一种实验室用汽化蚀刻设备制造技术

本发明专利技术公开了一种实验室用汽化蚀刻设备，包括密闭的操作箱体，操作箱体的两侧对应设置有凸出的进料口和出料口，进料口、操作箱体和出料口中设置有用于输送蚀刻工件的输送机构，还包括蚀刻液储槽、雾化汽化组件和汽相导出组件，雾化汽化组件与蚀刻液储槽相配合，汽相导出组件用于将蚀刻液汽化产物导出至输送机构顶端的蚀刻工件表面。该实验室用汽化蚀刻设备通过设置雾化汽化组件和汽相导出组件，通过将蚀刻液储槽中的蚀刻液雾化汽化呈细小的液滴，满足实验室小批量试验的需要，结构简单，使用和维护方便可靠。

【技术实现步骤摘要】
一种实验室用汽化蚀刻设备
本专利技术涉及蚀刻设备
，具体涉及一种实验室用汽化蚀刻设备。
技术介绍
在微电子工业中，湿法刻蚀是通过化学刻蚀液和被刻蚀物质之间的化学反应将被刻蚀物质剥离下来的刻蚀方法。大多数湿法刻蚀是不容易控制的各向同性刻蚀。特点是适应性强，表面均匀性好、对硅片损伤少，几乎适用于所有的金属、玻璃、塑料等材料。缺点在于图形刻蚀保真表面不理想，刻蚀图形的最小线难以掌控；干法刻蚀的刻蚀剂是等离子体，是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或直接轰击薄膜表面使之被腐蚀的工艺。特点是能实现各向异性刻蚀，从而保证细小图形转移后的保真性。缺点在于造价高，用于微流控芯片制备的较少。实际操作中本领域技术人员发现，将蚀刻液汽化或者雾化呈微小液滴，并以一定的压力喷射在蚀刻工件的表面，能一定程度上改善湿法蚀刻最小线难以掌控的缺陷。现有技术中用于实验室小型试验的设备通常采用喷淋、浸泡能蚀刻手段，未见相关的汽化设备。因此，设计一种满足汽化蚀刻需要的实验室设备，是本领域技术人员亟待解决的问题之一。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种实验室用汽化蚀刻设备，该蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种实验室用汽化蚀刻设备，包括密闭的操作箱体，操作箱体的两侧对应设置有凸出的进料口和出料口，进料口、操作箱体和出料口中设置有用于输送蚀刻工件的输送机构，其特征在于，还包括蚀刻液储槽、雾化汽化组件和汽相导出组件，雾化汽化组件与蚀刻液储槽相配合，汽相导出组件用于将蚀刻液汽化产物导出至输送机构顶端的蚀刻工件表面。

【技术特征摘要】
1.一种实验室用汽化蚀刻设备，包括密闭的操作箱体，操作箱体的两侧对应设置有凸出的进料口和出料口，进料口、操作箱体和出料口中设置有用于输送蚀刻工件的输送机构，其特征在于，还包括蚀刻液储槽、雾化汽化组件和汽相导出组件，雾化汽化组件与蚀刻液储槽相配合，汽相导出组件用于将蚀刻液汽化产物导出至输送机构顶端的蚀刻工件表面。2.根据权利要求1所述的实验室用汽化蚀刻设备，其特征在于，雾化汽化组件为设置在蚀刻液储槽中的超声雾化组件，或者为与蚀刻液储槽相通的射流雾化组件。3.根据权利要求1所述的实验室用汽化蚀刻设备，其特征在于，汽相导出组件包含出汽管、补风机构、稳压阀和喷头，出气管的一端与蚀刻液储槽顶端或雾化汽化组件连接，另一端与喷头连接；补风机构与出汽管连接并用于向出汽管中补入洁净氮气；稳压阀连接在出汽管上，导出组件包含两个喷头，两个喷头相对设置在蚀刻工件的两侧斜上方，喷头的喷嘴倾斜向下设置。4.根据权利要求3所述的实验室用汽化蚀刻设备，其特征在于，喷头与定位件一一对应固定连接，所述定位件上配合设置有升降驱动机构和/或间距调节机构，升降驱动机构用于调节喷嘴与蚀刻工件的高度间距，间距调节机构用于调节两喷嘴的水平间距。5.根据权利要求4所述的实验室用汽化蚀刻设备，其特征在于，所述升降驱动机构为升降直线...

【专利技术属性】
技术研发人员：顾洪卫，朱永刚，殷福华，朱龙，
申请(专利权)人：江阴江化微电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32