The utility model discloses a plasma polishing device, which consists of a reaction slot, a DC stabilized voltage power supply and a liquid circulation mechanism, which is characterized in that the DC voltage regulator is a high frequency power supply, the reaction slot is made of iron plate and two PPR plates, the iron plate is between two pieces of PPR plate, and the iron plate and the two PPR plate are tight. The inner wall of the reaction tank is surrounded by an installation frame, and a cathode plate can be installed and installed on the installation frame. The liquid circulation mechanism includes a filter bucket, a pump and a pre pump filter connected with the reaction tank. A valve is provided in the water source pipe of the reaction tank, and a floating ball and a cathode plate are provided in the reaction tank. The heating rod is vertically inserted in the reaction slot, the floating ball is connected with one end of the floating ball branch, and the other end of the floating ball branch is connected with the switch of the valve and the power switch of the heating rod, and the conversion rate of electric energy is higher and the automation is higher.
【技术实现步骤摘要】
一种等离子抛光装置
本技术涉及金属表面处理装置
,特别涉及一种等离子抛光装置。
技术介绍
等离子抛光是工件与抛光液中通电脱离的金属离子吸附在工件表面,工件凸起处直流电流冲击高而去除快,电流流动直流电流冲击,凹凸不断变化,粗糙表面逐渐被整平,从而达到工件增大表面光亮度和平整度的效果。但是现有技术中,经过长时间抛光,反应槽内壁容易被腐蚀,阴极槽体内壁易脏不易拆洗,导电性变弱;抛光过程中会产生大量的粉尘,抛光液容易浑浊,抛光液的浑浊度达到一定程度后设备就会失去抛光功能,需要频繁更换抛光液;当反应槽内需要注水时,需要专人监控,到达指定液位必须人工关闭阀门开关,还得人工打开加热棒的电源开关,达不到自动控制的效果;原有的1:1型变压器电源在长时间的工作时,其电能转化率只有60-70%。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种电能转化率更高、更智能的等离子抛光装置。为了解决上述目的,本技术采用的技术方案是:一种等离子抛光装置,包括反应槽、直流稳压电源和液体循环机构,其特征在于,所述直流稳压电源为高频电源,所述反应槽上方设有自动上下升降的物料架,所述物料架与电源正极连接,所述反应槽由铁板和两块PPR板制成,所述铁板设于两块PPR板之间,所述铁板和两块PPR板紧密贴合设置,所述反应槽内设有抛光液,所述反应槽的内壁环绕设有安装框架,所述安装框架与电源负极连接,所述安装框架上可装卸地设有阴极板,所述阴极板浸入抛光液中,所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵,所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋,所述过滤袋的过滤孔径为1微米,所述反应槽设有进水口一 ...
【技术保护点】
一种等离子抛光装置,包括反应槽、直流稳压电源和液体循环机构,其特征在于,所述直流稳压电源为高频电源,所述反应槽上方设有自动上下升降的物料架,所述物料架与电源正极连接,所述反应槽由铁板和两块PPR板制成,所述铁板设于两块PPR板之间,所述铁板和两块PPR板紧密贴合设置,所述反应槽内设有抛光液,所述反应槽的内壁环绕设有安装框架,所述安装框架与电源负极连接,所述安装框架上可装卸地设有阴极板,所述阴极板浸入抛光液中,所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵,所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋,所述过滤袋的过滤孔径为1微米,所述反应槽设有进水口一和进水口二,所述反应槽的出水口通过水管一与过滤桶的进水口连接,所述反应槽的进水口一通过水管二与过滤桶的出水口连接,所述过滤桶的进水口设置在过滤桶上部,所述过滤桶的出水口设置在过滤桶下部,所述水泵与水管一连接,所述水管一中设有泵前过滤器,所述反应槽的进水口二与水源管道连接,所述水源管道中设有阀门,所述反应槽内设有浮球、阴极板和可调节加热长度的加热棒,所述加热棒竖直插设于反应槽中,所述浮球与浮球支杆一端连接,所述浮球支杆另一端分别与阀 ...
【技术特征摘要】
1.一种等离子抛光装置,包括反应槽、直流稳压电源和液体循环机构,其特征在于,所述直流稳压电源为高频电源,所述反应槽上方设有自动上下升降的物料架,所述物料架与电源正极连接,所述反应槽由铁板和两块PPR板制成,所述铁板设于两块PPR板之间,所述铁板和两块PPR板紧密贴合设置,所述反应槽内设有抛光液,所述反应槽的内壁环绕设有安装框架,所述安装框架与电源负极连接,所述安装框架上可装卸地设有阴极板,所述阴极板浸入抛光液中,所述液体循环机构包括与反应槽连通的过滤桶、水管一、水管二和水泵,所述过滤桶内设有可拆卸的漏斗型过滤袋,所述过滤袋的过滤孔径为1微米,所述反应槽设有进水口一和进水口二,所述反应槽的出水口通过水管一与过滤桶的进水口连接,所述反应槽的进水口一通过水管二与过滤桶...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱方舟,
申请(专利权)人:温州市荣迅自动化设备科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
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