一种新型结构的石墨舟片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种新型结构的石墨舟片，包括石墨舟片本体，在所述石墨舟片本体的正反两面上沿其长度方向对称设有多个硅片定位腔体，在所述硅片定位腔体的周围设有多个用于将硅片卡接在硅片定位腔体上的卡点，所述卡点的横截面为扇形结构，所述硅片定位腔体的上边缘与石墨舟片本体的上边缘之间的夹角为2‑4°。本实用新型专利技术减小了硅片与卡点的接触面积，使硅片在镀膜过程中，不易在接触处出现黑点，不但提高了硅片的镀膜效果，并且降低了硅片的镀膜成本，便于硅片的放置和抽取。

【技术实现步骤摘要】
一种新型结构的石墨舟片
本技术涉及石墨舟片
，特别涉及到一种新型结构的石墨舟片。
技术介绍
晶体硅太阳电池片的生产加工中有一道程序叫做PECVD镀膜，其作用是在硅片上沉积一层介质薄膜，一般是氮化硅薄膜，提高硅片的太阳能转化率。这个工序用石墨舟装载硅片。把硅片放到石墨舟中，经过一定的条件产生化学反应，在硅片表面沉积上一层薄膜。石墨舟作为硅片沉积介质薄膜时的一种载体，其结构和大小直接影响硅片的转换效率和生产效率，其工作原理为：将未镀膜的硅片放在石墨舟片的卡点上，每个石墨舟片上可放固定数量的硅片，然后将石墨舟放置在PECVD真空镀膜设备的腔体内，采用PECVD工艺进行放电镀膜。镀膜结束后，取出石墨舟，将硅片从石墨舟片上卸取下来。现有技术中用于放置未镀膜的硅片的卡点绝大部分为圆形卡点，采用此种卡点增大了硅片与卡点的接触面积，在对硅片镀膜过程中，极易使硅片与卡点接触处产生黑点，不但影响了硅片的镀膜效果，并且提高了硅片的镀膜成本，给硅片的镀膜工作带来了较大的不便；另一个，现有的硅片定位腔体的上边缘绝大部分与石墨舟片本体的上边缘平行，采用此种结构的硅片定位腔体不便于硅片的放置和抽取，给硅片的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型结构的石墨舟片，包括石墨舟片本体，其特征在于，在所述石墨舟片本体的正反两面上沿其长度方向对称设有多个硅片定位腔体，在所述硅片定位腔体的周围设有多个用于将硅片卡接在硅片定位腔体上的卡点，所述卡点的横截面为扇形结构，所述硅片定位腔体的上边缘与石墨舟片本体的上边缘之间的夹角为2‑4°。

【技术特征摘要】
1.一种新型结构的石墨舟片，包括石墨舟片本体，其特征在于，在所述石墨舟片本体的正反两面上沿其长度方向对称设有多个硅片定位腔体，在所述硅片定位腔体的周围设有多个用于将硅片卡接在硅片定位腔体上的卡点，所述卡点的横截面为扇形结构，所述硅片定位腔体的上边缘与石墨舟片本体的上边缘之间的夹角为2-4°。2.如权利要求1所述的一种新型结构的石墨舟片，其特征在于：所述硅片定位腔体的上边缘与石墨舟片...

【专利技术属性】
技术研发人员：张孟彤，
申请(专利权)人：上海弘枫实业有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31