磁瓦检测机构制造技术

一种磁瓦检测机构包括第一检测组件、第二检测组件以及控制器，第一检测组件包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，第一检测支架支撑于机架上，第一检测相机设置于第一检测支架上并与第一检测光源配合；第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机、第二检测光源以及转向组件，第二检测支架支撑于机架上，转向组件设置于第二检测支架上，第二检测相机与第二检测光源配合，控制器用于根据第一检测组件和第二检测组件的检测结果对当前磁瓦进行缺陷分析。本发明专利技术磁瓦检测机构对磁瓦的外弧面、内弧面、边面以及端面进行拍照取像，并分析判断磁瓦是否存在缺陷，提高磁瓦检测准确率和检测效率，提高自动化程度以利于生产效率的提高。

Magnetic tile testing mechanism

A magnetic tile detection mechanism includes a first detection component, a second detection component and a controller. The first detection component includes a first detection bracket, a first detection camera, and a first detection light source. The first detection bracket is supported on the rack, the first detection camera is set on the first detection bracket and is matched with the first detection light source. The second detection component includes a second detection bracket, a second detection camera, a second detection light source, and a steering component. The second detection bracket is supported on the rack, the steering component is set on the second detection bracket, and the second detection camera is matched with the second detection light source, and the controller is used to root the first detection component and the second detection component. The detection results of the magnetic tile are analyzed. The magnetic tile detection mechanism takes pictures of the outer arc surface, the inner arc surface, the side surface and the end face of the magnetic tile, analyzes and judges whether the magnetic tiles have defects, improve the detection accuracy and the detection efficiency of the magnetic tiles, and improve the degree of automation in order to improve the production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
磁瓦检测机构
本专利技术涉及磁瓦检测
，特别涉及一种磁瓦检测机构。
技术介绍
磁瓦是永磁体中的一种用在永磁电机上的瓦状磁体，目前国内磁瓦生产量巨大，而磁瓦检测则依靠人工检测的方式，传统的人工检测主要是基于人的眼睛，由于一些生理上的限制在一些细微的裂纹上很难检测出来，同时这种方法极易受到外部环境和身体状况的影响，通常会出现漏检和误检，很难保证磁瓦的品质；这种方法工作量大、重复性高，检测的效率低下，已不适应磁瓦自动化生产的需要，影响磁瓦生产效率。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种结构简单且可实现自动检测的磁瓦检测机构。一种磁瓦检测机构，设置于机架上用于对传输组件传送的磁瓦进行缺陷检测，所述磁瓦检测机构包括第一检测组件、第二检测组件以及控制器，所述第一检测组件包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合，用于对所述磁瓦的外弧面、内弧面或边面中至少一者进行拍照取像；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机、第二检测光源以及转向组件，所述第二检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述转向组件设置于所述第二检测支架上，用于抓取所述传输组件上待检测所述磁瓦并进行转向操作，所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合，用于对转向后的所述磁瓦的端面进行拍照取像；所述控制器用于根据所述第一检测组件和所述第二检测组件的检测结果对当前所述磁瓦进行缺陷分析。在其中一个实施例中，所述第一检测支架包括第一横梁、第二横梁、两根第一立梁、第一相机支架以及第一光源支架，两根所述第一立梁垂直支撑固定于所述机架上，所述第一横梁和所述第二横梁向靠近所述机架的方向间隔连接于两根所述第一立梁之间，且横跨于所述传输组件上方；所述第一相机支架活动设置于所述第一横梁上，且包括第一架板、第二架板以及相机固定板，所述第一架板沿垂直所述机架的方向连接于所述第一横梁，并可在外力作用下沿所述第一横梁的延长方向横向移动，所述第二架板连接于所述第一架板远离所述第一横梁的一端，并向靠近所述机架的方向延伸。在其中一个实施例中，所述第二架板的延长方向设置有相机滑槽，所述第一检测相机通过所述相机固定板沿所述相机滑槽向靠近或远离所述传输组件的方向可滑动地连接于所述第二架板上，并还可通过所述第一架板横向可滑动地连接于所述第一横梁上。在其中一个实施例中，所述第一光源支架活动设置于所述第二横梁上，且包括光源固定板及间隔设置于所述光源固定板上的两根支杆；所述光源固定板连接于所述第二横梁，并可在外力作用下沿所述第二横梁的延长方向横向移动，所述光源固定板沿平行所述第二横梁方向设置有光源滑槽，两根所述支杆垂直连接于所述光源固定板的相同一侧，且横向可滑动地连接于所述光源滑槽内。在其中一个实施例中，两根所述支杆的延长方向均开设长孔。在其中一个实施例中，所述第一检测组件还包括第一感应开关，所述第一感应开关设置于两根所述支杆之间，用于感应所述磁瓦到位后，触发所述第一检测相机。在其中一个实施例中，所述第二检测支架包括第三横梁、两根第二立梁以及两个相机光源固定板，两根所述第二立梁垂直支撑固定于所述机架上，所述第三横梁连接于两根所述第二立梁之间，且横跨于所述传输组件上方；两个所述相机光源固定板分别活动设置于两根所述第二立梁上，并可在外力作用下沿两根所述第二立梁的延长方向纵向移动。在其中一个实施例中，所述第二检测相机为分别对所述磁瓦两个端面进行拍照取像的两个，所述第二检测光源为与两个所述第二检测相机相互配合的两个；两个所述第二检测相机和两个所述第二检测光源成对配合的设置于两个所述相机光源固定板上，并可在外力作用下随对应的所述相机光源固定板沿所述第二立梁上下移动。在其中一个实施例中，所述转向组件包括吸附件、升降驱动件以及旋转驱动件，所述旋转驱动件安装于所述第三横梁上，所述升降驱动件与所述旋转驱动件连接，所述吸附件设置于所述升降驱动件上，并可在所述升降驱动件的驱动下向靠近或远离所述传输组件的方向移动，并在所述旋转驱动件的驱动下相对所述第三横梁旋转。在其中一个实施例中，所述第二检测组件包括第二感应开关，所述第二感应开关设置于所述传输组件上且位于两个所述相机光源固定板之间，用于当感应所述磁瓦进入所述传输组件时触发所述转向组件进行转向并触发所述第二检测相机进行拍照取像。本专利技术磁瓦检测机构设置于机架上，磁瓦放置于传输组件上并随之依次经过第一检测组件和第二检测组件，以对磁瓦的外弧面、内弧面、边面以及端面进行拍照取像，并通过控制器分析判断磁瓦否存在缺陷，替代人工检测，以提高磁瓦检测准确率和检测效率，并同时提高自动化程度以利于生产效率的提高。附图说明图1为本专利技术一较佳实施方式中磁瓦检测机构的结构示意图；图2为本专利技术一较佳实施方式中磁瓦的结构示意图；图3为图1所示磁瓦检测机构中第一检测组件的结构示意图；图4为图1所示磁瓦检测机构中第二检测组件的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。请参看图1和图2，本专利技术一较佳实施例中磁瓦检测机构100，设置于机架200上，用于对由传输组件300传送的磁瓦400进行缺陷检测，实现磁瓦检测的自动化。其中，磁瓦400包括外弧面401、与外弧面401相对的内弧面402、分别连接于外弧面401和内弧面402弧长方向的两侧的两个边面403以及连接于两个边面403之间的两个端面404。由于磁瓦400的缺陷类型包括磨歪、崩脚、边裂等十几种缺陷，且每个面和每种缺陷需要的相机光源均有所不同，因此根据对磁瓦400的不同部位及每个部位的不同缺陷类型，机架200上设置有外弧面磨歪检测工位、两个1/2外弧面缺陷检测工位、内弧面磨歪检测工位、内弧面缺陷检测工位、边面检测工位以及端面检测工位共7个检测工位。磁瓦检测机构100设置于机架200的上述7个检测工位上，用于分别磁瓦400不同部位及不同缺陷进行缺陷检测。下面将针对设置于上述7个检测工位上的磁瓦检测机构100进行详细说明。在本具体实施例中，外弧面磨歪缺陷检测工位(以下简称第一检测工位)、两个1/2外弧面缺陷检测工位(以下简称第二、三检测工位)、内弧面磨歪缺陷检测工位(以下简称第四检测工位)、内弧面缺陷检测工位(以下简称第五检本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磁瓦检测机构，设置于机架上用于对传输组件传送的磁瓦进行缺陷检测，其特征在于：所述磁瓦检测机构包括第一检测组件、第二检测组件以及控制器，所述第一检测组件包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合，用于对所述磁瓦的外弧面、内弧面或边面中至少一者进行拍照取像；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机、第二检测光源以及转向组件，所述第二检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述转向组件设置于所述第二检测支架上，用于抓取所述传输组件上待检测所述磁瓦并进行转向操作，所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合，用于对转向后的所述磁瓦的端面进行拍照取像；所述控制器用于根据所述第一检测组件和所述第二检测组件的检测结果对当前所述磁瓦进行缺陷分析。

【技术特征摘要】
1.一种磁瓦检测机构，设置于机架上用于对传输组件传送的磁瓦进行缺陷检测，其特征在于：所述磁瓦检测机构包括第一检测组件、第二检测组件以及控制器，所述第一检测组件包括第一检测支架、第一检测相机以及第一检测光源，所述第一检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述第一检测相机活动设置于所述第一检测支架上并与所述第一检测光源配合，用于对所述磁瓦的外弧面、内弧面或边面中至少一者进行拍照取像；所述第二检测组件包括第二检测支架、第二检测相机、第二检测光源以及转向组件，所述第二检测支架支撑于所述机架上，且设置于所述传输组件的上方；所述转向组件设置于所述第二检测支架上，用于抓取所述传输组件上待检测所述磁瓦并进行转向操作，所述第二检测相机活动设置于所述第二检测支架上并与所述第二检测光源配合，用于对转向后的所述磁瓦的端面进行拍照取像；所述控制器用于根据所述第一检测组件和所述第二检测组件的检测结果对当前所述磁瓦进行缺陷分析。2.如权利要求1所述的磁瓦检测机构，其特征在于：所述第一检测支架包括第一横梁、第二横梁、两根第一立梁、第一相机支架以及第一光源支架，两根所述第一立梁垂直支撑固定于所述机架上，所述第一横梁和所述第二横梁向靠近所述机架的方向间隔连接于两根所述第一立梁之间，且横跨于所述传输组件上方；所述第一相机支架活动设置于所述第一横梁上，且包括第一架板、第二架板以及相机固定板，所述第一架板沿垂直所述机架的方向连接于所述第一横梁，并可在外力作用下沿所述第一横梁的延长方向横向移动，所述第二架板连接于所述第一架板远离所述第一横梁的一端，并向靠近所述机架的方向延伸。3.如权利要求2所述的磁瓦检测机构，其特征在于：所述第二架板的延长方向设置有相机滑槽，所述第一检测相机通过所述相机固定板沿所述相机滑槽向靠近或远离所述传输组件的方向可滑动地连接于所述第二架板上，并还可通过所述第一架板横向可滑动地连接于所述第一横梁上。4.如权利要求2所述的磁瓦检测机构，其特征在于：所述第一光源支架活动设置于所述第二横梁上，且包括光源固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛春花，张春平，赵晓曦，陈志列，
申请(专利权)人：研祥智能科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44