彩色滤光基板的制作方法技术

一种彩色滤光基板的制作方法，包括：提供当前基板，当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的片格区为一个第一区域；在一个第一区域内，至少一个片格区为非屏幕区，其它片格区为屏幕区；在一个第一区域内，在屏幕区形成黑色矩阵层时，同时在非屏幕区形成基准线段组合，基准线段组合包括相互平行的第一基准线段和第二基准线段；在一个第一区域内，在屏幕区形成功能结构时，同时在第一基准线段和第二基准线段之间形成测试结构；利用测试结构和基准线段组合，得到功能结构的位置偏移关系。所述彩色滤光基板的制作方法能够更加简便和快捷地得到功能结构的位置偏移关系，从而更加有效地对功能结构的位置偏移进行控制。

Making method of color filter substrate

A method for making a color filter substrate including: providing a current base plate, a current substrate including a plurality of patch areas, a slice area covered by an exposure device as a first area; in a first area, at least one area is a non screen area, the other is a screen area; in a first area. Inside, when the black matrix layer is formed in the screen area, the base line segment is formed at the same time in the non screen area. The base line segment consists of the first base line segment and the second baseline segment of each other. In a first area, when the functional structure is formed in the screen area, it is formed between the first base line segment and the second baseline segment. The structure of the test is combined, and the position offset relation of the functional structure is obtained by combining the test structure and the reference line segment. The method of making the color filter substrate is more convenient and faster to get the position shift relation of the functional structure, so that the position shift of the functional structure can be more effectively controlled.

【技术实现步骤摘要】
彩色滤光基板的制作方法
本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及一种彩色滤光基板的制作方法。
技术介绍
液晶显示装置因其轻便性及优良的显示性能，不仅在信息通信设备领域，而且在一般的电器设备领域实现了快速的普及。液晶显示装置一般包含：阵列基板，阵列基板上通常具有复数个矩阵状排布的像素电极；彩色滤光基板，彩色滤光基板通常包括复数个彩色光阻；密封于阵列基板和彩色滤光基板之间的液晶。随着液晶显示装置分辨率的提高，彩色滤光基板上各结构的线宽(通常此线宽等于工艺的关键尺寸，criticaldimension，CD)越来越小，在生产过程中，要检索各结构的线宽大小是否达到要求，以及相应结构位置是否发生偏移，变得越来越困难，给彩色滤光基板的制作工艺带来很大挑战。
技术实现思路
本专利技术解决的问题是提供一种彩色滤光基板的制作方法，以更好地控制彩色滤光基板中各结构的线宽。为解决上述问题，本专利技术提供一种彩色滤光基板的制作方法，包括：提供当前基板，所述当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的所述片格区为一个第一区域；在一个所述第一区域内，至少一个所述片格区为非屏幕区，其它所述片格区为屏幕区；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述非屏幕区形成测试结构；利用所述测试结构，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。可选的，在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述非屏幕区形成测试结构，包括：在光罩上形成功能开口图案和测试开口图案；在所述屏幕区形成功能结构材料层时，同时在所述非屏幕区形成测试结构材料层；在利用所述功能开口图案对所述功能结构材料层进行图案化，以形成所述功能结构时，同时利用所述测试开口图案对所述测试结构材料层进行图案化，以形成所述测试结构。可选的，利用所述测试结构，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系，包括：利用放大设备放大所述测试结构；通过人眼直接观察放大后的所述测试结构；根据所述测试结构与所述测试开口图案的俯视形状变化，得到所述功能结构的实际线宽与预设线宽的大小关系。与现有技术相比，本专利技术的技术方案具有以下优点：本专利技术的技术方案中，在当前基板的第一区域中，在屏幕区制作黑色矩阵层时，同时在第一区域内的非屏幕区形成基准线段组合(基准线段组合包括相互平行的第一基准线段和第二基准线段)，然后在制作功能结构时，同时在非屏幕区制作测试结构，从而可以利用所述测试结构相对所述基准线段组合的位置关系，得到功能结构的位置偏移关系。所述方法巧妙地将对功能结构的位置偏移关系，转移到对测试结构的位置偏移关系，提高了测试效率，缩短了观察和测量和时间，并且降低现场操作人员的工作难度。进一步，在光罩的测试开口图案中增加了N个偏增开口和N个偏减开口，因此，对应形成的测试结构中，相应增加了N个偏增块状和N个偏减块状，并且这些偏增块状、偏减块状与第一基准线段和第二基准线段之间有着直接的距离关系，因此，将测试结构与第一基准线段和第二基准线段配合起来，就能够直接判断出功能结构的位置偏移大小范围，从而更加有利于控制功能结构的位置偏移。附图说明图1是线宽较大时，部分彩色子像素色阻层与黑色矩阵层的俯视图；图2是线宽较小时，部分彩色子像素色阻层与黑色矩阵层的俯视图；图3是本专利技术实施例所提供的当前基板俯视图；图4是在当前基板上形成黑色矩阵层的结构示意图；图5是在图4所示结构上继续形成彩色子像素色阻层、透明导电层和间隔柱的结构示意图；图6是本专利技术实施例所提供的一种测试开口图案示意图；图7是本专利技术实施例所提供的另一种测试开口图案示意图；图8至图10是采用图6所示测试开口图案形成的对应三种测试结构示意图；图11是本专利技术另一实施例所提供的另一种测试开口图案示意图；图12至图16是采用图11所示测试开口图案形成的对应五种测试结构示意图。具体实施方式彩色滤光基板上的功能结构通常包括黑色矩阵层、彩色子像素色阻层、平坦层、和间隔柱等。其中，彩色子像素色阻层通常包括红绿蓝(RGB)三原色的彩色子像素色阻层，即彩色子像素色阻层包括红色子像素色阻层、绿色子像素色阻层和蓝色子像素色阻层。有时彩色子像素色阻层还可以包括白色子像素色阻层。红色子像素色阻层、绿色子像素色阻层和蓝色子像素色阻层(有时还包括白色子像素色阻层)通常是位于同一层。红色子像素色阻层包括多个红色子像素色阻块，绿色子像素色阻层包括多个绿色子像素色阻块，蓝色子像素色阻层包括多个蓝色子像素色阻块。当包括白色子像素色阻层时，白色子像素色阻层包括多个白色子像素色阻块。各颜色的子像素色阻块可以统一称为彩色子像素色阻块。这些彩色子像素色阻块具体分散分布在黑色矩阵层(简称BM)限定出的开口中，通常这些开口类似于一个个网孔贯穿黑色矩阵层。后续在黑色矩阵层和红绿蓝子像素色阻层上，还可以设置平坦层、导电层和间隔柱等结构。在各功能结构制作过程中，工序的其中一对关键规格是各功能结构的线宽和对准。线宽自身非常重要，直接影响功能结构的制作良率，同时它还会影响对准后重叠(Overlay)部分的大小。对准通常指相应结构的位置是否发生偏移，此时影响重叠部分是否对称。随着显示屏分辨率的提高，各功能结构的线宽和对准越来越难以精确控制。如图1所示，以彩色子像素色阻层为例，彩色子像素色阻层重叠在黑色矩阵层110的线宽在10μm以上时，相应的重叠部分只是彩色子像素色阻层与开口区以外与黑色矩阵层重叠。也就是说，当黑色矩阵层110的线宽在10μm以上时，为保证不漏光，一般彩色子像素色阻层和黑色矩阵层110的重叠可控制在5μm-8μm。如果要求彩色子像素色阻层对准，只需要要求这些重叠的部分对称，例如图1中是整列都为相同的条形色阻块连接在一起时，只要要求各色阻块在左右方向上对称。因为，此时红色子像素色阻块111、绿色子像素色阻块112和蓝色子像素色阻块113都还是相互分离的，因此，通常还能够直接观察出其线宽和对准是否满足要求。然而，随着显示屏分辨率的提高，彩膜基板黑色矩阵层的线宽越来越小(例如由原来的10μm缩小至5μm-6μm，甚至达到3μm以下)，如果把彩色子像素的与黑色矩阵层的重叠量相应的减少至2μm-3μm时，漏光的几率会很大。因此，不得已的，相邻彩色子像素之间会相互重叠。也就是说，彩色子像素色阻层的重叠已经由原来的仅和黑色矩阵层重叠，变成相邻彩色子像素色阻块的重叠。如图2所示，红色子像素色阻块211、绿色子像素色阻块222和蓝色子像素色阻块223除了与黑色矩阵层210重叠，它们之间也已经有部分相互重叠。此时，即便用自动可视检查设备等放大设备来观察，由于放大倍率有限，难以判断各色阻块的线宽是否满足要求，也很难判断各色阻块的偏移方向与偏移幅度。更何况，在采用自动可视检查设备检视时，需要考虑生产节拍(简称TactTime)的限制，检视时间通常有限，造成现场操作人员的工作难度较高。由以上可知，线宽减小之后，对相应功能结构的位置偏移关系进行检查和控制变得更加困难。为此，本专利技术提供一种能够利用现有设备和工艺流程的制作方法，所述制作方法能够在制作过程中通过人眼直接观察和判断，就能快速分辨相应的功能结构的位置是否发生偏移，以及后续需要进行调整的方向和调整幅度，既节省了生产时间，同时也降低现场操作人员的工作难度。也就是说，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括：提供当前基板，所述当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的所述片格区为一个第一区域；在一个所述第一区域内，至少一个所述片格区为非屏幕区，其它所述片格区为屏幕区；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成黑色矩阵层时，同时在所述非屏幕区形成基准线段组合，所述基准线段组合包括相互平行的第一基准线段和第二基准线段；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述第一基准线段和所述第二基准线段之间形成测试结构；利用所述测试结构和所述基准线段组合，得到所述功能结构的位置偏移关系。

【技术特征摘要】
1.一种彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，包括：提供当前基板，所述当前基板包括多个片格区，曝光设备一次曝光所覆盖到的所述片格区为一个第一区域；在一个所述第一区域内，至少一个所述片格区为非屏幕区，其它所述片格区为屏幕区；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成黑色矩阵层时，同时在所述非屏幕区形成基准线段组合，所述基准线段组合包括相互平行的第一基准线段和第二基准线段；在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述第一基准线段和所述第二基准线段之间形成测试结构；利用所述测试结构和所述基准线段组合，得到所述功能结构的位置偏移关系。2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，在一个所述第一区域内，在所述屏幕区形成功能结构时，同时在所述第一基准线段和所述第二基准线段之间形成测试结构，包括：在光罩上形成功能开口图案和测试开口图案，所述测试开口图案包括基准开口；在所述屏幕区形成功能结构材料层时，同时在所述非屏幕区形成测试结构材料层；在利用所述功能开口图案对所述功能结构材料层进行图案化，以形成所述功能结构时，同时利用所述测试开口图案对所述测试结构材料层进行图案化，以形成所述测试结构；图案化所述测试结构材料层时，所述基准开口到所述第一基准线段和所述第二基准线段的距离相等。3.如权利要求2所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，利用所述测试结构和所述基准线段组合，得到所述功能结构的位置偏移关系的步骤包括：利用放大设备放大所述测试结构、所述第一基准线段和所述第二基准线段；通过人眼观察放大后的所述测试结构；根据所述测试结构与所述第一基准线段和所述第二基准线段之间的距离，得到所述功能结构的位置偏移关系。4.如权利要求3所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，利用所述测试开口图案对所述测试结构材料层进行图案化，以形成所述测试结构，包括：由所述基准开口对所述测试结构材料层进行图案化，得到的所述测试结构包括对应于所述基准开口的基准区块；根据所述测试结构与所述第一基准线段和所述第二基准线段之间的距离，得到所述功能结构的位置偏移关系，包括：当所述基准区块到所述第一基准线段的距离小于到所述第二基准线段的距离时，判断所述功能结构向第一方向偏移；当所述基准区块到所述第一基准线段的距离等于到所述第二基准线段的距离时，判断所述功能结构未发生位置偏移；当所述基准区块到所述第一基准线段的距离大于到所述第二基准线段的距离时，判断所述功能结构向第二方向偏移。5.如权利要求4所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述基准开口沿垂直于所述第一基准线段方向上的跨度，等于所述功能结构的预设线宽。6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的制作方法，其特征在于，所述基准开口的俯视形状为长方形。7.如权利要求4所述的彩色滤光基板的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王菁晶，范刚洪，徐广军，张莉，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31