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使用并不具有特别的功能的通常的成膜装置且无需精密的控制地制造并提供低摩擦性与耐磨耗性优异的活塞环。一种活塞环，其为在环状基材的表面上被覆有非晶碳膜的活塞环，并且非晶碳膜是使用CVD法而成膜，且自基材表面朝向膜表面交替形成有sp...
该专利属于日本ITF株式会社;本田技研工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日本ITF株式会社;本田技研工业株式会社授权不得商用。

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