活塞环及其制造方法技术

使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。一种活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】活塞环及其制造方法
本专利技术涉及一种经非晶碳膜被覆的活塞环及其制造方法。
技术介绍
在发动机内滑动的活塞环装设于形成在活塞的外周面的环槽内且伴随活塞的往返运动而在套筒(sleeve)(汽缸(cylinder))的内周面滑动，因此，在滑动特性中尤其要求低摩擦性与耐磨耗性。因此，以前以来，进行有在活塞环表面形成非晶碳膜(以下，也简称为“碳膜”)而确保滑动特性。此时，为了充分发挥所述低摩擦性或耐磨耗性，必须将碳膜的厚度设定为厚到某程度。然而，非晶碳膜具有强的内部应力，因此不易将一层碳膜成膜为厚膜。因此，例如，专利文献1中提出有层叠两层以上的硬度不同的两种碳层(硬质层与软质层)并形成碳膜，由此缓和内部应力，从而将碳膜成膜为膜厚5.0μm以上的厚膜。此时，适当地规定硬质层与软质层各自的机械特性并加以厚膜化，由此提高膜整体的性能(低摩擦性与耐磨耗性)，但在硬质层与软质层中，所述机械特性不同，因此在叠层界面中产生机械特性的不连续，从而存在层间产生剥离的担忧。关于所述层间的剥离，专利文献2中提出有提高层间的密合性而抑制剥离的产生的技术。专利文献2中，重复形成组成不同的两种层，并且在所述层间形成组成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种活塞环，其为在环状基材的表面被覆有非晶碳膜的活塞环，且其特征在于：所述非晶碳膜是使用化学气相沉积法而成膜，且自所述基材表面朝向膜表面交替形成有sp

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种活塞环，其为在环状基材的表面被覆有非晶碳膜的活塞环，且其特征在于：所述非晶碳膜是使用化学气相沉积法而成膜，且自所述基材表面朝向膜表面交替形成有sp2键相对于sp3键的比率sp2/sp3比连续增加的增加区域以及sp2/sp3比连续减少的减少区域，并且在所述增加区域与所述减少区域的边界中sp2/sp3比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成sp2/sp3比低的软质膜与sp2/sp3比高的硬质膜；以及所述减少区域构成为与所述增加区域相比为相同数量或少1个区域。2.根据权利要求1所述的活塞环，其特征在于：所述非晶碳膜中的氢含量在sp2/sp3比最低的部位为5原子％以上。3.根据权利要求1或2所述的活塞环，其特征在于：所述非晶碳膜是形成于所述基材的外周滑动面与上下面。4.一种活塞环，其为在环状基材的表面被覆有非晶碳膜的活塞环，且其特征在于：所述非晶碳膜是使用化学气相沉积法而成膜，且自所述基材表面朝向膜表面，拉曼光谱的D峰值位置中的峰值面积相对于G峰值位置中的峰值面积的比率ID/IG比连续地发生变化，从而交替形成有所述G峰值位置向高波数位移的高波数位移区域以及所述G峰值位置向低波数位移的低波数位移区域，并且在所述高波数位移区域与所述低波数位移区域的边界中ID/IG比连续地发生变化，由此以交替层叠的方式形成ID/IG比低的软质膜与ID/IG比高的硬质膜；...

【专利技术属性】
技术研发人员：大城竹彦，三宅浩二，辻冈正宪，吉田聡，
申请(专利权)人：日本ITF株式会社，本田技研工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP