一种镀膜装置的基片加热装置制造方法及图纸
A substrate heating device for a coating device
The utility model relates to the technical field of vacuum coating, especially the substrate heating device of a coating device, which is characterized in that the substrate heating device comprises a plurality of heating device and a temperature detecting device, a plurality of heating device arranged in the cavity of the vacuum coating chamber top surface, and the heating range cover all the coating substrate coated on the frame, a temperature detecting device is provided for detecting the coating substrate temperature under the umbrella coating. The utility model has the advantages of accurate feedback for heating effect, precise control of heating power, simple and reasonable structure, convenient disassembly and assembly, good use effect and suitable popularization.
【技术实现步骤摘要】
一种镀膜装置的基片加热装置
本技术涉及真空镀膜
，尤其是一种镀膜装置的基片加热装置。
技术介绍
在真空镀膜设备中，真空镀膜腔室上部通常设置有承载着镀膜基片的镀膜伞架。为了在镀膜前除去空白镀膜基片的水汽和在镀膜中保持合适的镀膜基片温度，在真空镀膜腔室的顶壁和侧壁通常设置一定数量的加热机构和温度探测部件，比如加热丝和热电偶。加热效果的精确反馈和加热功率的精密控制对于成膜质量有直接影响。现有技术中，在镀膜伞架上方设置有热电偶，用于探测镀膜基片的温度。但是由于镀膜基片的镀膜面位于镀膜伞架下方，且镀膜伞架导热性的局限，镀膜伞架上方的热电偶探测的温度与镀膜基片镀膜面的实际温度会存在较大的差异，这样就不利于工艺调整。另外，空镀膜腔室的顶壁和侧壁的加热机构的控制比较粗放，不利于对镀膜伞架的不同区域进行不同的加热管理。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种镀膜装置的基片加热装置，通过对加热装置的多区域布置结合温度探测装置的使用，实现对镀膜基片加热的精确控制。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种镀膜装置的基片加热装置，用于对真空镀膜腔室内的镀膜基片进行加...
【技术保护点】
一种镀膜装置的基片加热装置，用于对真空镀膜腔室内的镀膜基片进行加热，所述镀膜基片承载于布置在所述真空镀膜腔室内的镀膜伞架上，所述镀膜伞架通过一中心回转机构连接驱动在所述真空镀膜腔室内旋转，其特征在于：所述基片加热装置包括若干加热装置和一温度探测装置，若干所述加热装置布置在所述真空镀膜腔室的腔室内部顶面，且其加热范围覆盖所述镀膜伞架上的所有镀膜基片，所述温度探测装置设置在所述镀膜伞架的下方用于检测所述镀膜基片的温度。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置的基片加热装置，用于对真空镀膜腔室内的镀膜基片进行加热，所述镀膜基片承载于布置在所述真空镀膜腔室内的镀膜伞架上，所述镀膜伞架通过一中心回转机构连接驱动在所述真空镀膜腔室内旋转，其特征在于：所述基片加热装置包括若干加热装置和一温度探测装置，若干所述加热装置布置在所述真空镀膜腔室的腔室内部顶面，且其加热范围覆盖所述镀膜伞架上的所有镀膜基片，所述温度探测装置设置在所述镀膜伞架的下方用于检测所述镀膜基片的温度。2.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的基片加热装置，其特征在于：所述基片加热装置还包括一控...
【专利技术属性】
技术研发人员：龙汝磊，戴秀海，裴蓓，吴萍，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31
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