一种研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于食品检测技术领域，公开了一种研磨装置。该研磨装置通过设置第一研磨单元和第二研磨单元，当研磨样品时，利用第一研磨单元上的研磨凸面内嵌第二研磨单元上的研磨凹面凹陷形成的样品容置内腔中，利用外界力去挤压第一研磨单元，可将样品紧密挤压至研磨凸面与研磨凹面间，如此多次挤压，便可达到研磨样品的目的。同时，研磨样品时，研磨凸面与研磨凹面接触面积大，样品不易外溢，可达到充分研磨样品的目的，提高了样品粉末的均一性。

A kind of grinding device

The utility model belongs to the field of food detection technology, and discloses a grinding device. The grinding device is made by setting a first grinding unit and a second grinding unit. When grinding a sample, the first grinding unit is extruded by external force to squeeze the sample into the grinding convex surface by using the external force in a sample accommodating inner cavity formed by a grinding concave concave concave concave on the second grinding unit on the first grinding unit. With multiple times of extrusion between the grinding concave surface, the purpose of grinding the sample can be achieved. At the same time, when the samples are lapping, the contact area of the grinding convex surface and the grinding concave surface is large, and the sample is not easy to overflow. It can achieve the purpose of fully grinding the sample and improve the uniformity of the sample powder.

【技术实现步骤摘要】
一种研磨装置
本技术属于食品检测
，具体涉及一种研磨装置。
技术介绍
在检测块状食品中各成分含量时，首先需要研磨块状食品，以达到粉碎的目的。诸如圆片状的酪趣贝奶酪产品即为常见的块状食品，在检测其中含量时，一般会采用研磨装置将其研磨粉碎。现有技术中常用的研磨装置一般是研钵，诸如中国专利文献CN204816782U公开了一种研钵，该技术通过设置在研钵本体上设置楞条，并在钵杵把手的杵头上设置凸起，通过手动移动钵杵把手来达到研磨样品的目的。但是上述技术中，杵头与研钵本体接触面积有限，当杵头研磨样品时，样品易受力外溢，难以达到充分研磨的效果，导致研磨后得到的样品粉末均一性较差，不能作为代表性样品，最终也难以准确反映样品特性。
技术实现思路
为此，本技术所要解决的是现有研磨装置难以达到充分研磨的效果，导致样品粉末均一性差的缺陷，进而提供一种研磨充分、结构简单的便携式研磨装置。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案如下：本专利技术所提供的研磨装置，包括研磨组件，所述研磨组件包括，第一研磨单元，具有研磨凸面；第二研磨单元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔，当研磨样品时，所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中，并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。进一步地，所述研磨凸面为球面，所述研磨凹面为球形凹面，当所述研磨凸面内嵌所述样品容置内腔内时，所述研磨凸面与所述研磨凹面彼此紧密贴合。进一步地，所述研磨凸面和所述研磨凹面中任一个上间隔分布研磨凸起。进一步地，所述研磨凸起为锥形凸起和/或球形凸起。优选地，所述研磨凸起的凸起高度为0.5cm-0.8cm。进一步地，还包括第一连接杆，具有第一旋转端和第一连接端，所述第一连接端与所述第一研磨单元连接；第二连接杆，具有第二旋转端和第二连接端，所述第二连接端与所述第二研磨单元连接，且所述第一旋转端与所述第二旋转端活动连接，以使两者可相对旋转并带动所述第一研磨单元和所述第二研磨单元彼此靠近或远离。进一步地，所述研磨凸面的直径至少为2cm，所述研磨凹面的直径至少为3cm。进一步地，所述第一研磨单元为第一研磨圆盘，所述第一连接端与所述第一研磨圆盘连接，且远离所述研磨凸面；所述第二研磨单元为第二研磨圆盘，进一步地，还包括固定台，具有一适于放置于水平面上的水平固定面，与所述水平固定面相对的侧面与所述第二研磨单元固定连接，以通过所述固定台将所述第二研磨单元放置于水平面上。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：通过设置第一研磨单元和第二研磨单元，当研磨样品时，利用第一研磨单元上的研磨凸面内嵌第二研磨单元上的研磨凹面凹陷形成的样品容置内腔中，利用外界力去挤压第一研磨单元，可将样品紧密挤压至研磨凸面与研磨凹面间，如此多次挤压，便可达到研磨样品的目的。同时，研磨样品时，研磨凸面与研磨凹面接触面积大，样品不易外溢，可达到充分研磨样品的目的，提高了样品粉末的均一性。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例中研磨装置的结构示意图；附图标记说明：1-第一研磨单元；2-研磨凸面；3-研磨凸起；4-第二研磨单元；5-样品容置内腔；6-研磨凹面；7-第一连接杆；8-第二连接杆。具体实施方式下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。实施例1本实施例提供了一种研磨装置，如图1所示，包括研磨组件，研磨组件包括第一研磨单元1，具有研磨凸面2；第二研磨单元4，具有研磨凹面6，研磨凹面6凹陷形成样品容置内腔5，当研磨样品时，研磨凸面2适于内嵌样品容置内腔5中，并将样品紧密挤压至研磨凸面3与研磨凹面6间。在本实施例中，研磨凸面2为球面，研磨凹面6为球形凹面，当研磨凸面2内嵌样品容置内腔5内时，研磨凸面2与研磨凹面6彼此紧密贴合。作为优选的实施方式，研磨凸面2的直径至少为2cm，研磨凹面6的直径至少为3cm。上述研磨装置中，通过设置第一研磨单元1和第二研磨单元4，当研磨样品时，利用第一研磨单元1上的研磨凸面2内嵌第二研磨单元4上的研磨凹面6凹陷形成的样品容置内腔5中，利用外界力去挤压第一研磨单元1，可将样品紧密挤压至研磨凸面2与研磨凹面6间，如此多次挤压，便可达到研磨样品的目的。同时，研磨样品时，研磨凸面2与研磨凹面6接触面积大，样品不易外溢，可达到充分研磨样品的目的，提高了样品粉末的均一性。为了在按压粉碎样品时，使样品研磨充分和粉碎均匀，研磨凸面2和研磨凹面6中任一个上间隔分布研磨凸起3。作为优选的实施方式，如图1所示，研磨凸面2上间隔分布研磨凸起。进一步地，研磨凸起3为锥形凸起和/或球形凸起。锥形凸起具体可为圆锥形。优选地，研磨凸起3的凸起高度为0.5cm-0.8cm。如图1所示，还包括第一连接杆7，具有第一旋转端和第一连接端，7第一连接端与第一研磨单元1连接；第二连接杆8，具有第二旋转端和第二连接端，第二连接端与第二研磨单元4连接，且第一旋转端与第二旋转端活动连接，以使两者可相对旋转并带动第一研磨单元1和第二研磨单元4彼此靠近或远离。在本实施例中，第一连接杆7和第二连接杆8均可为长方形不锈钢条；活动连接可通过在第一旋转端和第二旋转端均开设通孔，利用铆钉活动连接。作为优选的实施方式，第一研磨单元1为第一研磨圆盘，第一连接端与第一研磨圆盘连接，且远离研磨凸面2；第二研磨单元4为第二研磨圆盘。例如，第一研磨圆盘和第二研磨圆盘均为球形圆盘，其材质可为不锈钢材质。为了将第二研磨单元4固定于水平面上，便于研磨样品，还包括固定台，具有一适于放置于水平面上的水平固定面，与水平固定面相对的侧面与第二研磨单元4固定连接，以通过固定台将第二研磨单元4放置于水平面上。需要说明的是，上述研磨装置，可以根据检测样品的形状设计不同规格、不同形状的模具，以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种研磨装置，包括研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括，第一研磨单元，具有研磨凸面；第二研磨单元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔，当研磨样品时，所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中，并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。

【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，包括研磨组件，其特征在于，所述研磨组件包括，第一研磨单元，具有研磨凸面；第二研磨单元，具有研磨凹面，所述研磨凹面凹陷形成样品容置内腔，当研磨样品时，所述研磨凸面适于内嵌所述样品容置内腔中，并将样品紧密挤压至所述研磨凸面与所述研磨凹面间。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸面为球面，所述研磨凹面为球形凹面，当所述研磨凸面内嵌所述样品容置内腔内时，所述研磨凸面与所述研磨凹面彼此紧密贴合。3.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸面和所述研磨凹面中任一个上间隔分布研磨凸起。4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸起为锥形凸起和/或球形凸起。5.根据权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨凸起的凸起高度为0.5cm-0.8cm。6.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其特征在于，还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵媛，任丽，高永亮，解鑫，梁春梅，许璐，喻东威，常建军，宋晓东，
申请(专利权)人：内蒙古蒙牛乳业集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古,15