翻转型研磨抛光机的上下导轨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，包括上模座；所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构及用于控制上下导轨装置运作的控制机构，所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨，所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。本实用新型专利技术实施例通过在上模座两侧设置主导轨机构和副导轨机构，通过主导轨机构设有的第一导轨和副导轨机构设有的第二导轨的配合使用，能够使得上模座平稳上升、不出现摇晃的现象；通过，通过第一导轨和第二导轨的作用，也能使得上模座在上升中，精准的停留在预设位置上；及在下降时，也能精准的与下模座连接；便于后续的抛光研磨操作。

The upper and lower guideway device of the flip grinding machine

The utility model provides an upper and lower guide device for a flip grinding and polishing machine, including the upper die seat. The upper and lower guide device comprises a main guide mechanism and a sub guide mechanism which is mounted on both sides of the upper die seat to make the upper die seat moving up and down, and the control mechanism for controlling the operation of the upper and lower guide rail device. The main guide mechanism comprises a set of parallel first guide rails, and the secondary guide mechanism comprises a set of parallel second guide rails. By setting the main guide rail mechanism and the auxiliary guide mechanism on both sides of the upper die seat, the second guide rail is provided by the first guide rail and the auxiliary guide rail mechanism provided by the main guide mechanism, which can make the upper die seat rise steadily and without shaking. Through the first guide and the second guide rail, the upper die seat is used. The function can also make the upper die seat in the rise, accurately stay in the preset position, and can also be accurately connected to the lower die seat when it falls; it is convenient for the subsequent polishing and grinding operation.

【技术实现步骤摘要】
翻转型研磨抛光机的上下导轨装置
本技术涉及研磨抛光机
，尤其涉及一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置。
技术介绍
抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是：电动机带动安装在研磨机磨盘上的海绵、抛光布、抛光砂轮、树脂研磨盘等研磨材料旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在10-60r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。然后现有的翻转型研磨抛光机在翻转时，需要先向上移动一定的距离后进行翻转，但现有的翻转型研磨抛光机是通过齿轮组合使得上模座向上移动的，存在精准度低、上升过程不稳定且控制麻烦的缺点。
技术实现思路
本技术为解决现有的翻转型研磨抛光机上升时不稳定、精准度低技术问题，提供了一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置。本技术提供了一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，包括上模座；所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构及用于控制上下导轨装置运作的控制机构，所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨，所述副导轨机构包括一组平行设置的第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，包括上模座；其特征在于，所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构及用于控制上下导轨装置运作的控制机构，所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨，所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。

【技术特征摘要】
1.一种翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，包括上模座；其特征在于，所述上下导轨装置包括装设于所述上模座两侧以配合使用使得上模座上下移动的主导轨机构和副导轨机构及用于控制上下导轨装置运作的控制机构，所述主导轨机构包括一组平行设置的第一导轨，所述副导轨机构包括一组平行设置的第二导轨。2.如权利要求1所示的翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，其特征在于，所述主导轨机构还包括与上模座连接以驱使上模座翻转的旋转动力件、用于固定安装旋转动力件且连接安装于所述第一导轨上的第一固定座及用于驱动第一固定座沿第一导轨定向移动的第一动力件。3.如权利要求2所述的翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，其特征在于，所述旋转动力件的输出端通过第一固定座后与上模座连接。4.如权利要求2所述的翻转型研磨抛光机的上下导轨装置，其特征在于，所述旋转动力件及第一动力件采用电...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡皱文，贺德荣，
申请(专利权)人：东莞市中研机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44