一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法技术

本发明专利技术揭示了一种多通道集成滤光片的光隔离结构，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；还包括消光层，消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成。本发明专利技术还揭示了一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法。本发明专利技术通过真空镀膜工艺在基片表面上设置黑铬金属膜层和由四层氧化物光学薄膜组成的消光层，利用黑铬金属膜层满足光学透过性能低的要求，同时，利用消光层消除黑铬金属膜层表面的反射光，可有效实现多通道集成滤光片各通道之间的隔离，保障多通道集成滤光片的工作性能。

【技术实现步骤摘要】
一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法
本专利技术涉及光学仪器
，具体涉及一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法。
技术介绍
在对地遥感和观察卫星上使用的光学成像系统，由于其高可靠性要求和苛刻的体积要求，在光路中常常采用多通道集成滤光片来实现不同波长光的分离。多通道集成滤光片是将若干个通道的窄带滤光片通过特殊的多道工艺依次制备在同一块基片上形成的。通道间的隔离就要使用光隔离结构，以实现对通道间的空白区域涂黑，阻止光线通过空白区，避免引起通道间信号的串扰；同时光隔离结构又要不引起入射光线的反射，以免剩余反射的光线经过多次反射后引起信号噪声。这就要求光隔离结构具备两个作用：一、阻止光线通过(在要求波段上透过率低)；二、消光(在要求波段上具有低的剩余反射率)。现有技术中，通常采用在通道间的空白区域涂上黑漆的方式形成光隔离结构，虽然能满足光学透过性能低的要求，但达不到消光目的。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种多通道集成滤光片的光隔离结构及其制造方法。为实现上述专利技术目的之一，本专利技术采用如下技术方案：一种多通道集成滤光片的光隔离结构，包括设置在基片表面上的黑铬金本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多通道集成滤光片的光隔离结构，其特征在于，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；还包括消光层，所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成，所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上，所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上，所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上，所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。

【技术特征摘要】
1.一种多通道集成滤光片的光隔离结构，其特征在于，包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层，以阻止光线通过，所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域；还包括消光层，所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成，所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上，所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上，所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上，所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。2.根据权利要求1所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构，其特征在于，所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米，所述第一氧化铬膜层的厚度为45-50纳米，所述第一二氧化硅膜层的厚度为200-220纳米，所述第二氧化铬膜层的厚度为120-140纳米，所述第二二氧化硅膜层的厚度为85-95纳米。3.一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、使用机械掩膜夹具夹持基片，以使基片上仅有需设置光隔离结构的表面露出；S2、将机械掩膜夹具和基片一起放入镀膜工件载盘，再装入真空镀膜系统；S3、在基片露出表面上镀制黑铬金属膜层；S4、在黑铬金属膜层上镀制第一氧化铬膜层；S5、在第一氧化铬膜层上镀制第一二氧化硅膜层；S6、在第一二氧化硅膜层上镀制第二氧化铬膜层；S7、在第二氧化铬膜层上镀制第二二氧化硅膜层即得光隔离结构。4.根据权利要求3所述的一种多通道集成滤光片的光隔离结构的制造方法，其特征在于，所述基片选自玻璃、石英、蓝宝石、硫化锌、硒化锌光学材料中的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：周东平，
申请(专利权)人：苏州晶鼎鑫光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32