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本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种镀膜装置的基片加热装置，其特征在于：所述基片加热装置包括若干加热装置和一温度探测装置，若干所述加热装置布置在所述真空镀膜腔室的腔室内部顶面，且其加热范围覆盖所述镀膜伞架上的所有镀膜基片，所述温度探测...
该专利属于光驰科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技（上海）有限公司授权不得商用。

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