The utility model relates to an optical resistance coating machine, which includes a coating platform (100) for fixed placement of a substrate (500), the coating platform (100) is provided with a slot (101), and the optical resistance coating machine also includes a recovery device connected with the gap (101), wherein the edge of the substrate (500) is connected with the seam. The gap (101) is aligned or located in the gap (101). The optical resistance coating machine of the utility model can not only realize the recovery and utilization of light resistance, but also reduce the thickness of coating film on the edge of the substrate, and then solve the problem of poor development of the edge of the substrate.
【技术实现步骤摘要】
光阻涂布机
本技术涉及一种光阻涂布机。
技术介绍
目前,行业内使用的光阻旋转涂布机,在对标准基板进行涂布时,约使用90立方厘米的光阻,但只有大约30立方厘米的光阻留在基板上,光阻利用率较低。另外,由于涂布机旋转时的惯性,容易导致基板边缘膜厚较厚,造成在之后的显影工艺中,边缘处显影不良的问题。
技术实现思路
本技术的目的是为了克服现有的光阻涂布机存在的光阻利用率低、且基板边缘处显影不良的问题。为了解决上述技术问题,本技术提供了一种光阻涂布机,所述光阻涂布机包括:用于固定放置基板的涂布平台、设置于所述涂布平台上的缝隙以及与所述缝隙连通的回收装置;其中,所述基板的边缘与所述缝隙对齐或位于所述缝隙内。优选地,所述缝隙上下贯穿所述涂布平台。优选地,所述缝隙为环状。优选地,所述缝隙的横截面为直角梯形,所述直角梯形的直腰与所述基板的侧壁共面或平行。优选地,所述缝隙的顶部开口大于所述缝隙的底部开口。优选地,缝隙的顶部开口宽度为40-60mm,底部开口宽度为10-30mm。优选地,所述回收装置包括与所述缝隙连通的用于吸取光阻的真空泵。优选地,所述回收装置包括与所述真空泵的出口连通的光阻储存单元。优选地,所述光阻涂布机包括:设置于涂布平台上方的用于对所述基板的上表面进行光阻涂布的旋转单元;所述旋转单元的旋转范围覆盖所述缝隙。优选地,所述基板为矩形的玻璃基板,所述缝隙沿所述矩形的玻璃基板的四个边设置。通过上述技术方案,不仅可以实现光阻的回收利用,还可以降低基板边缘的涂布膜厚,进而解决基板边缘处显影不良的问题。附图说明图1是本技术的一种实施方式的旋转涂布机的部分结构示意图;图2是图1的俯 ...
【技术保护点】
一种光阻涂布机,其特征在于,所述光阻涂布机包括:用于固定放置基板(500)的涂布平台(100)、设置于所述涂布平台(100)上的缝隙(101)以及与所述缝隙(101)连通的回收装置;其中,所述基板(500)的边缘与所述缝隙(101)对齐或位于所述缝隙(101)内。
【技术特征摘要】
1.一种光阻涂布机,其特征在于,所述光阻涂布机包括:用于固定放置基板(500)的涂布平台(100)、设置于所述涂布平台(100)上的缝隙(101)以及与所述缝隙(101)连通的回收装置;其中,所述基板(500)的边缘与所述缝隙(101)对齐或位于所述缝隙(101)内。2.根据权利要求1所述的光阻涂布机,其特征在于,所述缝隙(101)上下贯穿所述涂布平台(100)。3.根据权利要求2所述的光阻涂布机,其特征在于,所述缝隙(101)为环状。4.根据权利要求2所述的光阻涂布机,其特征在于,所述缝隙(101)的横截面为直角梯形,所述直角梯形的直腰与所述基板(500)的侧壁共面或平行。5.根据权利要求2所述的光阻涂布机,其特征在于,所述缝隙(101)的顶部开口大于所述缝隙(101)的底部开口。6.根据权利要求5所述的光阻涂布机,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:聂行健,陈聪文,汪杰,赵敏,
申请(专利权)人:东旭昆山显示材料有限公司,东旭集团有限公司,东旭科技集团有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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