用于光刻设备的液滴发生器、EUV源和光刻设备制造技术

液滴发生器，诸如在EUV辐射源中使用，以及相关的EUV辐射源和光刻设备。液滴发生器可以包括用于发射燃料作为液滴的喷嘴组件，喷嘴组件处于与液滴发生器内的燃料压力基本上相同的压力下的加压环境内。液滴发生器可以包括致动器，致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠泵室被偏置，偏置机构具有抵靠致动器被偏置的致动器支撑件。致动器作用于泵室内的燃料以产生液滴。致动器支撑件具有与其周围结构相比具有更大的热膨胀系数的材料，使得其在环境温度下在周围结构内可移动，但是在操作温度下抵靠周围结构膨胀，以便在操作温度下将致动器支撑件抵靠周围结构夹紧。

Droplet generator, EUV source and lithography equipment for lithography equipment

Droplet generators, such as those used in EUV emitter, and related EUV emitter and lithography equipment. The droplet generator may include a nozzle assembly for firing fuel as droplets, which is in a pressurized environment at substantially the same pressure as the fuel pressure in the droplet generator. The droplet generator may include an actuator that contacts the pump chamber and is biased against the pump chamber by means of a bias mechanism having an actuator support against which the actuator is biased. The actuator acts on the fuel in the pump room to produce droplets. The actuator support has a material with a greater thermal expansion coefficient than its surrounding structure, making it movable in the surrounding structure at ambient temperature, but expands against the surrounding structure at operating temperature to clamp the actuator support against the surrounding structure at operating temperature.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光刻设备的液滴发生器、EUV源和光刻设备相关申请的交叉引用本申请要求于2015年12月17日提交的美国申请62/268,937以及于2016年11月1日提交的美国申请62/416,027的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
本说明书涉及光刻设备，并且具体地涉及用于光刻设备内的EUV源或用于光刻设备的液滴发生器。
技术介绍
光刻设备是一种将期望的图案施加到衬底上、通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可以使用替代地称为掩模或掩模版的图案化装置来生成待形成在IC的单独层上的电路图案。该图案可以被转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个管芯或若干管芯的部分)上。图案的转移通常是经由到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上的成像来实现的。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。光刻技术被广泛认为是IC和其他器件和/或结构的制造中的关键步骤之一。然而，随着使用光刻制作的特征的尺寸变得更小，光刻正在成为使得能够制造微型IC或其他器件和/或结构的更加关键的因素。图案印刷的极限的理论估计可以通过如等式(1)中所示的用于分辨率的瑞利准则来给出：其中λ是所使用的辐射的波长，NA是用于印刷图案的投影系统的数值孔径，k1是与工艺相关的调节因子，也称为瑞利常数，并且CD是印刷的特征的特征尺寸(或临界尺寸)。从等式(1)得出，特征的最小可打印尺寸的减小可以通过三种方式来获取：缩短曝光波长λ，增加数值孔径NA，或者减小k1的值。为了缩短曝光波长并且因此减小最小可印刷尺寸，已经提出了使用极紫外(EUV)辐射源。EUV辐射是波长在5至20nm范围内、例如在13至14nm范围内的电磁辐射。还已经提出了可以使用波长小于10nm、例如在5至10nm的范围内、诸如6.7nm或6.8nm的EUV辐射。这样的辐射被称为极紫外辐射或软x射线辐射。可能的来源包括例如激光产生的等离子体源、放电等离子体源或基于由电子存储环提供的同步辐射的辐射源。EUV辐射可以使用等离子体来产生。用于产生EUV辐射的辐射系统可以包括用于激励燃料以提供等离子体的激光器和用于容纳等离子体的源收集器设备。例如，等离子体可以通过将激光束引导到燃料(诸如合适材料(例如，锡)的颗粒、或者合适的气体或蒸汽(诸如Xe气体或Li蒸气)的流)来产生。所产生的等离子体发射输出辐射，例如EUV辐射，输出辐射使用辐射收集器来被收集。辐射收集器可以是镜面法向入射辐射收集器，镜面法向入射辐射收集器接收辐射并且将辐射聚焦成束。源收集器设备可以包括被布置为提供真空环境以支撑等离子体的封闭结构或腔室。这样的辐射系统通常被称为激光产生等离子体(LPP)源。
技术实现思路
所提出的LPP辐射源生成连续的燃料液滴流。辐射源包括用于将燃料液滴引向等离子体形成位置的液滴发生器。可能期望使用驱动气体压力来驱动来自储存器的燃料通过喷嘴，该驱动气体压力大于现有液滴发生器设计所能实现的。在一个方面，提供了一种用于光刻系统的液滴发生器，液滴发生器可操作为接收以燃料压力被加压的燃料，液滴发生器包括可操作为以液滴形式发射燃料的喷嘴组件，其中喷嘴组件处于加压环境内，或者其中喷嘴组件基本上处于加压环境内，加压环境基本上以与燃料压力相同的压力被加压。在一个方面，提供了一种用于光刻系统的液滴发生器，液滴发生器可操作为以液滴形式从喷嘴发射出燃料并且包括致动器，致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠泵室被偏置，偏置机构包括抵靠致动器被偏置的致动器支撑件，致动器可操作为作用于泵室内的燃料以便引起燃料的分裂使得燃料作为液滴从喷嘴输出，其中致动器支撑件由与其周围结构相比具有更大的热膨胀系数的材料组成，使得其在环境温度下在周围结构内可移动，但是在液滴发生器的操作温度下抵靠周围结构膨胀，以便在操作温度下将致动器支撑件抵靠周围结构夹紧。在一个方面，提供了一种用于光刻系统的液滴发生器，液滴发生器可操作为以液滴形式从喷嘴发射出燃料并且包括致动器，致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠泵室被偏置，偏置机构包括抵靠致动器被偏置的致动器支撑件，致动器可操作为作用于泵室内的燃料以便引起燃料的分裂使得燃料作为液滴从喷嘴输出，其中致动器支撑件由第一部分和第二部分组成，第一部分和第二部分通过铰接接头分开以允许第一部分与第二部分之间的旋转运动以便实现致动器支撑件和致动器的接触表面的平行对准。在一个方面，提供了一种用于光刻系统的液滴发生器，液滴发生器可操作为以液滴形式从喷嘴发射出燃料并且包括致动器，致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠泵室被偏置，偏置机构包括抵靠致动器被偏置的致动器支撑件，致动器可操作为作用于泵室内的燃料以便引起燃料的分裂使得燃料作为液滴从喷嘴输出，其中喷嘴在燃料从喷嘴的排出方向上发散或会聚。在一个方面，提供了一种制造用于液滴发生器的喷嘴板的方法，该方法包括使用激光烧蚀来制造穿过材料板的孔口以至少部分地形成喷嘴板的喷嘴。在一个方面，提供了一种制造用于液滴发生器的喷嘴板的方法，该方法包括使用利用硬掩模的电感耦合等离子体蚀刻来制造穿过材料板的孔口以形成喷嘴板的喷嘴。在一个方面，提供了一种用于光刻系统的液滴发生器，液体发生器可操作为以液滴形式从喷嘴发射出燃料并且包括致动器，致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠泵室被偏置，偏置机构包括被配置为使致动器移位以使致动器与泵室之间的膜变形的多个楔形件，其中多个楔形件中的至少一个楔形件相对于多个楔形件中的另一楔形件以滑动方式可移位，并且致动器可操作为作用于泵室内的燃料以便引起燃料的分裂使得燃料作为液滴从喷嘴输出。在一个方面，提供了一种EUV辐射源，其包括：如本文中描述的液滴发生器，被配置为朝向等离子体生成位置生成燃料的液滴；以及激光器，被配置为将激光辐射引导到等离子体形成位置处的液滴以在使用时生成辐射生成等离子体；并且还提供了一种包括这样的液滴发生器的光刻设备。下面参考附图详细描述其他特征和优点以及各种实施例的结构和操作。注意，本专利技术不限于本文中描述的具体实施例。本文中仅出于说明的目的呈现这样的实施例。基于本文中包含的教导，其他实施例对于相关领域的技术人员将是很清楚的。附图说明并入本文中并且构成说明书一部分的附图示出了本专利技术，并且与说明书一起进一步用于解释本专利技术的原理并且使得相关领域的技术人员能够制造和使用本专利技术。参考附图，仅作为示例描述本专利技术的实施例，在附图中：图1示意性地描绘了具有反射投影光学器件的光刻设备；图2是图1的设备的更详细视图；图3在第一截面中示意性地描绘了根据一个实施例的被配置为沿着朝向等离子体形成位置的轨迹来引导燃料液滴流的辐射源的液滴发生器；图4在通过与第一截面的平面垂直的平面的第二截面中示意性地描绘了图3的液滴发生器；图5示意性地描绘了在其壳体内并且耦合到燃料供应储存器的图3和图4的液滴发生器；图6A示意性地描绘了沿着图6B的线A-A的喷嘴结构的截面视图；图6B示意性地描绘了喷嘴结构的俯视图；图6C示意性地描绘了喷嘴结构的仰视图；图7示意性地描绘了在图6A至图6C中描绘的配置中的喷嘴的特写截面视图；图8示意性地描绘了在与图6A至图6C中所示的不同的配置中的喷嘴的特写截面视图；图9在第一截面中示意性地描本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于光刻系统的液滴发生器，所述液滴发生器可操作为接收以燃料压力被加压的燃料，所述液滴发生器包括可操作为以液滴形式发射所述燃料的喷嘴组件，其中所述喷嘴组件处于或基本上处于加压环境内，所述加压环境基本上以与所述燃料压力相同的压力被加压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.17 US 62/268,937;2016.11.01 US 62/416,0271.一种用于光刻系统的液滴发生器，所述液滴发生器可操作为接收以燃料压力被加压的燃料，所述液滴发生器包括可操作为以液滴形式发射所述燃料的喷嘴组件，其中所述喷嘴组件处于或基本上处于加压环境内，所述加压环境基本上以与所述燃料压力相同的压力被加压。2.根据权利要求1所述的液滴发生器，其中所述液滴发生器内的整个燃料路径处于所述加压环境内。3.根据权利要求2所述的液滴发生器，其中所述液滴发生器被容纳在壳体内，并且所述壳体的内部基本上以与所述燃料压力相同的压力被加压。4.根据权利要求1、2或3所述的液滴发生器，其中所述燃料和所述加压环境各自通过相同的压力下的加压气体供应来被加压。5.根据权利要求4所述的液滴发生器，其中所述燃料和所述加压燃料环境各自通过相同的加压气体供应来被加压。6.根据权利要求4或5所述的液滴发生器，其中所述加压气体供应包括氩。7.根据权利要求4、5或6所述的液滴发生器，其中所述喷嘴组件包括喷嘴、泵室和管道，所述泵室内的燃料由致动器致动，所述管道连接所述泵室和所述致动器。8.根据权利要求7所述的液滴发生器，包括所述致动器，所述致动器与所述泵室接触并且借助于偏置机构抵靠所述泵室被偏置，所述偏置机构包括抵靠所述致动器被偏置的致动器支撑件，所述致动器可操作为作用于所述泵室内的所述燃料以便引起所述燃料的分裂使得所述燃料作为液滴从所述喷嘴输出，其中加压气体被引入所述致动器和所述泵室的接触表面之间、以及所述致动器和所述致动器支撑件的接触表面之间。9.一种用于光刻系统的液滴发生器，所述液滴发生器可操作为以液滴形式从喷嘴发射出燃料并且包括致动器，所述致动器与泵室接触并且借助于偏置机构抵靠所述泵室被偏置，所述偏置机构包括抵靠所述致动器被偏置的致动器支撑件，所述致动器可操作为作用于所述泵室内的所述燃料以便引起所述燃料的分裂使得所述燃料作为液滴从所述喷嘴输出，其中所述致动器支撑件由与其周围结构相比具有更大的热膨胀系数的材料组成，使得其在环境温度下在所述周围结构内可移动，但是在所述液滴发生器的操作温度下抵靠所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：J·F·迪杰克斯曼，B·L·W·M·范德文，K·G·温克尔斯，T·W·德赖森，G·O·瓦申科，P·M·鲍姆加特，W·H·T·M·安格南特，J·O·纽文坎普，W·R·坎平加，J·劳特萨莱南，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL