电磁体支架、电磁体装置及粒子射线治疗装置制造方法及图纸

技术编号:17964773 阅读:27 留言:0更新日期:2018-05-16 07:39
本发明专利技术的目的在于提供一种电磁体支架,能在配置有电磁体的设备室中缩小电磁体的电源电缆配置空间。电磁体支架(1)的特征在于,包括:支承电磁体(2a)的顶板(11);支撑顶板(11)的多个脚(13);以及固定于多个脚(13)并且配置于顶板(11)的下侧的电缆配置构件(12),电磁体(2a)的电源电缆(4)在带电粒子射束(51)的前进方向上延伸配置的电缆配置部(16)形成在电缆配置构件(12)与顶板(11)之间,电缆配置部(16)的与带电粒子射束(51)的前进方向垂直的方向的长度即电缆配置宽度(宽度方向脚间长度(L1))比电磁体(2a)的与带电粒子射束(51)的前进方向垂直的方向的宽度(Mw)要长。

Electromagnet bracket, electromagnet device and particle radiation therapy device

The purpose of the invention is to provide an electromagnet bracket capable of reducing the power cable configuration space of the electromagnet in the equipment room equipped with an electromagnet. The electromagnet bracket (1) is characterized in that the roof (11) of the supporting electromagnet (2a); a plurality of feet (13) supporting the roof (11); and a cable configuration member (12) fixed to a plurality of feet (13) and disposed at the lower side of the roof (11), and the electric power cable (4) of the electromagnet (4) extended in the forward direction of charged particle beam (51)). The cable configuration section (16) is formed between the cable configuration member (12) and the roof (11). The length of the cable configuration section (16) is perpendicular to the forward direction of the charged particle beam (51), the width of the cable configuration width (the width direction (L1)) is longer than the width (Mw) of the direction perpendicular to the forward direction of the electromagnet (2a) with the charged particle beam (51). .

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】电磁体支架、电磁体装置及粒子射线治疗装置
本专利技术涉及对用于例如研究、医疗、工业领域所使用的加速器、射束运输系统等的电磁体进行支承的电磁体支架。
技术介绍
一般而言,癌症治疗等所使用的粒子射线治疗装置包括:产生带电粒子射束的射束产生装置;与射束产生装置相连并对产生的带电粒子射束进行加速的加速器;对加速至加速器中所设定的能量后出射的带电粒子射束进行运输的射束运输系统;以及设置于射束运输系统的下游且用于将带电粒子射束照射到照射对象的粒子射线照射装置。为了从任意的角度向照射对象照射带电粒子射束,粒子射线照射装置设置于三维照射用的旋转机架上。利用同步加速器等加速器(圆形加速器)使带电粒子环绕加速,从其环绕轨道取出被加速至高能量的带电粒子(质子、碳离子等),成为射束状的带电粒子(也称为带电粒子射束、粒子射线)由射束运输系统进行运输从而利用于照射到所希望的对象物的物理实验、癌症的治疗等粒子射线治疗。在利用加速后的带电粒子进行的癌症治疗、即所谓的粒子射线治疗中,在进行治疗时,为了避开重要器官、防止对正常组织带来损伤,一般会改变照射方向。为了从任意的方向对患者进行照射,使用设置于上述的旋转机架的粒子射线照射装置。同步加速器等加速器由带电粒子射束进行环绕的环状的加速管、用于控制带电粒子射束的环绕轨道的偏转电磁体、四极电磁体、利用由高频加速电压产生的电场对带电粒子射束进行加速的加速空洞、将带电粒子射束导入加速管内的入射装置以及将加速后的带电粒子射束取出到外部的出射装置等构成。加速器的偏转电磁体、四极电磁体等由支架所支承(例如专利文献1)。此外,对于射束运输系统,偏转电磁体、四极电磁体等也由支架所支承。如上所述,同步加速器等加速器由偏转电磁体、四极电磁体等多个电磁体、加速空洞、入射装置、出射装置等构成,并且也设置有测量带电粒子射束的状态的射束测量设备等。在配置了加速器、射束运输系统的设备室中,配置有大量构成加速器的设备及测量带电粒子射束的状态的射束测量设备等的电缆。特别是对构成加速器的设备提供电流的电缆(电源电缆)较粗,因此需要宽敞的电缆设置空间。例如,专利文献2中记载了对励磁电流不同的每个种类的电磁体设置独立的电源、并对每个种类的电磁体铺设了电缆的加速器的电磁体供电系统。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利特开平6-132098号公报(0065段、图7、图8)专利文献2:日本专利特开平7-176400号公报(0002段、图3)
技术实现思路
专利技术所要解决的问题专利文献2的加速器的电磁体供电系统中未记载对构成加速器的设备进行支承的支架。通常,具有大量对电磁体进行供电的电缆(电源电缆),在配置有加速器等的设备室中,配置有对例如电源电缆进行收纳的电缆架等。电缆架等不得不与由支架支承的加速器的构成设备隔开一定的距离并以并行方式配置,需要在设备室中确保该电缆架等、即电源电缆设置空间。因此,存在如下问题:加速器等的构成设备、射束测量设备等越多,则电源电缆设置空间变得越大,设备室变得越大。此外,存在如下问题:在电缆架与电磁体分离的情况下,需要用于从电缆架引入电磁体的其他电缆架,从而电源电缆设置空间进一步变大,设备室进一步变大。本专利技术是为了解决上述问题而完成的,其目的在于,提供一种电磁体支架,能在配置有电磁体的设备室中,缩小电磁体的电源电缆配置空间。用于解决技术问题的技术方案本专利技术的电磁体支架的特征在于,包括:支承电磁体的顶板;支撑顶板的多个脚;以及固定于多个脚并且配置于顶板的下侧的电缆配置构件,电磁体的电源电缆在带电粒子射束的前进方向上延伸配置的电缆配置部形成在电缆配置构件与顶板之间,电缆配置部的与带电粒子射束的前进方向垂直的方向的长度即电缆配置宽度比电磁体的与带电粒子射束的前进方向垂直的方向的宽度要长。专利技术效果本专利技术的电磁体支架具备与带电粒子射束的前进方向垂直的电缆配置宽度比电磁体的宽度要长的电缆配置部,因此在配置有电磁体的设备室中,能在电缆配置部配置电源电缆,能缩小电磁体的电源电缆配置空间。附图说明图1是表示本专利技术实施方式1所涉及的电磁体支架及电磁体装置的图。图2是图1的左侧视图。图3是图1的电磁体支架的剖视图。图4是表示本专利技术实施方式1所涉及的多个电磁体装置的图。图5是图4的左侧视图。图6是表示本专利技术实施方式1所涉及的粒子射线治疗装置的图。图7是表示本专利技术实施方式1所涉及的电磁体装置及起重机构的图。图8是图7的左侧视图。具体实施方式实施方式1.图1是表示本专利技术实施方式1所涉及的电磁体支架及电磁体装置的图,图2是图1的左侧视图。图3是图1的电磁体支架的剖视图,是在设置于电磁体支架1的顶板11的开口15处剖开后的剖视图。图4是本专利技术实施方式1所涉及的多个电磁体装置的图,图5是图4的左侧视图。图6是表示本专利技术实施方式1所涉及的粒子射线治疗装置的图。图7是本专利技术实施方式1所涉及的电磁体装置及起重机构的图,图8是图7的左侧视图。电磁体装置10包括将磁场作用于带电粒子射束的多个电磁体2a、2b、2c、以及对上述电磁体2a、2b、2c进行支承的电磁体支架1。电磁体支架1包括设置有多个电磁体2a、2b、2c的顶板11、放置连接到多个电磁体2a、2b、2c的多个电源电缆4的电源电缆配置构件12、支撑顶板11的多个脚13、及设置于脚13的底部的多个底板14。电磁体支架1的脚13是用于支承电磁体的柱,其根数根据电磁体的大小、重量及搭载数的不同而不同,但一般为4根到6根。此外,电磁体支架1的材质一般使用铁。顶板11设有对多个电磁体2a、2b、2c进行支承的多个电磁体支承部5a、5b、5c、以及供连接到多个电磁体2a、2b、2c的电源电缆4通过的开口15。电磁体2a、2b、2c分别搭载于电磁体支承部5a、5b、5c。图1~图3中,示出了与所搭载的三个电磁体2a、2b、2c相对应地设置三个开口15的示例。电磁体2a的电源电缆连接端子3a、3b分别与通过了开口15的电源电缆4相连接。同样地,电磁体2b的电源电缆连接端子3c、3d分别与通过了开口15的电源电缆4相连接。电磁体2c的电源电缆连接端子3e、3f分别与通过了开口15的电源电缆4相连接。另外,图1~图5中,省略了电源电缆4的芯线与电磁体的电源电缆连接端子的连接部分。搭载于电磁体支架1的电磁体2a、2b、2c的电源电缆4配置于电源电缆配置部16(参照图2)。电源电缆配置部16是电源电缆配置构件12与顶板11之间的脚13的内侧区域。图1~图3中,示出了6根电源电缆4放置于电源电缆配置构件12的示例。如图4、图5所示,电源电缆配置部16也能配置搭载于其他的电磁体支架1的电磁体的电源电缆4。对于电源电缆配置部16的宽敞度(容量),按每个电磁体支架1确保与连接至构成加速器等的电磁体的电源电缆4的根数相对应的宽敞度。即,在配置于电源电缆配置部16的电源电缆4的数量较多的情况下,延长设置在与电源电缆4的延伸方向垂直的方向上的脚13间的长度(脚间长度)。此外,在对电源电缆4进行重叠配置的情况下,延长电源电缆配置构件12与顶板11之间的间隔。在接近电磁体电源的电磁体支架1上配置有较多的电源电缆4,因此该电磁体支架1的电源电缆配置部16设得较宽敞(设为大容量)。在远离电磁体电源的电磁体支架1上,所配置的电源电本文档来自技高网
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电磁体支架、电磁体装置及粒子射线治疗装置

【技术保护点】
一种电磁体支架,该电磁体支架对将磁场作用于带电粒子射束的电磁体进行支承,其特征在于,包括:支承所述电磁体的顶板;支撑所述顶板的多个脚;以及固定于多个所述脚并且配置于所述顶板的下侧的电缆配置构件,所述电磁体的电源电缆在所述带电粒子射束的前进方向上延伸配置的电缆配置部形成在所述电缆配置构件与所述顶板之间,所述电缆配置部的与所述带电粒子射束的前进方向垂直的方向的长度即电缆配置宽度比所述电磁体的与所述带电粒子射束的前进方向垂直的方向的宽度要长。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电磁体支架,该电磁体支架对将磁场作用于带电粒子射束的电磁体进行支承,其特征在于,包括:支承所述电磁体的顶板;支撑所述顶板的多个脚;以及固定于多个所述脚并且配置于所述顶板的下侧的电缆配置构件,所述电磁体的电源电缆在所述带电粒子射束的前进方向上延伸配置的电缆配置部形成在所述电缆配置构件与所述顶板之间,所述电缆配置部的与所述带电粒子射束的前进方向垂直的方向的长度即电缆配置宽度比所述电磁体的与所述带电粒子射束的前进方向垂直的方向的宽度要长。2.如权利要求1所述的电磁体支架,其特征在于,所述顶板具有供所述电磁体的所述电源电缆从所述电缆配置部通过至顶板的上侧的开口。3.如权利要求1或2所述的电磁体支架,其特征在于,所述顶板具有对吊起该电磁体支架的线进行连接的线连接器具。4.如权利要求1至3的任一项所述的电磁体支架,其特征在于,所述电缆配置部的所述电缆配置宽度是所述电磁体的与所述带电粒子射束的前进方向垂直的方向的宽度的1.5倍以上。5.如权利要求1至4的任一项所述的电磁体支架,其特征在于,所述顶板具有对配置于所述带电粒子射束的前进方向上的多个所述电磁体进...

【专利技术属性】
技术研发人员:井上博光小畑顺
申请(专利权)人:三菱电机株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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