一种长余辉材料的检测方法技术

技术编号:17909942 阅读:38 留言:0更新日期:2018-05-10 16:52
本发明专利技术提供一种长余辉材料的检测方法,包括:(1)取待测的长余辉材料,进行研磨;(2)对长余辉材料进行XRD检测;(3)对长余辉材料进行激发光谱检测和发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中分别进行激发光谱检测和发射光谱检测,得到长余辉材料的激发光谱和发射光谱;对长余辉材料的激发光谱和发射光谱进行分析,确定长余辉材料的发光性质;(4)对长余辉材料进行余辉发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行余辉发射光谱检测,得到长余辉材料的余辉发射光谱;对长余辉材料的余辉发射光谱进行分析,确定长余辉材料的余辉性质。本发明专利技术方法能够减小长余辉材料检测误差、提高实验效率。

【技术实现步骤摘要】
一种长余辉材料的检测方法
本专利技术涉及发光材料
,尤其涉及一种长余辉材料的检测方法。
技术介绍
长余辉发光材料简称长余辉材料,俗称夜光粉,是一种能量储存材料,它能够吸收紫外和可见光,并把一部分能量储存起来,而在外界停止激发后,又能够缓慢地将所储存能量以可见光的形式释放出来,并可持续数小时,所以被称作长余辉材料。由于长余辉发光材料能够吸收并储存外界能量然后缓慢释放能量,蓄能和发光过程能够多次反复进行,是一种“绿色光源材料”,所以又被称为蓄光型发光材料。在能源日益短缺的今天,因长余辉材料在余辉发光时消耗的是自身储存的能量,不需要外界供给能量,使得该材料在某些特定环境下具有不可替代的作用。长余辉发光材料一般是由作为材料主体化合物的基质和掺杂物组成。基质材料常见为硫化物、铝酸盐、硅酸盐和硫氧化物等。掺杂物现阶段采用最多的激活剂为稀土离子,如镨、铕、镝等离子。但是,对于新研制长余辉材料的表征和检测分析还存在一定的困难。
技术实现思路
本专利技术主要针对上述技术问题,提出一种长余辉材料的检测方法,能够减小长余辉材料检测误差、排除实验干扰,提高实验效率,为长余辉材料的成分、发光性能、余辉性质的分析提供可靠的依据。本专利技术提供一种长余辉材料的检测方法,包括:(1)取待测的长余辉材料,进行研磨;(2)对长余辉材料进行XRD检测:将研磨后的长余辉材料置于XRD检测仪中进行检测,得到长余辉材料的XRD图谱,将XRD图谱与标准卡片进行比对,确定长余辉材料的基质成分;(3)对长余辉材料进行激发光谱检测和发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中分别进行激发光谱检测和发射光谱检测,得到长余辉材料的激发光谱和发射光谱;对长余辉材料的激发光谱和发射光谱进行分析,确定长余辉材料的发光性质;(4)对长余辉材料进行余辉发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行余辉发射光谱检测,得到长余辉材料的余辉发射光谱;对长余辉材料的余辉发射光谱进行分析,确定长余辉材料的余辉性质。优选的,所述XRD检测仪的工作参数为:使用金属Cu靶(辐射源为K线,λ=0.15406nm)作为阳极,仪器阳极加速电压设置为40KV,工作电流为30mA,扫描速度为2°/min,选用的2θ角扫描步长为0.02°,测量的2θ角度范围为20°~60°。优选的,所述荧光光谱仪的工作参数为:用150W的氙灯作为激发光源,R928光电倍增管作为检测器,分辨率为1.0nm,扫描速度为2400nm/min。优选的,还包括:根据长余辉材料的激发光谱和发射光谱得到长余辉材料的色坐标,以进行长余辉材料的色度学分析。优选的,还包括:对长余辉材料进行荧光衰减检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行荧光衰减检测,得到长余辉材料的荧光衰减曲线;对长余辉材料的荧光衰减曲线进行分析,确定长余辉材料的荧光衰减性质。优选的,还包括:在不同温度下对长余辉材料进行发射光谱检测,确定温度对长余辉材料发光性质的影响。本专利技术提供的一种长余辉材料的检测方法,本专利技术方法简单、成本低廉,能够减小长余辉材料检测误差、排除实验干扰,提高实验效率,为长余辉材料的成分、发光性能、余辉性质的分析提供全面、可靠的依据。具体实施方式为使本专利技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚,下面结合实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术,而非对本专利技术的限定。本专利技术提供一种长余辉材料的检测方法,包括:(1)取待测的长余辉材料,进行研磨;(2)对长余辉材料进行XRD检测:将研磨后的长余辉材料置于XRD检测仪中进行检测,得到长余辉材料的XRD图谱,将XRD图谱与标准卡片进行比对,确定长余辉材料的基质成分;(3)对长余辉材料进行激发光谱检测和发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中分别进行激发光谱检测和发射光谱检测,得到长余辉材料的激发光谱和发射光谱;对长余辉材料的激发光谱和发射光谱进行分析,确定长余辉材料的发光性质;(4)对长余辉材料进行余辉发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行余辉发射光谱检测,得到长余辉材料的余辉发射光谱;对长余辉材料的余辉发射光谱进行分析,确定长余辉材料的余辉性质。优选的,所述XRD检测仪的工作参数为:使用金属Cu靶(辐射源为K线,λ=0.15406nm)作为阳极,仪器阳极加速电压设置为40KV,工作电流为30mA,扫描速度为2°/min,选用的2θ角扫描步长为0.02°,测量的2θ角度范围为20°~60°。优选的,所述荧光光谱仪的工作参数为:用150W的氙灯作为激发光源,R928光电倍增管作为检测器,分辨率为1.0nm,扫描速度为2400nm/min。优选的,还包括:根据长余辉材料的激发光谱和发射光谱得到长余辉材料的色坐标,以进行长余辉材料的色度学分析。优选的,还包括:对长余辉材料进行荧光衰减检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行荧光衰减检测,得到长余辉材料的荧光衰减曲线;对长余辉材料的荧光衰减曲线进行分析,确定长余辉材料的荧光衰减性质。优选的,还包括:在不同温度下对长余辉材料进行发射光谱检测,确定温度对长余辉材料发光性质的影响。本专利技术提供的一种长余辉材料的检测方法,本专利技术方法简单、成本低廉,能够减小长余辉材料检测误差、排除实验干扰,提高实验效率,为长余辉材料的成分、发光性能、余辉性质的分析提供全面、可靠的依据。最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本专利技术的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本专利技术进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换,并不使相应技术方案的本质脱离本专利技术各实施例技术方案的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种长余辉材料的检测方法,其特征在于,包括:(1)取待测的长余辉材料,进行研磨;(2)对长余辉材料进行XRD检测:将研磨后的长余辉材料置于XRD检测仪中进行检测,得到长余辉材料的XRD图谱,将XRD图谱与标准卡片进行比对,确定长余辉材料的基质成分;(3)对长余辉材料进行激发光谱检测和发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中分别进行激发光谱检测和发射光谱检测,得到长余辉材料的激发光谱和发射光谱;对长余辉材料的激发光谱和发射光谱进行分析,确定长余辉材料的发光性质;(4)对长余辉材料进行余辉发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行余辉发射光谱检测,得到长余辉材料的余辉发射光谱;对长余辉材料的余辉发射光谱进行分析,确定长余辉材料的余辉性质。

【技术特征摘要】
1.一种长余辉材料的检测方法,其特征在于,包括:(1)取待测的长余辉材料,进行研磨;(2)对长余辉材料进行XRD检测:将研磨后的长余辉材料置于XRD检测仪中进行检测,得到长余辉材料的XRD图谱,将XRD图谱与标准卡片进行比对,确定长余辉材料的基质成分;(3)对长余辉材料进行激发光谱检测和发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中分别进行激发光谱检测和发射光谱检测,得到长余辉材料的激发光谱和发射光谱;对长余辉材料的激发光谱和发射光谱进行分析,确定长余辉材料的发光性质;(4)对长余辉材料进行余辉发射光谱检测:将研磨后的长余辉材料置于荧光光谱仪中进行余辉发射光谱检测,得到长余辉材料的余辉发射光谱;对长余辉材料的余辉发射光谱进行分析,确定长余辉材料的余辉性质。2.根据权利要求1所述的长余辉材料的检测方法,其特征在于,所述XRD检测仪的工作参数为:使用金属Cu靶(辐射源为K线,λ=0.15406nm)作为阳极,仪器阳极加速电压设置为40KV,工...

【专利技术属性】
技术研发人员:谷亚男
申请(专利权)人:大连智讯科技有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁,21

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