一种真空吸盘制造技术

本实用新型专利技术涉及了一种真空吸盘，其包括：吸盘本体，在该吸盘本体的吸附面上设置有涡状线状真空吸槽，该真空吸槽起始端与吸盘本体形心相重合，在真空吸槽的起始端设置有与真空发生器相连通的通气孔。在真空发生器的作用下，真空吸槽内产生负压，临近通气孔的区域先产生负压且其瞬时值较大，随着远离通气孔的路程加长，该区域内负压的产生时间越晚。随着时间的延长，真空吸槽内的负压整体趋于稳定。当真空吸盘对晶圆进行吸附时，靠近真空吸盘形心的区域先被吸附，而后，吸附区域逐步向外缘扩展，这样一来，使得晶圆各部分的形变趋于一致，其表面不易发生凸凹不平的现象。

【技术实现步骤摘要】
一种真空吸盘
本技术涉及晶圆加工领域，尤其涉及一种真空吸盘。
技术介绍
在进行光刻、抛光等需多工序中都需要使用真空吸盘对晶圆进行固定，现有通用真空吸盘的表面形状大多为一系列小的圆孔或腰形孔的排列组合，由于各孔自身的大小、位置相对分布情况等各种因素影响，晶圆各部分产生的形变不一，因此，晶圆会发生凸凹不平现象，严重影响了晶圆加工的质量。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有技术中的不足，提供一种结构简单，定位可靠，且能防止晶圆产生形变的真空吸盘。为了解决上述技术问题，本技术涉及了一种真空吸盘，其包括：吸盘本体，在该吸盘本体的吸附面上设置有涡状线状真空吸槽，该真空吸槽起始端与吸盘本体形心相重合，在真空吸槽的起始端设置有与真空发生器相连通的通气孔。在真空发生器的作用下，真空吸槽内产生负压。由于真空吸槽为涡状线状，其起始端与吸盘本体形心相重合，且其通气孔开设于其起始端，当真空吸盘发生作用时，临近通气孔的区域先产生负压且其瞬时值较大，随着远离通气孔的路程加长，该区域内负压的产生时间越迟。随着时间的延长，真空吸槽内的负压整体趋于稳定。当真空吸盘对晶圆进行吸附时，靠近真空吸盘形心的区域先被吸附，随着时间的延长，吸附区域逐步向外缘扩展，这样一来，晶圆各部分的形变趋于一致，其表面不会发生凸凹不平的现象。作为本技术的进一步改进，在吸附面上设置有至少两个定位凸起，为了保证吸盘本体形心与晶圆形心相重合，定位凸起沿晶圆边缘进行分布，通过定位凸起与晶圆边缘相互贴合来实现对晶圆位置的确定。在吸附面上设置的定位凸起有效的保证了吸盘本体形心与晶圆形心相重合，保证了晶圆的精确定位，且使得晶圆被吸附区域由中心向外扩展，更容易保证其平面度。作为本技术的进一步改进，涡状线螺距从起始端向外缘逐渐减小。涡状线螺距从起始端向外缘逐渐减小，这样一来，当对真空吸槽进行抽真空时，随着远离涡状线起始端的路程加大，该区域的槽内升压速度逐渐加快，保证了晶圆与真空吸盘吸附面更好贴合，保证其平面度。作为本技术的进一步改进，涡状线为费马螺线。作为本技术的进一步改进，真空吸槽深度从涡状线起始端向外缘逐渐减小。真空吸槽深度从涡状线起始端向外缘逐渐减小，这样设置的目的与上述螺距从涡状线起始端向外缘逐渐减小的目的趋于一致，当对真空吸槽进行抽真空时，随着远离涡状线起始端的路程加大，该区域的升压速度逐渐加快，保证了晶圆与真空吸盘吸附面更好贴合，保证其平面度。作为本技术的进一步改进，在真空吸槽上设置有倒角或倒圆。当真空吸槽对晶圆进行吸附时，晶圆被吸附区域会产生一定的内凹形变，当对晶圆进行外力作用时，晶圆与真空吸槽侧壁接触位置极易发生拉伤现象。通过在真空吸槽上设置倒角或倒圆的方式，能较好的避免这一现象。作为本技术的进一步改进，倒角或倒圆尺寸不小于0.5mm。作为本技术的进一步改进，在真空吸槽之间的吸附面上布置有气密性静电阻隔材料。在真空吸槽之间的吸附面上布置有气密性静电阻隔材料，从而避免了静电对晶圆造成损伤。作为本技术的进一步改进，气密性静电阻隔材料为防静电橡胶。防静电橡胶不但具有防静电作用，且具有一定的弹性。这样一来，其不但具有着上述防静电作用，且避免了晶圆发生拉伤现象。作为本技术的进一步改进，真空吸槽深度不大于4mm，宽度不大于5mm，相邻真空吸槽中心间距不大于8mm。通过长期实践，对其真空吸槽的深度、宽度及中心间距作了进一步限定，使得真空吸盘功能更加可靠。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术真空吸盘的结构示意图。图2是本技术真空吸盘的局部剖视图。1-吸盘本体；11-真空吸槽；12-通气孔；2-定位凸起；3-气密性静电阻隔材料。具体实施方式下面结合具体实施例，对本技术的内容做进一步的详细说明：为了达到本技术的目的，图1示出了本技术真空吸盘的结构示意图，该真空吸盘包括吸盘本体1，在该吸盘本体1的形心位置开设有通气孔12，其与外界真空发生器通过管道相连。现市面上常见的真空吸盘作用部多为圆形或椭圆形小孔，当其对晶圆进行作用时，晶圆上靠近孔的区域形变量大，而远离的区域形变量小，由于上述形变量不一致会导致晶圆在被吸附时会出现凸凹不平现象。一般来说，相同真空接触面积下晶圆的最大形变随着孔数增加而减小，若将孔数放大至无限，其形成的形状则为环形。鉴于以上，在该吸盘本体1的吸附面上设置有涡状线状真空吸槽11，其该真空吸槽11起始端位于吸盘本体1形心，通气孔12设置在真空吸槽11的起始端。这样一来，在真空发生器的作用下，真空吸槽11内会产生负压。由于真空吸槽11为涡状线状，其起始端与吸盘本体1形心相重合，且其通气孔12开设于其起始端，当真空吸盘发生作用时，晶圆上靠近通气孔12的区域先产生负压且其瞬时压力较大，随着远离通气孔12的路程越长，该区域内负压的产生时间越迟。当真空吸盘对晶圆进行吸附时，靠近真空吸盘形心的晶圆趋于先被吸附，随着时间的延长，吸附区域逐步向外缘扩展，这样一来，晶圆各部分的形变趋于一致，因而其表面不会发生凸凹不平的现象。为了保证吸盘本体1形心与晶圆形心相重合，在真空吸盘吸附面上设置有至少两个定位凸起2，其沿晶圆边缘进行分布。通过定位凸起2与晶圆边缘相互贴合来实现对晶圆位置的确定。该定位凸起2可以选用定位销，且该定位销与吸盘本体1可拆连接，可以方便地对其进行拆换。更进一步，该涡状线的螺距可以设置为从起始端向外缘逐渐减小，这样一来，当通过真空发生器对真空吸槽11进行抽真空时，随着远离涡状线起始端的路程加大，该区域的升压速度逐渐加快，保证了晶圆与真空吸盘吸附面更好贴合，保证其平面度。该涡状线可选用费马螺线，当然，也可以选用其他形式相近的涡状线。出于上述同样目的，也可以对真空吸槽11做如下设置，该槽深度从涡状线起始端向外缘逐渐减小。图2示出了本技术真空吸盘的局部剖视图。当真空吸槽11对晶圆进行吸附时，晶圆被吸附区域会产生一定的内凹形变，当对晶圆进行减薄或抛光等需要借助外力作用工序时，晶圆极易与真空吸槽11侧壁接触位置发生拉伤现象。为了避免上述现象的发生，可在真空吸槽11的侧壁设置尺寸不小于0.5mm的倒角或倒圆。在晶圆加工过程中，静电对其加工质量影响较大，为了避免这一现象，可在真空吸槽11之间的吸附面上布置气密性静电阻隔材料3，可以较好地避免了静电现象损伤预定位晶圆。优选防静电橡胶，其不但具有防静电作用，且其具有一定的弹性，能较好地避免晶圆发生拉伤现象。通过长期具体应用实践发现，当真空吸槽11的深度不大于4mm，宽度不大于5mm，相邻真空吸槽11中心间距不大于8mm时，真空吸盘的功能更加可靠，能较好地保证晶圆被吸附时的平整度。对所公开的实施例的所述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本技术。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空吸盘，其特征在于，其包括：吸盘本体；在所述吸盘本体的吸附面上设置有涡状线状真空吸槽，所述真空吸槽起始端与所述吸盘本体形心相重合；在真空吸槽的起始端设置有与真空发生器相连通的通气孔。

【技术特征摘要】
1.一种真空吸盘，其特征在于，其包括：吸盘本体；在所述吸盘本体的吸附面上设置有涡状线状真空吸槽，所述真空吸槽起始端与所述吸盘本体形心相重合；在真空吸槽的起始端设置有与真空发生器相连通的通气孔。2.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，在所述吸附面上设置有至少两个定位凸起，为了保证所述吸盘本体形心与晶圆形心相重合，所述定位凸起沿晶圆边缘进行分布，通过所述定位凸起与晶圆边缘相互贴合来实现对所述晶圆位置的确定。3.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述涡状线螺距从起始端向外缘逐渐减小。4.根据权利要求3所述的真空吸盘，其特征在于，所述涡状线为费马螺线。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄雷，
申请(专利权)人：昆山成功环保科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32