防水罩和晶圆处理装置制造方法及图纸

一种防水罩和一种晶圆处置装置，所述防水罩用于放置于晶圆处理腔室上方，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔，所述晶圆处理腔室上方具有一红外测温仪，所述红外测温仪用于向晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于窥视孔的光路，所述防水罩包括：竖直水挡，竖直水挡中部漏空，用于放置于所述窥视孔的四周，使所述窥视孔位于所述竖直水挡的漏空处底部；横向水挡，所述横向水挡包括倾斜部和水平部，所述横向水挡固定于所述竖直水挡中部漏空处顶部，当所述防水罩放置于所述晶圆处理腔室上方时，所述横向水挡遮盖所述窥视孔，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。这种防水罩能够阻止水滴溅入窥视孔，提升晶圆处理效率和质量。

Waterproof cover and wafer treatment device

A waterproof cover and a wafer disposal device are used for placing in a wafer processing chamber with a peep hole at the top of the wafer processing chamber, which has an infrared thermometer above the wafer processing chamber. The infrared thermometer is used to transmit infrared light to a wafer processing chamber. The waterproof cover includes a vertical water shield and a vertical drain in the middle of the water block, which is placed around the peep hole, so that the peep hole is located at the bottom of the leak at the vertical water gear, and the transverse water shield is fixed on the vertical water and the horizontal water gear is fixed to the vertical water. When the waterproof cover is placed above the wafer processing chamber, the transverse water shield covers the peep hole, which corresponds to the position of the light path, and the inclined part is a transparent structure. This kind of waterproof cover can prevent water droplets splash into the peephole and improve the efficiency and quality of wafer treatment.

【技术实现步骤摘要】
防水罩和晶圆处理装置
本技术涉及气相化学外延设备领域，尤其涉及一种防水罩和晶圆处理装置。
技术介绍
硅外延通常是通过气相化学沉积的方式，在硅抛光片的表面生长一层指定膜厚与电阻率的硅单晶层。在石英质平板式反应腔体中，硅片贴附在基座表面，与外延反应气体，在高温下发生化学反应。反应期间需要监控反应过程中的反应温度，采用固定式红外测温仪，透过反应腔体的窥视孔，采集反应腔体内硅片的温度实现。在反应期间，反应腔体浸泡于水槽内，反应腔体周围布有循环水，循环水采用顶部洒水、底部出水的方式。在顶部洒水的过程中，由于水量控制不均的问题，容易在洒水过程中，有水滴溅射进入窥视孔，从而挡住测温仪的光路，使入射光发生折射，使监控到的温度信息不准确。而温度是气相化学沉积过程中的重要控制指标，如果温度稍有偏差，最终将会导致硅片外延层的厚度降低，影响其品质。现今，为避免水滴溅射进入窥视孔，请参考图1，为现有技术的晶圆处理装置的俯视图，在反应腔体制备时，在窥视孔101四周加装竖直水挡102，同时竖直水挡102采用不规则造型，将可能溅射入水的区域做加高处理。然而在实际应用中，由于洒水盘的堵塞或流量变动，会导致个别喷水孔水流异常，溅射的水花很容易越过竖直水挡102进入窥视孔101，使其功效减弱。同时，由于竖直型的水挡设计，在实际石英加工过程中非常困难，也使得当前技术转型较难。因此，需要提供一种防水罩，避免水滴溅入窥视孔内，使测温仪能够正常通过窥视孔测量温度。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是，提供一种防水罩和一种晶圆处理装置。为了解决上述问题，本技术提供了一种防水罩，用于放置于晶圆处理腔室上方，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔，所述晶圆处理腔室上方具有一红外测温仪，所述红外测温仪用于向所述晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于所述窥视孔的光路，光路所述防水罩包括：竖直水挡，所述竖直水挡中部漏空，用于放置于所述窥视孔的四周，使所述窥视孔位于所述竖直水挡的漏空处底部；横向水挡，所述横向水挡包括倾斜部和水平部，所述横向水挡固定于所述竖直水挡漏空处顶部，当所述防水罩放置于所述晶圆处理腔室上方时，所述横向水挡遮盖所述窥视孔，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。可选的，所述横向水挡的材料为石英。可选的，所述横向水挡包括：一个倾斜部和两个水平部，所述倾斜部衔接两个水平部。可选的，所述倾斜部与所述水平部的夹角为120度至150度。可选的，所述防水罩为一体成型结构或者所述竖直水挡与横向水挡为分体结构且相互之间固定连接。本专利技术还提供一种晶圆处理装置，包括：晶圆处理腔室，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔；红外测温仪，用于向所述晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于所述窥视孔的光路；防水罩，所述防水罩包括竖直水挡和横向水挡，放置于所述晶圆处理腔室上方，所述竖直水挡位于所述窥视孔四周边缘，所述竖直水挡中部漏空，所述窥视孔位于所述竖直水挡的漏空处底部，所述横向水挡固定于所述竖直水挡漏空处顶部，所述横向水挡遮盖所述窥视孔；所述横向水挡包括倾斜部和水平部，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。可选的，还包括：基座，位于所述窥视孔下方，用于放置晶圆。可选的，所述横向水挡的材料为石英。可选的，所述横向水挡包括：一个倾斜部和两个水平部，所述倾斜部衔接两个水平部。可选的，所述倾斜部与所述水平部的夹角为120度至150度。本技术的防水罩，包括竖直水挡和横向水挡，当防水罩放置于晶圆处理腔室上方时，竖直水挡能够包围窥视孔，使窥视孔位于竖直水挡的中部漏空处底部，横向水挡固定于竖直水挡的中部漏空处顶部，遮盖窥视孔。该防水罩保证不会有水滴或者其他物质进入窥视孔中，且横向水挡具有一斜面，斜面与晶圆处理腔室的光路相对应，从而保证不会有水滴停留在斜面上阻挡光路的通透，使晶圆反应能够正常进行。本技术的晶圆处理装置，具有窥视孔、光路和防水罩，光路垂直于窥视孔，防水罩位于窥视孔上方，竖直水挡包围窥视孔，窥视孔位于竖直水挡中部漏空处底部，横向水挡固定于竖直水挡的中部漏空处顶部，遮盖窥视孔。从而保证不会有水滴或者其他物质进入窥视孔中，且横向水挡具有一斜面，斜面与晶圆处理腔室的光路位置相对应，从而保证不会有水滴停留在斜面上阻挡光路的通透，使晶圆反应能够正常进行。附图说明图1为本技术晶圆处理腔室的俯视图；图2为本技术一具体实施方式的防水罩的结构示意图；图3为本技术一具体实施方式的防水罩的俯视图；图4为本技术一具体实施方式的横向水挡的结构示意图；图5为本技术一具体实施方式的晶圆处理装置的剖面示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术提供的防水罩和晶圆处理装置的具体实施方式做详细说明。请参考图2，为本技术一具体实施方式的防水罩的结构示意图。一种防水罩，用于放置于晶圆处理腔室上方，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔，所述晶圆处理腔室上方具有一红外测温仪，所述红外测温仪用于向所述晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于所述窥视孔的光路，所述防水罩包括：竖直水挡202，所述竖直水挡202中部漏空，用于放置于所述窥视孔的四周，使所述窥视孔位于所述竖直水挡202的漏空处底部；横向水挡201，所述横向水挡201包括倾斜部和水平部，所述横向水挡201固定于所述竖直水挡202中部漏空处顶部，当所述防水罩放置于所述晶圆处理腔室上方时，所述横向水挡201遮盖所述窥视孔，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。窥视孔位于晶圆处理腔室顶部，在一具体实施方式中，红外测温仪通过红外光采集晶圆的温度，红外测温仪与晶圆之间形成光路，晶圆处理腔室位于一水槽内，水槽内部为循环水，水槽上方有一洒水器向水槽中洒水，而洒水器洒水过程时，水滴容易溅入窥视孔中，当水滴溅入窥视孔的光路经过的位置时，入射光发生折射，会影响光路的通透性，导致红外测温仪所测量的温度不准确，因此晶圆处理腔室需在其上方添加防水罩。当防水罩放置于晶圆处理腔室上方时，竖直水挡202位于窥视孔四周边缘，在一具体实施方式中，竖直水挡202为不规则造型，具有两种高度，在更易有水滴溅入窥视孔的位置，竖直水挡202更高，避免一般情况下的水滴溅射。竖直水挡202为中部漏空，当洒水器堵塞或流量变动时，溅射的水花容易越过竖直水挡202，溅入窥视孔中。请参考图3，为本专利技术一具体实施方式的防水罩的俯视图，横向水挡201固定于竖直水挡202中部漏空处顶部，遮盖窥视孔，使任何情况下的洒水器喷洒的水滴都无法溅入窥视孔中。其中，横向水挡可与竖直水挡的内壁完全贴合，或者与竖直水挡两侧顶部留有一定的空隙，既不会影响横向水挡的功能，且易于制作横向水挡。在一具体实施方式中，所述防水罩为一体成型结构或者所述竖直水挡202与横向水挡201为分体结构且相互之间固定连接。横向水挡201包括水平部和倾斜部，倾斜部与晶圆处理腔室的光路位置相对应，若有水滴溅入倾斜部上，因倾斜部与水平部之间具有高度差，因此水滴会沿着倾斜部流入横向水挡201的水平部，从而保护光路的通透。在本具体实施方式中，请参考图4，横向水挡201由一个倾斜部401、水平部402A与水平部402B组成，倾斜部401衔接水平部402A和水平部402B，从而更便于横向水本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防水罩，用于放置于晶圆处理腔室上方，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔，所述晶圆处理腔室上方具有一红外测温仪，所述红外测温仪用于向所述晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于所述窥视孔的光路，其特征在于，所述防水罩包括：竖直水挡，所述竖直水挡中部漏空，用于放置于所述窥视孔的四周，使所述窥视孔位于所述竖直水挡的漏空处底部；横向水挡，所述横向水挡包括倾斜部和水平部，所述横向水挡固定于所述竖直水挡漏空处顶部，当所述防水罩放置于所述晶圆处理腔室上方时，所述横向水挡遮盖所述窥视孔，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。

【技术特征摘要】
1.一种防水罩，用于放置于晶圆处理腔室上方，所述晶圆处理腔室顶部具有一窥视孔，所述晶圆处理腔室上方具有一红外测温仪，所述红外测温仪用于向所述晶圆处理腔室内发射红外光，形成一垂直于所述窥视孔的光路，其特征在于，所述防水罩包括：竖直水挡，所述竖直水挡中部漏空，用于放置于所述窥视孔的四周，使所述窥视孔位于所述竖直水挡的漏空处底部；横向水挡，所述横向水挡包括倾斜部和水平部，所述横向水挡固定于所述竖直水挡漏空处顶部，当所述防水罩放置于所述晶圆处理腔室上方时，所述横向水挡遮盖所述窥视孔，所述倾斜部与所述光路位置相对应，所述倾斜部为透明结构。2.根据权利要求1所述的防水罩，其特征在于，所述横向水挡的材料为石英。3.根据权利要求1所述的防水罩，其特征在于，所述横向水挡包括：一个倾斜部和两个水平部，所述倾斜部衔接两个水平部。4.根据权利要求1所述的防水罩，其特征在于，所述倾斜部与所述水平部的夹角为120度至150度。5.根据权利要求1所述的防水罩，其特征在于，所述防水罩为一体成型结构或者所述竖直水挡与横向水挡为分...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙飞，胡平，杨福全，
申请(专利权)人：上海新傲科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31