The invention discloses a silicon wafer making trough capable of ensuring the temperature of the solution in the tank body and easy to control the temperature of the production. The cashmere trough is composed of a tank and a heating controller. One end of the tank is provided with an water sink and the other end is provided with an outlet. One end of the water sink is connected with the tank through a first homogenizing plate, and a water tank is arranged above the other end; and a transverse heating resistance is arranged from one end to the other end from one end to the other end. A vertical heating resistor and a stirring device; the horizontal heating resistance is located below the water tank and is evenly distributed in the vertical direction; the vertical heating resistance is evenly distributed along the horizontal direction; one end of the outlet is connected to the tank through a second uniform flow plate, and the other end is set with a water outlet; the bottom of the tank is at the bottom of the tank. A heat insulation resistance is arranged in the part, and a temperature sensor is arranged in the groove body. Using the silicon wafer to make the flask, the temperature control precision is high, the chemical reaction in the whole process tank is stable, controllable, and convenient for process adjustment.
【技术实现步骤摘要】
硅片制绒槽
本专利技术涉及硅片的制绒,尤其是一种硅片制绒槽。
技术介绍
众所周知的:硅片在经过一系列的加工程序之后需要进行清洗,清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各类污染物,并制作能够减少表面太阳光反射的绒面结构,且清洗的洁净程度直接影响着电池片的成品率和可靠率。制绒是制造晶硅电池的第一道工艺,又称“表面织构化”。有效的绒面结构使得入射光在硅片表面多次反射和折射,增加了光的吸收,降低了反射率,有助于提高电池的性能。考虑到制绒工艺段对整个生产线的重要作用,针对影响制绒反应的因素,对设备工艺段的设计进行更加精细的调整:制绒作为化学反应,首先应考虑反应的条件,即化学液的温度及各组分的浓度等。现在的工业生产对制绒工艺温度控制提出了较高的要求,为了保证反应条件的一致性,温控精度要在±1℃内,整个工艺槽内化学反应才能更稳定和可控,实现有效控制溶液的反应速度和挥发量,便于工艺调整。现有的制绒槽对溶液温度的控制不够稳定,无法保证制绒对溶液温度的要求。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种能够保证槽体内溶液温度,便于制绒温度控制的硅片制绒槽。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:硅片制绒槽,包括槽体、加热控制器;所述槽体的一端设置有入水槽,另一端设置有出水槽;所述入水槽一端通过第一匀流板与槽体连通,另一端的上方设置有与入水槽连通的入水箱;所述入水箱具有入水口,所述入水槽内由入水槽的一端向另一端依次设置有横向加热电阻、竖向加热电阻以及搅拌装置;所述横向加热电阻位于入水箱的下方;且在竖直方向上均匀分布;所述竖向加热电阻沿水平方向上均匀分布;所述搅拌装置位于第一 ...
【技术保护点】
硅片制绒槽,其特征在于:包括槽体(1)、加热控制器(9);所述槽体(1)的一端设置有入水槽(2),另一端设置有出水槽(3);所述入水槽(2)一端通过第一匀流板(7)与槽体(1)连通,另一端的上方设置有与入水槽(2)连通的入水箱(4);所述入水箱(4)具有入水口(41),所述入水槽(2)内由入水槽(2)的一端向另一端依次设置有横向加热电阻(9)、竖向加热电阻(5)以及搅拌装置(6);所述横向加热电阻(9)位于入水箱(4)的下方;且在竖直方向上均匀分布;所述竖向加热电阻(5)沿水平方向上均匀分布;所述搅拌装置(6)位于第一匀流板(7)的一侧;所述出水槽(3)的一端通过第二匀流板(8)与槽体(1)连通,另一端设置有出水口(31);所述槽体(1)的底部设置有保温加热电阻(10),所述槽体(1)内设置有温度传感器,所述温度传感器、横向加热电阻(9)、竖向加热电阻(5)以及保温加热电阻(10)均与加热控制器(9)电连接。
【技术特征摘要】
1.硅片制绒槽,其特征在于:包括槽体(1)、加热控制器(9);所述槽体(1)的一端设置有入水槽(2),另一端设置有出水槽(3);所述入水槽(2)一端通过第一匀流板(7)与槽体(1)连通,另一端的上方设置有与入水槽(2)连通的入水箱(4);所述入水箱(4)具有入水口(41),所述入水槽(2)内由入水槽(2)的一端向另一端依次设置有横向加热电阻(9)、竖向加热电阻(5)以及搅拌装置(6);所述横向加热电阻(9)位于入水箱(4)的下方;且在竖直方向上均匀分布;所述竖向加热电阻(5)沿水平方向上均匀分布;所述搅拌装置(6)位于第一匀流板(7)的一侧;所述出水槽(3)的一端通过第二匀流板(8)与槽体(1)连通,另一端设置有出水口(31);所述槽体(1)的底部设置有保温加热电阻(10),所述槽体(1)内设置有温度传感器,所述温度传感器、横向加热电阻(9)、竖向加热电阻(5)以及保温加热电阻(10)均与加热控制器...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈五奎,刘强,冯加保,
申请(专利权)人:乐山新天源太阳能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:四川,51
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