一种真空系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种真空系统，包括：真空反应腔室、真空泵、连接管路及真空计；真空泵连接真空反应腔室，连接管路的两端分别连接真空反应腔室及真空计，其中，连接管路至少包括一个弯折节点。本实用新型专利技术的真空系统将真空反应腔室与电离式真空计之间的连接管路替换为弯折管路，避免电离式真空计在多次使用后因为电极受到污染导致不能成功点火的问题，保障设备正常高效工作。

A vacuum system

The utility model provides a vacuum system, which comprises a vacuum reaction chamber, a vacuum pump, a connecting pipe and a vacuum gauge; a vacuum pump connects to a vacuum chamber, and the two ends of the connecting line are respectively connected to a vacuum chamber and a vacuum gauge, in which the connecting line includes at least one bending node. The vacuum system of the utility model replaces the connecting line between the vacuum chamber and the ionization vacuum gauge into a bending line to avoid the problem that the ionization vacuum gauge can not ignite successfully because the electrode is polluted for many times, and ensures the normal and efficient work of the equipment.

【技术实现步骤摘要】
一种真空系统
本技术涉及医疗器械制造领域，特别是涉及一种真空系统。
技术介绍
医疗器械是指单独、组合使用于人体的仪器、设备、器具、材料或者其他物品；其使用旨在达到：对疾病的预防、诊断、治疗、监护、缓解，对损伤或者残疾的诊断、治疗、监护、缓解、补偿，对解剖或者生理过程的研究、替代、调节的预期目的。医疗器械可通过高科技技术辅助医生进行疾病的精确诊断和治疗，已成为越来越重要的医疗手段，由于医疗器械是直接作用于人体的设备，其有效性及安全性的要求尤为重要。医疗器械的制造涉及机械、电子、塑料等多个行业，是一个多学科交叉、知识密集、资金密集的高技术产业，制造过程中的一些小问题，就会影响整个制造过程中的效率和成本。医疗器械的很多制造过程中会用到真空反应腔室，如图1所示，现有技术的真空系统1中：真空反应腔室11与真空泵12连接，所述真空反应腔室11还通过连接管路13与电离式真空计14连接。所述真空泵12对所述真空反应腔室11抽真空，所述电离式真空计14通过使气体分子电离，测量离子数量(电流)而得出所述真空反应腔室11中的气体压强。现有技术中，所述连接管路13是直型管道，且长度较短，在抽真空时，腔室内的颗粒容易因气流扰动，进入所述电离式真空计14与所述真空反应腔室11之间的所述连通管路13内，这些颗粒物容易对所述电离式真空计14的电极片造成污染，导致所述电离式真空计14不能成功点火，需要关掉所述真空泵12，重新开启，有时候需要多次反复开/关启动所述真空泵12，才能点火成功，严重影响工作效率，气体压强的检测精度也会受到影响(对于没有电极的其他类型的真空计也会存在污染问题，影响检测精度)。因此，如何避免电离式真空计的电极板受污染而不能成功点火的问题、提供工作效率已成为本领域技术人员亟待解决的问题之一。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种真空系统，用于解决现有技术中电离式真空计的电极板受污染而不能成功点火，影响工作效率的问题。为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种真空系统，所述真空系统至少包括：真空反应腔室、真空泵、连接管路及真空计；所述真空泵连接所述真空反应腔室，所述连接管路的两端分别连接所述真空反应腔室及所述真空计，其中，所述连接管路至少包括一个弯折节点。优选地，所述真空反应腔室包括镀膜腔室、清洗腔室或沉积腔室。优选地，所述真空计为电离式真空计。更优选地，所述真空计包括热阴极电离真空计、冷阴极电离真空计或放射性电离真空计。优选地，所述连接管路包括波浪形、折线形及螺旋形中的一种或几种组合。更优选地，所述连接管路在垂直方向上延伸、在水平方向上延伸或同时在垂直和水平两个方向上延伸。优选地，所述连接管路的横截面包括环形或多边形。如上所述，本技术的真空系统，具有以下有益效果：本技术的真空系统将真空反应腔室与电离式真空计之间的连接管路替换为弯折管路，避免电离式真空计在多次使用后因为电极受到污染导致不能成功点火的问题，保障设备正常高效工作。附图说明图1显示为现有技术中的真空系统的结构示意图。图2显示为本技术的真空系统中连接管路为沿水平方向延伸的波浪形结构的示意图。图3显示为本技术的真空系统中连接管路为沿垂直方向延伸的波浪形结构的示意图。图4显示为本技术的真空系统中连接管路为沿水平方向延伸的折线形结构的示意图。图5显示为本技术的真空系统中连接管路的折角为90°的示意图。元件标号说明1真空系统11真空反应腔室12真空泵13连通管路14电离式真空计2真空系统21真空反应腔室22真空泵23连接管路24真空计具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。请参阅图2～图5。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，遂图式中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。实施例一如图2所示，本实施例提供一种真空系统2，所述真空系统2至少包括：真空反应腔室21、真空泵22、连接管路23及真空计24。如图2所示，所述真空反应腔室21与所述真空泵22及所述真空计24连接，作为制造工艺的反应腔室。具体地，任意需要在真空条件下工作的腔室均适用于本技术的真空反应腔室21，包括但不限于镀膜腔室、清洗腔室及沉积腔室，在本实施例中，所述真空反应腔室21为镀膜腔室，腔室中的载物台、靶材等部件未显示，可根据实际需要进行设置，在此不一一赘述。如图2所示，所述真空泵22连接所述真空反应腔室21，用于对所述真空反应腔室21进行真空处理。具体地，所述真空泵22包括但不限于折叠液环泵、滑阀泵、直联旋片泵及罗茨泵，任意可实现所述真空反应腔室21真空处理的装置均适用于本技术。如图2所示，所述连接管路23连接于所述真空反应腔室21及所述真空计24之间。所述真空计24用于对所述真空反应腔室21中的压强进行检测；所述连接管路23用于连通所述真空反应腔室21及所述真空计24，以使得所述真空计24能检测到所述真空反应腔室21中的压强。具体地，所述连接管路23至少包括一个弯折节点，以阻挡污染物进入所述真空计24。所述连接管路23包括波浪形、折线形及螺旋形中的一种或几种组合，所述连接管路23在垂直方向上延伸、在水平方向上延伸或同时在垂直和水平两个方向上延伸。任意可阻挡污染物通过管路的结构均适用于本技术的连接管路23，不以本技术为限。如图2所示，在本实施例中，所述连接管路23的两个端口位于同一平面上，所述连接管路23为沿水平方向延伸的波浪形结构，包括两个波峰及一个波谷，在实际使用中，包括任意一个波峰或波谷就可实现阻挡作用，当然，波峰或波谷越多阻挡作用越好，波峰、波谷的数量可根据实际需要设定，不以本实施例为限。所述连接管路23的横截面包括但不限于环形或多边形，任意可通过气体的形状都适用于本技术。具体地，所述真空计24包括但不限于薄膜电容真空计、皮拉尼电阻真空计及电离式真空计。当应用薄膜电容真空计或皮拉尼电阻真空计时，本技术可减少真空计内部的污染，提高检测精度；当应用电离式真空计时，本技术可减少真空计内部电极的污染，避免不能成功点火的问题，同时提高检测精度。在本实施例中，所述真空计24为电离式真空计，包括但不限于热阴极电离真空计、冷阴极电离真空计或放射性电离真空计。实施例二如图3所示，本实施例提供一种真空系统，本实施例与实施例一的不同之处在于，所述连接管路23为沿垂直方向延伸的波浪形结构。具体地，如图3所示，所述连接管路23的两个端口位于不同的平面上，与所述真空计24连接的端口高于与所述真空反应腔室21连接的端口，在实际应用中，端口的高低设置可根据需要设定，不以本实施例为限。所述连接管路23包括一个波峰及一个波谷，由于波峰及波谷的幅度较大，完全可以阻挡污染物，因此波峰或波谷的数量可相应减少一些。实施例三如图4本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空系统，其特征在于，所述真空系统至少包括：真空反应腔室、真空泵、连接管路及真空计；所述真空泵连接所述真空反应腔室，所述连接管路的两端分别连接所述真空反应腔室及所述真空计，其中，所述连接管路至少包括一个弯折节点。

【技术特征摘要】
1.一种真空系统，其特征在于，所述真空系统至少包括：真空反应腔室、真空泵、连接管路及真空计；所述真空泵连接所述真空反应腔室，所述连接管路的两端分别连接所述真空反应腔室及所述真空计，其中，所述连接管路至少包括一个弯折节点。2.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于：所述真空反应腔室包括镀膜腔室、清洗腔室或沉积腔室。3.根据权利要求1所述的真空系统，其特征在于：所述真空计为电离式真空计。4.根据权利要求1或3所...

【专利技术属性】
技术研发人员：周作兴，程丙勋，
申请(专利权)人：奕瑞影像科技太仓有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32