一种硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种硅片清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽一侧外部设有正极板，该清洗槽另一侧外部设有负极板，所述正、负极板分别和清洗槽正对设置。本实用新型专利技术所述的一种硅片清洗装置中，在清洗槽正对两侧外部分别设置了一电极板，使用时分别接入电源正负极，通电后在清洗槽内形成水平方向上的电场，由于该电场方向与清洗槽内硅片表面平行设置，因此，硅片上附着的带电粒子在电场作用下凝聚在清洗槽内壁上，因此实现对硅片污物清洗外，对硅片带电粒子同时进行了去除，保证了硅片后期的使用质量。

A silicon wafer cleaning device

The utility model provides a silicon wafer cleaning device, including a cleaning tank, the external side of the cleaning tank is provided with a positive plate, and a negative plate is provided on the other side of the cleaning groove, and the positive, negative plate and the cleaning groove are respectively set. In a silicon wafer cleaning device described by the utility model, an electrode plate is separately arranged on both sides of the cleaning tank, and the electric field in the horizontal direction is formed in the cleaning slot after the use of the cathode, and the electric field is arranged in parallel with the surface of the silicon wafer in the cleaning tank. The charged particles are condensed on the inner wall of the cleaning tank under the action of the electric field, so the silica fillets are cleaned and the charged particles of the silicon wafer are removed at the same time, so as to ensure the quality of the later use of the silicon wafer.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置
本技术属于硅片生产领域，尤其是涉及一种硅片清洗装置。
技术介绍
硅片生产中，为了保证其使用质量，需要对硅片进行清洗，目前清洗工艺对带电粒子的清洗能力较差，带电粒子又极易在损伤物体表面以共价形式形成稳态共价键，对后续清洗工作带来很大难度；另外，现有清洗工艺大量使用化学试剂，成本较高，对环境不友好，对人员有潜在危害，并且该采用化学制剂清洗时，所用化学试剂会对硅片表面造成进一步损伤，增加物质损耗率。
技术实现思路
有鉴于此，本技术旨在提出一种硅片清洗装置，以解决现有硅片清洗作业中带电粒子对硅片的损伤问题。为达到上述目的，本技术的技术方案是这样实现的：一种硅片清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽一侧侧壁外部设有正极板，该清洗槽另一侧侧壁外部设有负极板。进一步的，所述正极板及负极板分别和各自所对应清洗槽侧壁正对设置。进一步的，所述正极板和负极板分别通过固定块固装在清洗槽侧壁上。进一步的，所述固定块为PVC固定块。进一步的，所述正极板和负极板外部分别包裹有绝缘层，该绝缘层为pvc绝缘层相对于现有技术，本技术所述的一种硅片清洗装置具有以下优势：本技术所述的一种硅片清洗装置中，在清洗槽正对本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅片清洗装置，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)一侧侧壁外部设有正极板(2)，该清洗槽(1)另一侧侧壁外部设有负极板(3)；所述正极板(2)及负极板(3)分别和各自所对应清洗槽(1)侧壁正对设置；所述正极板(2)和负极板(3)分别通过固定块(4)固装在清洗槽(1)侧壁上。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)一侧侧壁外部设有正极板(2)，该清洗槽(1)另一侧侧壁外部设有负极板(3)；所述正极板(2)及负极板(3)分别和各自所对应清洗槽(1)侧壁正对设置；所述正极板(2)和负极板(3)分别通过固...

【专利技术属性】
技术研发人员：高鹏，王岩，王永青，李建弘，王建平，郭志荣，王冬雪，
申请(专利权)人：内蒙古中环光伏材料有限公司，
类型：新型
国别省市：内蒙古,15