电镀架飞靶结构制造技术

本实用新型专利技术是提供一种电镀架飞靶结构，其包括有一插导件，该插导件是包括有一体成形的衔接板及插导块，该衔接板是设有复数螺穿孔，该插导块的底部是设有一Ｖ型楔部；一飞靶座，该飞靶座是包括有一底座及导接板，该导接板是呈二向上凸起的板体设置而形成有一Ｖ形接槽，该Ｖ形接槽是用以承接该插导块的Ｖ形楔部；借此，以达到减少电源导通路径的螺接点，并可消除构件间增生铜氯的问题，使该飞靶机构的过电性能提升，进而提高电镀作业的品质。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种电镀架飞靶结构，其特征在于：其包括有：　　　　一插导件，该插导件是包括有一体成形的衔接板及插导块，该衔接板是设有复数螺穿孔，该插导块的底部是设有一Ｖ形楔部；　　　　一飞靶座，该飞靶座是包括有一底座及导接板，该导接板是呈二向上凸起的板体设置而形成有一Ｖ形接槽，该Ｖ形接槽是用以承接该插导块的Ｖ形楔部。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：萧朋，
申请(专利权)人：竞铭机械股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]