一种多蒸发源镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种多蒸发源镀膜装置，其特征在于：在所述镀膜伞架下方设置有至少两个蒸发源，在所述蒸发源的上方分别设置有对应的膜厚补正板，所述膜厚补正板连接有驱动装置，所述膜厚补正板可在所述驱动装置的驱动下升起或下降，所述膜厚补正板升起到位后分别位于所述蒸发源和所述镀膜伞架之间，所述膜厚补正板下降到位后分别收拢于所述真空镀膜腔室。本实用新型专利技术的优点是：在取放镀膜伞架时，不需要将膜厚补正板拆除，就能取放镀膜伞架，增加了操作便利性；结构简单合理，适于推广。

A multi steamed source plating device

The utility model relates to the technical field of vacuum coating, especially a multi evaporation coating device, which is characterized in that: under the umbrella coating is provided with at least two evaporation source in the evaporation source are respectively arranged above the corresponding film thickness correction plate, the film thickness correction plate is connected with a driving device drive, the film thickness correction plate in the driving device under the rising or falling, the film thickness correction plate rises in place are respectively positioned on the evaporation source and the coating frame between the film thickness compensation plate decreased in place are folded in the vacuum coating chamber. The utility model has the advantages of: take umbrella when does not need to be coated, the film thickness correction plate removed, can take coating umbrella, increase the operating convenience; simple structure, suitable for promotion.

【技术实现步骤摘要】
一种多蒸发源镀膜装置
本技术涉及真空镀膜
，尤其是一种多蒸发源镀膜装置。
技术介绍
通常，在真空镀膜腔室的顶部设置镀膜伞架，在真空镀膜腔室的底部设置蒸发源。为了实现膜厚均一性，在蒸发源和镀膜伞架之间设置膜厚补正板，以提高镀膜质量。但膜厚补正板常常位置固定且不可移动，这样造成在取放镀膜伞架时，需要将固定膜厚补正板拆除，才能取放镀膜伞架。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种多蒸发源镀膜装置，通过在多个蒸发源的上方分别设置对应的可升降膜厚补正板，在需要取放时可将膜厚补正板收起以方便操作，而在镀膜时则升起膜厚补正板保证镀膜质量。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种多蒸发源镀膜装置，所述镀膜装置包括真空镀膜腔室，在所述真空镀膜腔室内设置有镀膜伞架，所述镀膜伞架用于承载工件，在所述镀膜伞架的中心位置设置有中心回转机构，所述镀膜伞架可在所述中心回转机构的驱动下在所述真空镀膜腔室中旋转，在所述镀膜伞架的下方设置有蒸发源，其特征在于：在所述镀膜伞架下方设置有至少两个蒸发源，在所述蒸发源的上方分别设置有对应的膜厚补正板，所述膜厚补正板连接有驱动装置，所述膜厚补正板可在所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多蒸发源镀膜装置，所述镀膜装置包括真空镀膜腔室，在所述真空镀膜腔室内设置有镀膜伞架，所述镀膜伞架用于承载工件，在所述镀膜伞架的中心位置设置有中心回转机构，所述镀膜伞架可在所述中心回转机构的驱动下在所述真空镀膜腔室中旋转，在所述镀膜伞架的下方设置有蒸发源，其特征在于：在所述镀膜伞架下方设置有至少两个蒸发源，在所述蒸发源的上方分别设置有对应的膜厚补正板，所述膜厚补正板连接有驱动装置，所述膜厚补正板可在所述驱动装置的驱动下升起或下降，所述膜厚补正板升起到位后分别位于所述蒸发源和所述镀膜伞架之间，所述膜厚补正板下降到位后分别收拢于所述真空镀膜腔室。

【技术特征摘要】
1.一种多蒸发源镀膜装置，所述镀膜装置包括真空镀膜腔室，在所述真空镀膜腔室内设置有镀膜伞架，所述镀膜伞架用于承载工件，在所述镀膜伞架的中心位置设置有中心回转机构，所述镀膜伞架可在所述中心回转机构的驱动下在所述真空镀膜腔室中旋转，在所述镀膜伞架的下方设置有蒸发源，其特征在于：在所述镀膜伞架下方设置有至少两个蒸发源，在所述蒸发源的上方分别设置有对应的膜厚补正板，所述膜厚补正板连接有驱动装置，所述膜厚补正板可在所述驱动装置的驱动下升起或下降，所述膜厚补正板升起到位后分别位于所述蒸发源和所述镀膜伞架之间，所述膜厚补正板下降到位后分别收拢于所述真空镀膜腔室。2.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：龙汝磊，戴秀海，薛聪颖，赵小花，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31