保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃。一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。上述保护膜在420nm～670nm处透射率大于96％，能够使保护膜经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，防刮效果好。

Protective films, composite materials, electronic devices and automotive glass.

The utility model relates to a protective film, a composite material, an electronic device and an automobile glass. A protective film is characterized in that the first five oxidation two niobium layer, the first silica layer, the 25 oxide two niobium layer, the second silica layer and the boron nitride layer are stacked, and the thickness of the first five oxidation two niobium layer is 18NM to 28nm, the thickness of the first silica layer is 16nm to 26nm, and the 25 oxidation is described. Two the thickness of the niobium layer is 50nm to 60NM, and the thickness of the second silicon dioxide layer is 89nm to 99nm, and the thickness of the boron nitride layer is 5nm to 15nm. The transmittance of the protective film above 420nm ~ 670nm is more than 96%, which can make the protective film withstand 10000 times of 9H pencil 1KG pressure friction and 100 times the scraping of the American tool blade under the pressure of 1 kilograms, and the effect is good.

【技术实现步骤摘要】
保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃
本技术涉及一种保护膜、复合材料、电子装置及汽车玻璃。
技术介绍
随着社会的发展，消费者对购买的产品的外部耐磨、防刮伤要求越来越高，尤其是有玻璃、PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)、PC(聚碳酸酯)、PS(聚苯乙烯)等具有透光作用的产品。例如手机、平板、数码相机、笔记本、汽车玻璃等。现阶段，消费者一般采用在原有部件上贴膜或使用保护套的形式来防止其刮伤损坏。贴膜采用的材料为一般为塑料，如PP(聚丙烯)、PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)等。然而因这类塑料贴膜的硬度较差，常常容易留下刮痕而影响显示效果和产品的美观，而且贴膜之后，产品的透射效果也受到影响。更突出的问题是，当受到较大的刮擦时，很有可能会伤及产品原有的部件，不能很好地保护数码产品。
技术实现思路
基于此，有必要针对的透光产品的耐磨与刮伤问题，提供一种保护膜、复合材料、玻璃及显示屏。一种保护膜，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为20nm～26nm，所述第一二氧化硅层厚度为18nm～24nm、所述第二五氧化二铌层厚度为52nm～58nm、所述第二二氧化硅层厚度为91nm～97nm，所述氮化硼层厚度为7nm～13nm。在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为22nm～24nm，所述第一二氧化硅层厚度为20nm～22nm，所述第二五氧化二铌层厚度为54nm～56nm，所述第二二氧化硅层厚度为93nm～95nm，所述氮化硼层厚度为8nm～12nm。在其中一个实施方式中，所述第一五氧化二铌层厚度为23nm，所述第一二氧化硅层厚度为21nm，所述第二五氧化二铌层厚度为55nm，所述第二二氧化硅层厚度为94nm，所述氮化硼层厚度为10nm。一种复合材料，包括基底及层叠于所述基底表面的上述保护膜。在其中一个实施方式中，所述基底为玻璃基底。在其中一个实施方式中，所述基底具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面及所述第二表面均层叠有所述保护膜。在其中一个实施方式中，所述基底的厚度为0.2mm～10mm。一种电子装置，包括显示屏，所述显示屏上层叠有上述保护膜。一种汽车玻璃，包括玻璃基底及层叠于所述玻璃基底表面的上述保护膜。上述保护膜，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层。五氧化二铌、二氧化硅层及氮化硼层形成了高折射率与低折射率的交替排布，增加保护膜的透光性，镀膜后，在420nm～670nm处透射率大于96％。氮化硼层还具有高硬度、低摩擦系数，可以经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，不会在膜层留下任何痕迹，能起到很好的防刮效果。上述复合材料、上述电子装置及上述汽车玻璃具有上述保护膜，其透射率较高，且可以经受9H铅笔1KG压力摩擦10000次，美工刀片在1公斤压力下的刮擦100次，不会留下任何痕迹，具有很好的防刮效果。附图说明图1为一实施方式的保护膜的结构示意图；图2为一实施方式的复合材料的结构示意图；图3为一实施方式的电子装置的结构示意图；图4为一实施方式的汽车玻璃的结构示意图。具体实施方式为了便于理解本技术，下面将参照相关附图对本技术进行更全面的描述。附图中给出了本技术的部分实施例。但是，本技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对保护膜的公开内容更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。请参阅图1，一实施方式的保护膜200包括依次层叠的第一五氧化二铌层210、第一二氧化硅层220、第二五氧化二铌层230、第二二氧化硅层240及氮化硼层250。第一五氧化二铌层210的材料为五氧化二铌。第一五氧化二铌层210使用NB靶进行磁控溅射镀膜制备而成。磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，其中Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。在其中一个实施方式中，第一五氧化二铌层210厚度为18nm～28nm，优选为20nm～26nm，更优选为22nm～24nm，进一步优选为23nm。第一二氧化硅层220的材料为二氧化硅。第一二氧化硅层220使用Si靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。在其中一个实施方式中，第一二氧化硅层220厚度为16nm～26nm，优选为18nm～24nm，更优选为20nm～22nm，进一步优选为21nm。第二五氧化二铌层230的材料为五氧化二铌。第二五氧化二铌层230使用NB靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。在其中一个实施方式中，第二五氧化二铌层230厚度为50nm～60nm，优选为52nm～58nm，更优选为54nm～56nm，进一步优选为55nm。第二二氧化硅层240的材料为二氧化硅。第二二氧化硅层240使用Si靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为40KHz，气体氛围是Ar与O2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，O2的流量为60sccm～100sccm。在其中一个实施方式中，第二二氧化硅层240厚度为89nm～99nm，优选为91nm～97nm，更优选为93nm～95nm，进一步优选为94nm。氮化硼层205的材料为氮化硼。氮化硼层205使用B靶进行磁控溅射镀膜制备而成。其中，磁控溅射频率为13.56MHz，气体氛围是Ar与N2的混合气体氛围，Ar的流量为100sccm～200sccm，N2的流量为30sccm～100sccm。在其中一个实施方式中，氮化硼层205厚度为5nm～15nm，优选为7nm～13nm，更优选8nm～12nm，进一步优选为10nm。上述保护膜200包括依次层叠的第一五氧化二铌层210、第一二氧化硅层220、第二五氧化二铌层230、第二二氧化硅层240及氮化硼层250，使保护膜200以高折射率层与低折射率层交替排布，根据光的波动性、光的反射和干涉原理，结合合适厚度的膜层，使保护膜具有高透射率，镀保护膜之后几乎不影响产品的透射效果。另外，氮化硼层250作为最外层的高折射率层，具有硬度高、摩擦系数很低、在紫外到远红外整个波段都具有高的透过率，所以上述保护膜具有高的透射率及抗摩擦、抗刮伤的性能。参阅图2，一实施方式的复合材料10，包括基底1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。

【技术特征摘要】
1.一种保护膜，其特征在于，包括依次层叠的第一五氧化二铌层、第一二氧化硅层、第二五氧化二铌层、第二二氧化硅层及氮化硼层；所述第一五氧化二铌层厚度为18nm～28nm，所述第一二氧化硅层厚度为16nm～26nm、所述第二五氧化二铌层厚度为50nm～60nm、所述第二二氧化硅层厚度为89nm～99nm，所述氮化硼层厚度为5nm～15nm。2.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一五氧化二铌层厚度为20nm～26nm，所述第一二氧化硅层厚度为18nm～24nm、所述第二五氧化二铌层厚度为52nm～58nm、所述第二二氧化硅层厚度为91nm～97nm，所述氮化硼层厚度为7nm～13nm。3.根据权利要求1所述的保护膜，其特征在于，所述第一五氧化二铌层厚度为22nm～24nm，所述第一二氧化硅层厚度为20nm～22nm，所述第二五氧化二铌层厚度为54nm～56nm，所述第二二氧化硅层厚度为93nm～95nm，所述氮...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，周慧蓉，郑芳平，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江西,36