射束传送系统、曝光装置和曝光装置的照明光学系统制造方法及图纸

能够更加自由地设定曝光装置的照明面中的照明光的偏振方向。射束传送系统(121)向曝光装置(130)传送从自由电子激光装置(10)输出的进行线偏振的光束(L)，该射束传送系统(121)包含：光束分支部(50)，其将光束(L)分支成第1光束(L1)和第2光束(L2)；以及第1偏振方向旋转部(51)，其使第1光束(L1)的线偏振方向旋转。

Illumination optical system for beam delivery system, exposure device and exposure device

The polarization direction of the illumination light in the illumination plane of the exposure device can be set more freely. The beam transmission system (121) transmits a linearly polarized beam (L) output from the free electron laser device (10) to the exposure device (130), comprising a beam branch (50), which branches the beam (L) into a first beam (L1) and a second beam (L2), and a first polarized direction rotation section (51), which causes a line of the first beam (L1). Polarization rotation.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】射束传送系统、曝光装置和曝光装置的照明光学系统
本专利技术涉及曝光装置、曝光装置的照明光学系统以及从自由电子激光装置向曝光装置传送曝光用光束的系统。
技术介绍
近年来，伴随半导体工艺的细微化，半导体工艺的光刻中的转印图案的细微化急速发展。在新时代，要求20nm以下的细微加工。因此，例如为了应对20nm以下的细微加工的要求，期待如下曝光装置的开发，该曝光装置组合有生成波长为13.5nm的极端紫外(EUV)光的极端紫外光生成装置和缩小投射反射光学系统(ReducedProjectionReflectiveOptics)。作为EUV光生成装置，提出了使用通过对目标物质照射脉冲激光而生成的等离子体的LPP(LaserProducedPlasma：激光等离子体光源)式的装置、使用通过放电而生成的等离子体的DPP(DischargeProducedPlasma：放电激励型电浆光源)式的装置、使用从电子加速器输出的电子的自由电子激光(FreeElectronLaser)装置这3种装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2015-525906号公报专利文献2：日本特表2015-523720号公报专利文献3：日本特表2012-533729号公报专利文献4：日本特开2014-3290号公报专利文献5：美国公开专利说明书第2015/0323874号专利文献6：美国公开专利说明书第2015/0173163号
技术实现思路
本公开的一个方式的射束传送系统向曝光装置传送从自由电子激光装置输出的进行线偏振的光束，其中，所述射束传送系统包含：光束分支部，其将光束分支成第1光束和第2光束；以及第1偏振方向旋转部，其使第1光束的线偏振方向旋转。本公开的另一个方式的射束传送系统向曝光装置传送从自由电子激光装置输出的进行线偏振的光束，其中，所述射束传送系统包含：第1自由电子激光装置，其输出第1光束；第2自由电子激光装置，其输出第2光束；以及第1偏振方向旋转部，其使第1光束的线偏振方向旋转。另一方面，本公开的一个方式的曝光装置的照明光学系统通过由本公开的一个方式的曝光装置或本公开的另一个方式的射束传送系统传送的光束，对曝光装置的照明面进行照明，其中，所述照明光学系统包含：第1视野面镜，其被照射第1光束；第2视野面镜，其被照射第2光束；以及瞳面镜，其被照射经由第1视野面镜的第1光束和经由第2视野面镜的第2光束。附图说明作为简单的例子，下面参照附图对本公开的若干个实施方式进行说明。图1是示出例示的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略侧视图。图2是示出图1所示的照明光学系统的概略结构的立体图。图3是通过瞳面镜的状态说明照明光形状的一例的概略图。图4是通过瞳面镜的状态说明照明光形状的另一例的概略图。图5是通过瞳面镜的状态说明照明光形状的又一例的概略图。图6是示出作为比较例的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图7是通过瞳面镜的状态说明照明光的形状和线偏振方向的一例的概略图。图8是通过瞳面镜的状态说明照明光的形状和线偏振方向的另一例的概略图。图9是通过瞳面镜的状态说明照明光的形状和线偏振方向的又一例的概略图。图10是通过瞳面镜的状态说明照明光的形状和线偏振方向的优选的一例的概略图。图11是通过瞳面镜的状态说明照明光的形状和线偏振方向的优选的另一例的概略图。图12是示出实施方式1的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图13是示出图12的结构中使用的光束分支部的详细构造的侧视图。图14是示出图12的结构中使用的偏振方向旋转部的详细构造的侧视图。图15是示出图12的结构中使用的偏振方向旋转部的详细构造的主视图。图16是示出图15所示的偏振方向旋转部的另一个状态的主视图。图17是示出实施方式2的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图18是示出图17的结构中使用的光学脉冲展宽器的详细构造的侧视图。图19是示出实施方式3的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图20是示出图19的结构中使用的光束分支部的详细构造的侧视图。图21是示出图20所示的光束分支部的另一个状态的侧视图。图22是示出实施方式4的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图23是示出实施方式5的射束传送系统和曝光装置的照明光学系统的结构的概略图。图24是示出光束分支部的变形例1的侧视图。图25是示出光束分支部的变形例2的侧视图。图26是示出光束分支部的变形例2的俯视图。图27是示出偏振方向旋转部的变形例1的立体图。图28是示出图27的偏振方向旋转部的另一个状态的立体图。具体实施方式<目录>1.EUV曝光装置和射束传送系统的整体说明1.1结构1.2动作2.比较例2.1比较例的结构2.2比较例的动作2.3比较例的课题3.实施方式13.1实施方式1的结构3.2实施方式1的动作3.3实施方式1的作用、效果4.实施方式24.1实施方式2的结构4.2实施方式2的动作4.3实施方式2的作用、效果5.实施方式35.1实施方式3的结构5.2实施方式3的动作5.3实施方式3的作用、效果6.实施方式46.1实施方式4的结构6.2实施方式4的动作6.3实施方式4的作用、效果7.实施方式57.1实施方式5的结构7.2实施方式5的动作7.3实施方式5的作用、效果8.光束分支部的变形例18.1光束分支部的变形例1的结构8.2光束分支部的变形例1的动作8.3光束分支部的变形例1的作用、效果9.光束分支部的变形例29.1光束分支部的变形例2的结构9.2光束分支部的变形例2的动作10.偏振方向旋转部的变形例110.1偏振方向旋转部的变形例1的结构10.2偏振方向旋转部的变形例1的动作10.3偏振方向旋转部的变形例1的作用、效果下面，参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的若干个例子，并不对本公开的内容进行限定。并且，各实施方式中说明的结构和动作不一定全部必须作为本公开的结构和动作。另外，对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。1.EUV曝光装置和射束传送系统的整体说明1.1结构图1中概略地示出EUV曝光装置和从自由电子激光(FreeElectronLaser)装置向该EUV曝光装置传送曝光用光束的射束传送系统。另外，下面，将自由电子激光装置称为FEL装置。图1示出包含FEL装置10的射束传送系统21和EUV曝光装置30的概略侧面形状。在本公开中，从FEL装置10射出的光束的行进方向被定义为Z方向。并且，与载置FEL装置10的面平行且与Z方向垂直的方向被定义为H方向。而且，与Z方向和H方向垂直的方向被定义为V方向。另外，在FEL装置10和EUV曝光装置30的通常的使用状态下，H方向是水平方向，V方向是铅直方向。如图1所示，FEL装置10具有对要输出的脉冲激光的线偏振方向进行控制的波荡器11。由本实施方式的射束传送系统21传送的光束L是FEL装置10输出的脉冲激光。射束传送系统21包含腔室20、设置在该腔室20上的开口部22、同样设置在腔室20上的贯通孔23、配置在腔室20内的会聚镜24。从FEL装置10发出的光束L穿过开口部22而入射到腔室20内。优选该开口部22和FEL装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种射束传送系统，其向曝光装置传送从自由电子激光装置输出的进行线偏振的光束，其中，所述射束传送系统包含：光束分支部，其将所述光束分支成第1光束和第2光束；以及第1偏振方向旋转部，其使所述第1光束的线偏振方向旋转。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种射束传送系统，其向曝光装置传送从自由电子激光装置输出的进行线偏振的光束，其中，所述射束传送系统包含：光束分支部，其将所述光束分支成第1光束和第2光束；以及第1偏振方向旋转部，其使所述第1光束的线偏振方向旋转。2.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述射束传送系统还包含第2偏振方向旋转部，该第2偏振方向旋转部使所述第2光束的线偏振方向旋转。3.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述光束分支部包含斜入射高反射镜，该斜入射高反射镜配置成使所述光束倾斜入射的状态，该斜入射高反射镜使该光束的一部分进行反射。4.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述光束分支部包含配置位置能够变更的可动斜入射高反射镜，该可动斜入射高反射镜能够选择性地采取第1状态、第2状态和第3状态中的一个状态，所述第1状态是所述光束全部倾斜入射并且使该光束全部进行反射的状态，所述第2状态是从所述光束的光路退出的状态，所述第3状态是所述光束的一部分倾斜入射并且使该光束的一部分进行反射的状态。5.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述光束分支部包含楔形状斜入射高反射镜，该楔形状斜入射高反射镜形成为楔形状，具有从楔形的前端分开的2个反射面，该楔形状斜入射高反射镜配置成使所述光束分别在所述2个反射面进行反射的状态。6.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述光束分支部包含光栅，该光栅具有使所入射的所述光束L进行衍射的衍射面，该光栅将进行衍射后的+1次衍射光设为所述第1光束，将进行衍射后的-1次衍射光设为所述第2光束。7.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述第1偏振方向旋转部使所述第1光束的线偏振方向旋转成如下状态：在所述曝光装置的照明面上，所述第1光束的线偏振方向相对于所述第2光束的线偏振方向呈90°的角度。8.根据权利要求1所述的射束传送系统，其中，所述第1偏振方向旋转部和/或所述第2偏振方向旋转部使所述光束多次进行反射，由此使所述光束的线偏振方向旋转。9.根据权利要求8所述的射束传送系统，其中，所述第1偏振方向旋转部和/或所述第2偏振方向旋转部包含：第1高反射镜，其使所述光束进行反射；第2高反射镜，其使在所述第1高反射镜进行反射后的光束进行反射；第3高反射镜，其使在所述第2高反射镜进行反射后的光束进行反射；以及旋转部件，其保持所述第1高反射镜、第2高反射镜和第3高反射镜，绕旋转中心进行旋转，该旋转部件配置成入射到所述第1高反射镜之前的所述光束在所述旋转中心上行进的状态。10.根据权利要求8所述的射束传送系统，其中，所述第1偏振方向旋转部和/或所述第2偏振方向旋转部包含：第1高反射镜，其能够使所述光束向第1反射方向进行反射；第2高反射镜...

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木章义，若林理，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP