用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备制造技术

本实用新型专利技术涉及用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置；真空室内上部设置溅射靶架，其下部对应设有样品架，样品架上面设有样品皿，样品架下面设有加热器，真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈，设有真空抽气装置通过管路与真空室联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器控制及冷却循环水系统；其特征是样品架连接设有振动发生器。通过调节样品架的摆动频率和超声波或机械振动发生器的振动功率，让每个微颗粒都充分暴露其表面，显著提高微颗粒表面镀金属膜的纯度、均匀性、致密性和附着力。结构简单、操作简便，无废水废气污染，节能降耗且应用广。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空镀膜设备，特别涉及一种用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备。
技术介绍
目前，微颗粒与同种材料的块体相比，其物理、化学特性发生了显著变化，具有不同于常规材料的光学、电学、磁学、热学、力学和化学方面的优异特性。而微颗粒表面薄膜则是在无机非金属、金属或有机高分子等几类不同的颗粒材料表面通过一定的工艺在其表面镀有单层或多层复合薄膜组合而成的新型材料，它既能保留原组成材料的主要特色，又能通过复合效应获得原组分所不具备的性能，还可以通过材料设计使各组分的性能互相补充并彼此关联，从而获得新的优越性能。因此，在微颗粒表面镀金属薄膜是十分重要和必要的。由于微颗粒比表面积和表面能都比较大，且曲率半径很小，它们之间容易团聚，所以在微颗粒表面均匀的镀金属薄膜具有一定的难度。在块体材料表面镀膜的技术很多，如真空蒸发、真空溅射、离子镀、化学镀和化学气相沉积等。但用于微颗粒表面镀膜的技术却不多，目前较常用的为化学镀的方法，CN 1198972A所述的是利用化学镀的方法在镍基合金粉的表面镀金属镍；CN 1440951A所述的是利用超声化学镀的方法在粉体的表面镀金属镍；CN2508957Y所述的是利用化学镀的方法在空心微珠表面镀金属镍。微颗粒表面采用化学镀的方法镀膜已经不成问题，但现有的镀膜设备存在以下缺点，如镀层不均匀、致密性差、空隙率高、纯度低、附着力弱、污染环境以及操作工序复杂等。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述不足之处，提供一种用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备。为实现上述目的本技术所采用的技术方案是一种用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，该设备包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置；真空室内上部设置溅射靶架，其下部对应设有样品架，样品架上面设有样品皿，样品架下面设有加热器，真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈，设有真空抽气装置通过管路与真空室联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器控制及冷却循环水系统；其特征是样品架连接设有振动发生器。所述振动发生器为超声波振动器或机械振动器。本技术的有益效果是采用该设备通过调节样品架的摆动频率和超声波或机械振动发生器的振动功率，让每个微颗粒都有机会充分暴露其表面，因此利用超声波或机械振动辅助磁控溅射可显著提高微颗粒表面镀膜的均匀性、纯度、致密性和附着力。本技术结构简单、操作简便，无废水、废气污染，节水节电、节能降耗，并且适用范围非常广泛。例如适于镀膜的微颗粒材料可以是无机材料、有机材料和生物材料等；形状除球形等规则形状外，还可以是空心、多孔或其它各种不规则形状；溅射靶材主要包括银、铜、铝、钴和镍等金属材料。附图说明附图1为本技术结构示意图；图中1真空室，2溅射靶架，3样品架，4样品皿，5加热器，6真空抽气装置，7观察窗，8放气阀，9密封圈，10振动发生器。具体实施方式以下结合图和较佳实施例，对依据本技术提供的具体实施方式、结构、特征详述如下如图1所示，该设备包括真空室1、溅射靶架2、样品架3、样品皿4、加热器5、真空抽气装置6、观察窗7、放气阀8及密封圈9；真空室1内上部设置溅射靶架2，其下部对应设有样品架3，样品架3上面设有样品皿4，样品架3下面设有加热器5，真空室1还设有观察窗7、放气阀8、密封圈9，设有真空抽气装置6通过管路与真空室1联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器柜控制及冷却循环水系统(图中未示出)；其特征是样品架3连接设有振动发生器10。所述振动发生器10为超声波振动器或机械振动器。镀膜时通过调节该设备样品架3的摆动频率和振动发生器10(超声波振动或机械振动)的振动功率，使样品皿4中的每个微颗粒在滚动的同时还能不断地振动，让每个微颗粒都有机会充分暴露其表面，镀膜时再通过改变真空室1内的工作气压、溅射功率、温度和溅射时间等工艺条件，在微颗粒表面沉积上一层或多层金属薄膜。权利要求1.一种用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，该设备包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置；真空室内上部设置溅射靶架，其下部对应设有样品架，样品架上面设有样品皿，样品架下面设有加热器，真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈，设有真空抽气装置通过管路与真空室联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器控制及冷却循环水系统；其特征是样品架连接设有振动发生器。2.根据权利要求1所述的用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，所述振动发生器为超声波振动器或机械振动器。专利摘要本技术涉及用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置；真空室内上部设置溅射靶架，其下部对应设有样品架，样品架上面设有样品皿，样品架下面设有加热器，真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈，设有真空抽气装置通过管路与真空室联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器控制及冷却循环水系统；其特征是样品架连接设有振动发生器。通过调节样品架的摆动频率和超声波或机械振动发生器的振动功率，让每个微颗粒都充分暴露其表面，显著提高微颗粒表面镀金属膜的纯度、均匀性、致密性和附着力。结构简单、操作简便，无废水废气污染，节能降耗且应用广。文档编号C23C14/34GK2848872SQ200520026799公开日2006年12月20日 申请日期2005年7月26日 优先权日2005年7月26日专利技术者沈志刚, 徐政, 俞晓正 申请人:国家纳米技术产业化基地, 北京航空航天大学, 深圳微纳超细材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备，该设备包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置；真空室内上部设置溅射靶架，其下部对应设有样品架，样品架上面设有样品皿，样品架下面设有加热器，真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈，设有真空抽气装置通过管路与真空室联通；并对应连接流量计、分子泵和机械泵，同时配置电器控制及冷却循环水系统；其特征是样品架连接设有振动发生器。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈志刚，徐政，俞晓正，
申请(专利权)人：国家纳米技术产业化基地，北京航空航天大学，深圳微纳超细材料有限公司，
类型：实用新型
国别省市：12[中国|天津]