涂胶装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种涂胶装置包括：涂胶罐、涂胶刀头，三通模块、清洗罐和控制模块。涂胶罐中的胶材料通过涂胶刀头进行涂覆，三通模块的第一端与涂胶罐连通，三通模块的第二端与涂胶刀头连通，三通模块的第三端与清洗罐连通；控制模块与三通模块连接，用于控制三通模块通路切换。上述涂胶装置的清洗罐在工作时，填装清洗剂。在需要清洁涂胶刀头时，通过的控制模块控制所述三通模块进行通路切换，使得清洗罐和所述涂胶刀头连通一定时间即可完成涂胶刀头的清洁工作，操作简单，方便快捷，同时也提高了涂胶品质。

Gumming device

The invention relates to a glue coating device, which comprises a glue spreading tank, a glue spreading knife head, a three way module, a cleaning tank and a control module. The glue material in the gelatinized tank is coated through the gummed cutter head, the first end of the three - way module is connected with the coating tank, the second end of the three - way module is connected with the glue cutter head, the third end of the three - pass module is connected with the cleaning tank, and the control module is connected with the three module to control the switch of the three pass module. The cleaning tank of the above glue coating device is filled with cleaning agent when working. When it is necessary to clean the head of the coating, the control module is controlled by the control module to control the three pass module, so that the cleaning tank and the glue cutter head can be connected for a certain time to complete the cleaning work of the glue cutter head, and the operation is simple, convenient and quick, and the quality of the coating is also improved.

【技术实现步骤摘要】
涂胶装置
本专利技术涉及涂胶的
，特别是涉及一种涂胶装置。
技术介绍
目前，显示器件的发展十分迅速，伴随着半导体的发展和规模也越来越快；国内已经有11代面板生产线，也是世界上最大的生产线，其尺寸是3370mmx2940mm玻璃基板，如此大尺寸的半导体制作，其工艺要求很高，其中半导体工艺制作过程中，黄光制程是大家所熟悉的也是必须的制程工序，它是一种将基板进行涂胶、软烘、曝光、显影、刻蚀、脱膜及硬烤，使其光刻出一定图形的工艺方法。这里的涂胶又是第一道工序，它是黄光制程的基础，也是决定半导体制作的关键因素之一。可见，涂胶是半导体制作过程中一道非常重要的工序，因为在产品制作过程中要求光刻后需得到均匀的线宽，尤其是现在随着基板尺寸的增大，对光刻效果的要求会更加严格，这样对胶材料的涂覆工艺要求也会越来越严格。传统的涂胶装置在涂胶过程中，涂胶刀头经常堵塞导致涂胶效果不良，传统方法是人工取下涂胶刀头进行清洁，效率较低。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种可自清洁的涂胶装置。一种涂胶装置，包括：涂胶罐、涂胶刀头，所述涂胶罐中的胶材料通过涂胶刀头进行涂覆，所述涂胶装置还包括：三通模块、清洗罐和控制模块，所述三通模块的第一端与所述涂胶罐连通，所述三通模块的第二端与所述涂胶刀头连通，所述三通模块的第三端与所述清洗罐连通；所述第一控制模块与所述三通模块连接，用于控制所述三通模块通路切换。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括光学检测模块，用于检测所述涂胶刀头涂覆的胶层厚度和色差中至少一种，并在胶层厚度或色差达到第一预设阈值时发送第一控制信号；所述控制模块用于响应所述第一控制信号，驱动所述三通模块切换通路，使得所述清洗罐与所述涂胶刀头连通第一预设时间。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括开关检测模块，用于在所述涂胶罐停止输出所述胶材料的时间达到第二预设时间时发送第一控制信号；所述第一控制模块用于响应所述第一控制信号，驱动所述三通模块切换通路，使得所述清洗罐与所述涂胶刀头连通第一预设时间。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括排气罐和废液罐，所述排气罐安装在所述涂胶罐和所述三通模块之间，所述废液罐与所述排气罐连通，所述废液罐与所述排气罐之间还设有阀门。在其中一个实施例中，所述三通模块为三通电磁阀。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括第二控制模块，所述第二控制模块安装在所述排气罐和所述涂胶罐之间，用于控制所述涂胶罐中所述胶材料的输出和所述涂胶罐中的压力大小。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括位移检测模块，所述位移检测模块与排气罐相连接，用于检测所述排气罐中所述胶材料的高度。在其中一个实施例中，所述涂胶罐还包括气体输入阀门，用于控制所述涂胶罐的外部气体的输入。在其中一个实施例中，所述涂胶装置还包括过滤器，所述过滤器安装在所述排气罐和三通模块之间，用于过滤所述胶材料中的杂质。在其中一个实施例中，其特征在于，所述涂胶装置还包括压力检测模块，所述压力检测模块与所述过滤器连接，用于检测所述过滤器中的压力。上述涂胶装置的清洗罐在工作时，填装清洗剂。在需要清洁涂胶刀头时，通过的控制模块控制所述三通模块进行通路切换，使得清洗罐和所述涂胶刀头连通一定时间即可完成涂胶刀头的清洁工作，操作简单，方便快捷，同时也提高了涂胶品质。本专利技术涂胶装置中的光学检测模块用于发现涂胶异常情况，也即是发现涂胶刀头是否有堵塞情况发生，并在发生堵塞时，通过控制模块控制所述三通模块进行通路切换，实现涂胶刀头的自动清洁，进一步提高了工作效率，实时保障涂胶品质。附图说明图1为本专利技术一实施例涂胶装置的功能模块示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件；所述“连接”包括物理连接与通讯连接。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。例如，如图1所示，一种涂胶装置100，包括：涂胶罐120、涂胶刀头180。涂胶罐120通过输入的气体把胶材料推送至涂胶刀头180，由涂胶刀头180进行涂胶。涂胶装置100还包括清洗罐150、三通模块160和第一控制模块170。三通模块160的第一端与涂胶罐120连通，三通模块160的第二端与涂胶刀头180连通，三通模块的第三端与清洗罐150连通。第一控制模块170与三通模块160连接，用于控制三通模块160通路切换。清洗罐150用于填装清洗剂。当进行涂胶工作时，涂胶罐120通过三通模块160的第一端口与涂胶刀头180连通，涂胶刀头180与清洗罐150为断开状态，使胶材料源源不断供给涂胶刀头180进行涂覆。当涂胶过程中发生异常情况时，由第一控制模块170切换通路，断开涂胶刀头180与涂胶罐120的连接，使涂胶刀头180与清洗罐150连通，清洗罐150中的清洗剂对涂胶刀头180进行清洗，清洗完毕后继续开展涂胶工作。保证了涂胶良率和膜层质量。保证涂胶工作的质量。为了保证膜层涂覆的质量。本专利技术的涂胶装置100还包括与第一控制模块170连接的光学检测模块190，光学检测模块190用于检测涂胶刀头180涂覆的胶层厚度和色差中至少一种，并在胶层厚度或色差达到第一预设阈值时发送第一控制信号。例如，所述第一预设阈值包括第一预设厚度阈值与第一预设色差阈值，光学检测模块190用于检测涂胶刀头180涂覆的胶层厚度和色差，并在检测得到的胶层厚度达到第一预设厚度阈值及/或检测得到的色差达到第一预设色差阈值时发送第一控制信号。又如，所述第一预设阈值包括第一预设厚度阈值与第一预设色差阈值，光学检测模块用于检测涂胶刀头涂覆的胶层厚度和色差，并在检测得到的胶层厚度达到第一预设厚度阈值或检测得到的色差达到第一预设色差阈值时发送第一控制信号，即胶层厚度达到第一预设厚度阈值或色差达到第一预设色差阈值中的任一项成立则发送第一控制信号。第一控制模块170用于响应第一控制信号，驱动三通模块160切换通路，使得清洗罐150与涂胶刀头180连通第一预设时间，实现对涂胶刀头180的自动清洗。这样，当涂胶胶层发生异常时，光学检测模块发送第一控制信号给第一控制模块，对涂胶刀头开展清洗，避免了涂胶刀头的堵塞，保证了膜层涂覆的质量，提高了工作效率。例如，如图1所示，一种涂胶装置100，三通模块160的第一端与涂胶罐120连通，三通模块160的第二端与涂胶刀头180连通，三通模块的第三端与清洗罐15本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶装置，包括：涂胶罐、涂胶刀头，所述涂胶罐中的胶材料通过涂胶刀头进行涂覆，其特征在于，所述涂胶装置还包括：三通模块、清洗罐和控制模块，所述三通模块的第一端与所述涂胶罐连通，所述三通模块的第二端与所述涂胶刀头连通，所述三通模块的第三端与所述清洗罐连通；所述第一控制模块与所述三通模块连接，用于控制所述三通模块通路切换。

【技术特征摘要】
1.一种涂胶装置，包括：涂胶罐、涂胶刀头，所述涂胶罐中的胶材料通过涂胶刀头进行涂覆，其特征在于，所述涂胶装置还包括：三通模块、清洗罐和控制模块，所述三通模块的第一端与所述涂胶罐连通，所述三通模块的第二端与所述涂胶刀头连通，所述三通模块的第三端与所述清洗罐连通；所述第一控制模块与所述三通模块连接，用于控制所述三通模块通路切换。2.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述涂胶装置还包括光学检测模块，用于检测所述涂胶刀头涂覆的胶层厚度和色差中至少一种，并在胶层厚度或色差达到第一预设阈值时发送第一控制信号；所述第一控制模块用于响应所述第一控制信号，驱动所述三通模块切换通路，使得所述清洗罐与所述涂胶刀头连通第一预设时间。3.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述涂胶装置还包括开关检测模块，用于在所述涂胶罐停止输出所述胶材料的时间达到第二预设时间时发送第一控制信号；所述第一控制模块用于响应所述第一控制信号，驱动所述三通模块切换通路，使得所述清洗罐与所述涂胶刀头连通第一预设时间。4.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于，所述涂...

【专利技术属性】
技术研发人员：仝建军，王学雷，黄伟东，李建华，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44