所述用于执行曝光处理的系统包括曝光腔室、光源组件、投影组件、承载台、固定支撑件、支撑框架;所述光源组件、所述投影组件和所述承载台均设置于所述曝光腔室内;所述光源组件用于产生曝光光线,并用于将所产生的所述曝光光线输出至所述投影组件;所述投影组件中的支撑构件具有安装台,所述安装台包括支承构件,所述支承构件的板状部的上表面设有第一接收部件、第二接收部件,所述第一接收部件、所述第二接收部件与所述投影组件的透镜连接,所述第一接收部件、所述第二接收部件构成所述透镜的摆动运动的中心轴,所述第一接收部件的下部设置在所述板状部的上表面的前端部,所述第二接收部件的上部设置在所述板状部的上表面的后端部;所述第一接收部件、所述第二接收部件由弯曲成L字形的棒状部件形成,所述第一接收部件、所述第二接收部件由联结部和插入轴部分构成,所述联结部是细长的圆柱状的部件,所述联结部从所述板状部的上表面垂直地向上方延伸;所述插入轴部分是细长的圆柱状的部件,所述插入轴部分与所述联结部的前端连续地延伸,并且与所述板状部平行地向后方延伸,所述插入轴部分的前端部附近形成有向径向外侧突出的环状的接触部。2.根据权利要求1所述的用于...
【专利技术属性】
技术研发人员:不公告发明人,
申请(专利权)人:佛山尉达科技有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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