气体激光装置和电子器件的制造方法制造方法及图纸

气体激光装置具有：激光振荡器，其输出激光；以及激光放大器，其对激光进行放大而输出放大激光。激光放大器包含：放电腔，其在内部具有用于发生放电的一对电极；输入耦合光学系统，其使激光的至少一部分朝向放电腔透过；以及输出耦合光学系统，其与输入耦合光学系统一起构成光谐振器，使透过输入耦合光学系统和放电腔后的激光的至少一部分透过，而输出放大激光。输入耦合光学系统的与放电的方向垂直的第1方向的第1焦点和输出耦合光学系统的第1方向的第2焦点在输入耦合光学系统与输出耦合光学系统之间一致。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及气体激光装置和电子器件的制造方法。

技术介绍

1、近年来，在半导体曝光装置中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源发射的光的短波长化得以发展。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长大约为248nm的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长大约为193nm的激光的arf准分子激光装置。

2、krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡光的谱线宽度较宽，大约为350～400pm。因此，在利用使krf和arf激光这种紫外线透过的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，在气体激光装置的激光谐振器内，为了使谱线宽度窄带化，有时具有包含窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(line narrowing module：lnm)。下面，将谱线宽度被窄带化的气体激光装置称为窄带化激光装置。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2012-15653本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气体激光装置，其具有：

2.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

3.根据权利要求2所述的气体激光装置，其中，

4.根据权利要求2所述的气体激光装置，其中，

5.根据权利要求4所述的气体激光装置，其中，

6.根据权利要求4所述的气体激光装置，其中，

7.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

8.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

9.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

10.根据权利要求9所述的气体激光装置，其中，

11.根据权利要求1所述的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种气体激光装置，其具有：

2.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

3.根据权利要求2所述的气体激光装置，其中，

4.根据权利要求2所述的气体激光装置，其中，

5.根据权利要求4所述的气体激光装置，其中，

6.根据权利要求4所述的气体激光装置，其中，

7.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

8.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

9.根据权利要求1所述的气体激光装置，其中，

10.根据权利要求9所述的气体激光装置，其中，

11.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤卷洋介，
申请(专利权)人：极光先进雷射株式会社，
类型：发明
国别省市：