生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置制造方法及图纸

一种生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置，包括真空室和磁控溅射靶，真空室共有三个，均为卧式结构，按照玻璃输入方向排列分别为真空预抽室（１）、真空镀膜室（２）和过渡室（３），磁控溅射靶安装在真空镀膜室上盖（８）下面，磁控溅射靶包括：冷却水管（１），冷却水管分冷却水入水管和冷却水出水管，两个冷却水管管体分别与磁控溅射靶靶体的两端相通并焊接连接，靶体（１９）内装有极靴（２３）及磁铁（２４），靶体下面固定安装有平面条形靶材（２０），其特征在于：所述真空室玻璃出入口（４）高度为８０ｍｍ～１００ｍｍ，真空室高度４００ｍｍ～４８０ｍｍ；所述磁控溅射靶距输送辊的高度为１００ｍｍ～１６０ｍｍ。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本技术涉及一种生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置，涉及建筑幕墙玻璃镀膜设备。
技术介绍
目前，建材装饰市场，因建筑形体向多元化、异形化发展，使用的热弯幕墙玻璃的面积每年以17％速度增长。据《中国建材报》报导，现在使用的只有在线镀膜热弯玻璃，这种镀膜热弯玻璃是将已镀膜的平面玻璃加高温热弯成所需曲率的镀膜玻璃。其缺点是透光率高，能看到楼房的框架，和磁控溅射镀膜平面玻璃一起使用会出现色差。磁控溅射镀膜玻璃，具有透光率适中，防窍视，可阻挡阳光中的紫外线等优点，被广泛大面积使用，占建筑幕墙玻璃使用面积70％以上。这种玻璃缺点是加高温热弯后玻璃会脱膜。专利号为94237225的技术专利，公开了一种双端磁控溅射离子镀膜机。其权利要求为“一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成，本技术的特征是真空室包括前、后锁室(1)、(7)、溅射区、压差室(4)和由溅射区隔离出来的隔离区，其中在压差室(4)和其前面隔离区和前锁室(1)内设有加热装置(11)，在溅射区内设有溅射靶(12)和偏压装置(13)，在前锁室(1)上开有入口，后锁室(7)上开有出口，在各个真空壁(15)上设有穿越口。”专利号为97235969的技术专利，公开了一种真空溅射镀膜机，其权利要求为一种真空溅射装置，包括一个真空炉，其外联接有扩散泵、机械泵、滑阀真空泵、罗茨真空泵与传动减速装置，炉体顶部设有导气管，其特征是真空炉为立式，炉体底装有弧形导轨，其上装有由传动减速装置控制的可沿弧形导轨移动的靶座，真空炉的炉门为弧形。”专利号为01205975、申请日为2001年3月26日、技术名称为“蒸发磁控真空镀膜机”、专利权人为广东真空设备厂股份有限公司的专利，其权利要求为“一种蒸发磁控真空镀膜机，包括真空机组和真空室，其特征在于，所述的真空机组(1)与真空室(2)连接，所述的真空室(2)的左右两侧设有左大门(3)和右大门(6)，在左大门(3)和右大门(6)上均配装有蒸发装置(5)和磁控装置(4)。”目前，现有的卧式磁控溅射镀膜玻璃生产线只能生产平面磁控溅射镀膜玻璃。其装置中的真空室玻璃出入口尺寸高度为30mm，真空室高度为350mm，磁控溅射靶高度100mm，且磁控溅射靶材为固定高度，不能上下调节。溅射靶源周围有固定挡板，防止溅射源溅射到玻璃的正面，挡板距玻璃只有10mm，因此现有磁控溅射镀膜玻璃生产设备只能通过平面玻璃，而不能通过热弯玻璃，也即只能镀平面磁控溅射镀膜玻璃。已有的磁控溅射镀膜生产线采用二级磁控溅射原理，在真空状态下将阴极材料溅射出来，在经清洗处理的玻璃工件上沉积成膜。采用不同的阴极材料，可在玻璃表面沉积金属或化合物薄膜，镀制成豪华建筑幕墙玻璃，从而使建筑玻璃更具装饰效果，并可根据需要实现遮光、隔热、保温等功能。经过该生产线镀制的镀膜玻璃，可广泛地使用于豪华建筑、室内外美化装饰、工农业用恒温室等场合。生产线采用单端半连续镀膜方式，卧式结构。被加工的玻璃工件在水平的生产线上经过输入、清洗、烘干、抽气、镀膜、充气、输出。真空抽气系统抽气能力强劲，生产节拍快，整条生产线由可编程序控制器实时自动控制，操作简便、控制可靠、膜层均匀。工作原理为磁控溅射是在二极溅射的基础上，在阴极靶中设置一永久磁铁，从N极出来的磁力线穿过阴极的表面上空沿曲线方向再回到阴极表面，到达S极，而形成一个闭合的磁场。从阴极射出来的电子，在磁场和电场中受到洛仑兹力的作用，沿着磁场表面按摆线运动前进，这就大大增大了电子的运动轨迹，因而与Ar分子的碰撞机会大大增加，提高了Ar原子电离效率，从而使溅射速度大大提高，也就是成膜速度快，生产效率高。它比蒸发镀膜具有操作方便、性能稳定可靠、耗电量小、溅射源使用寿命长，镀膜厚度易于控制，膜层均匀牢固，质量好等一系列优点，磁控溅射镀膜是镀制幕墙玻璃的最佳方法。基本结构为生产线由前翻转台、镀前处理室、等待室、翻转台、真空预抽室、真空镀膜室、过渡室、真空抽气系统、磁控溅射源、传动系统、电气系统、水冷系统、气路系统等组成。1、传动系统传动系统是以输送辊为主体的水平的玻璃工件输送线。镀膜部分的传动系统通过变频调速器驱动控制，使玻璃工件平稳地输入生产线进行抽气、镀膜，然后退出，其传送速度可无级调节。2、真空室真空室共有三个，均为卧式结构。按照玻璃工件输入方向排列，分别为真空预抽室、真空镀膜室和过渡室。整套真空室有二个真空锁(翻板阀)，一个在真空预抽室输入端，一个在真空预抽室与真空镀膜室之间，这样使预抽室从大气状态抽至镀膜工作压强的过程中，镀膜室和过渡室的工作压强不会被破坏，保持磁控溅射靶长期处于工作状态。3、真空抽气系统生产线真空抽气系统抽气能力强劲。共配置了H-150型滑阀泵三台，ZJ-1200型罗茨泵一台，ZJ-600型罗茨泵一台，2X-15型旋片泵一台，KT-300型油扩散泵十台，Φ300高真空气动阀十个及Φ200、Φ150气动挡板阀若干个。其中预抽室配置四台KT-300型油扩散泵作主泵，一台ZJ-1200型罗茨泵作前极泵，两台H-150型滑阀泵作粗抽泵，一台2X-15型旋片泵作维持泵；镀膜室和过渡室配置了六台KT-300型油扩散泵作主泵，一台ZJ-600型罗茨泵作前极泵，一台H-150型滑阀泵作排气泵。所有阀门均采用电、气动控制，操作方便。4、磁控溅射源生产线磁控溅射源，采用平面磁控靶结构，共二套，安装于真空镀膜室中。选择不同的阴极材料及不同的排列方向，可镀制出不同的膜层。磁控溅射靶工作时必须确保水冷效果良好。5、电气系统电气系统包括清洗烘干系统、真空抽气系统、传动系统、磁控溅射源的电气控制装置及复合真空计、复合压强控制仪等仪表；电气控制采用先进的工业电脑(PLC)自动控制整个镀膜过程。6、供电电源生产线的工作电源为380V、50H、三相四线，总功率273KW，电压频率的波动应符合国家有关规定。因为电压波动对镀膜质量影响很大，在电源电压波动大或网络电压低的地区用户可采用相应的措施，保证有稳定的电压，才能保证生产出高质量的产品。7、水冷系统生产线的真空系统、磁控溅射靶均需要进行水冷，在自来水得不到充分保证的地方或为了节约用水，用户可配备一台30t/h的冷却塔以保证足够的冷却水和稳定的水温、水压，一般水应保证低于25℃，水压在0.1～0.2MPa，生产线设置压力控制器，当工作过程中，断水(或水压不足)时，压力控制器切断电气控制电源，同时发出报警信号以及引起操作者注意。磁控靶在工作过程中绝对不能断水，否则会损坏靶源，引至重大经济损失。8、气路系统生产线需要压缩空气来操纵真空锁、真空气动阀、充气阀等。没有气源的应配备一台0.3m3/min的空气压缩机，提供压缩空气，气压应保持在0.4～0.6MPa之间，露点最大为2℃。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种能生产磁控溅射热弯镀膜玻璃的装置。本技术是在已有的镀平面玻璃的卧式磁控溅射镀膜玻璃设备的基础上改进而成，通过对设备工艺尺寸参数的改变，使其既能镀平面玻璃，也能镀热弯玻璃。本技术是在已有的磁控溅射镀膜玻璃生产线的基础上改进而成。本技术改进的地方主要是将真空室玻璃出入口高度、穿越口高度、磁控溅射靶高度增大，使热弯玻璃能够穿过；真空室玻璃出入口尺寸高度增加到80mm～本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：鲍冠中，
申请(专利权)人：鲍冠中，
类型：实用新型
国别省市：