The present invention relates to a device for making the surface of a substrate undergo a surface reaction of at least a first precursor and a second precursor according to the principle of atomic layer deposition. The device comprises a reaction chamber (1) forming a reaction space (2) for receiving a precursor gas reacting on the surface of the substrate. The device also includes a substrate support (3) for holding the substrate; a dielectric plate (4); and an electrode (7) coupled to a voltage source (8) to induce voltage on the electrode (7), thereby generating discharge to the reaction space (2). The dielectric plate (4) is arranged between the substrate support (3) and the electrode (7), and such a reaction space (2) is arranged between the substrate support (3) and the dielectric plate (4).
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于原子层沉积的装置专利
本专利技术涉及一种用于根据原子层沉积原理使基底的表面经历至少第一前体和第二前体的表面反应的装置,并且更具体地涉及如独立权利要求1的前序部分中所定义的装置。专利技术背景原子层沉积(ALD)按照惯例是在处于真空条件下的反应腔室中进行。首先将一个或多个基底装载到反应腔室中,然后将反应腔室抽真空并将反应腔室内的反应空间加热到处理温度。然后通过将至少第一气体前体和第二气体前体交替并重复地供应到反应腔室中来进行原子层沉积,以便在基底的表面上提供具有所需厚度的涂层。将第一前体和第二前体供应到反应腔室中的一个完整ALD循环包括:将第一前体的脉冲流供应到反应腔室中,从反应腔室中吹扫掉第一前体,将第二前体的脉冲流供应到反应腔室中并从反应腔室中吹扫掉第二前体。吹扫前体可包括从反应腔室中排出前体材料,将吹扫气体如氮气供应到反应腔室中并排出吹扫气体。当达到所要的ALD循环次数并由此达到所要的涂层厚度时,将反应腔室中的真空排空并且将基底从反应腔室中卸载下来。然后对接下来的基底重复相同的过程。可以通过将等离子体施加到沉积循环中来修改ALD涂覆,这称为等离子体增强的ALD。等离子体可电容性地耦合以使得两个电极被放置成彼此相距很小的距离,其中一个电极连接至RF电源而另一个电极接地。RF电源耦合到处理室中的电极以产生离子和/或自由基和反应性原子。等离子体也可电感性地耦合或通过ECR耦合。在ALD过程中通常会出现的一个问题是,在ALD处理过程中在用前体涂覆基底表面的同时,反应腔室的其他表面也被涂覆。为了在处理中保持良好的质量,必须间隔地清洁反应腔室的表面。当ALD ...
【技术保护点】
1.一种用于根据原子层沉积原理使基底的表面经历至少第一前体和第二前体的表面反应的装置,所述装置包括:‑反应腔室(1),所述反应腔室形成反应空间(2)以用于接收在所述基底的所述表面上反应的前体气体,‑基底支撑件(3),所述基底支撑件用于固持所述基底,‑介电板(4),以及‑电极(7),所述电极耦合到电压源(8)以在所述电极(7)上感应出电压,从而向所述反应空间(2)产生放电,‑所述介电板(4)布置在所述基底支撑件(3)与所述电极(7)之间,使得所述反应空间(2)布置在所述基底支撑件(3)与所述介电板(4)之间,所述基底支撑件(3)能在竖直方向上移动,以使所述基底(1)在所述反应腔室(1)处于关闭状态的处理位置与所述反应腔室(1)处于打开状态的装载位置之间移动,所述装置的特征在于:所述介电板(4)能与所述基底支撑件(3)一起在所述处理位置与所述装载位置之间移动。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.10 FI 201650991.一种用于根据原子层沉积原理使基底的表面经历至少第一前体和第二前体的表面反应的装置,所述装置包括:-反应腔室(1),所述反应腔室形成反应空间(2)以用于接收在所述基底的所述表面上反应的前体气体,-基底支撑件(3),所述基底支撑件用于固持所述基底,-介电板(4),以及-电极(7),所述电极耦合到电压源(8)以在所述电极(7)上感应出电压,从而向所述反应空间(2)产生放电,-所述介电板(4)布置在所述基底支撑件(3)与所述电极(7)之间,使得所述反应空间(2)布置在所述基底支撑件(3)与所述介电板(4)之间,所述基底支撑件(3)能在竖直方向上移动,以使所述基底(1)在所述反应腔室(1)处于关闭状态的处理位置与所述反应腔室(1)处于打开状态的装载位置之间移动,所述装置的特征在于:所述介电板(4)能与所述基底支撑件(3)一起在所述处理位置与所述装载位置之间移动。2.根据权利要求1所述的装置,其中所述反应腔室(1)由彼此连接的表面形成,...
【专利技术属性】
技术研发人员:P·索伊尼宁,M·索德兰德,P·蒂莫宁,
申请(专利权)人:倍耐克有限公司,
类型:发明
国别省市:芬兰,FI
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