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本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是一种多蒸发源镀膜装置，其特征在于：在所述镀膜伞架下方设置有至少两个蒸发源，在所述蒸发源的上方分别设置有对应的膜厚补正板，所述膜厚补正板连接有驱动装置，所述膜厚补正板可在所述驱动装置的驱动下升起或下降，所...
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