光波导薄膜及阵列波导光栅制造技术

本实用新型专利技术公开一种光波导薄膜和应用该光波导薄膜的阵列波导光栅，所述光波导薄膜包括硅基底层和设于所述硅基底层一侧的二氧化锆芯层、及包裹于所述二氧化锆芯层外表面的二氧化硅层，所述二氧化硅层与所述硅基底层层之间还设有连接层，所述连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，所述连接层在波长为0.750um‑1.55um范围内为透明，且折射率为1.40‑1.70。本实用新型专利技术技术方案的光波导薄膜结构通过在硅基底层和二氧化硅层之间设置连接层，可以很好的解决硅基底和二氧化硅直接接触容易脱落或卷曲的缺陷，并且韧性更好。

【技术实现步骤摘要】
光波导薄膜及阵列波导光栅
本技术涉及光波导薄膜和应用该光波导薄膜的阵列波导光栅。
技术介绍
现有技术中的硅基底层二氧化硅薄膜，以包裹有二氧化硅作为薄层材料，其制备工艺采用火焰水解法、热氧化法或等离子体气相沉积法等，然后通过掺杂制备高折射率材料，由于硅和SiO2热膨胀系数不同，在热处理过程中SiO2易从硅衬底上脱落或发生卷曲。
技术实现思路
本技术的主要目的是提供一种光波导薄膜，旨在解决硅基与二氧化硅之间发生脱落或卷曲的缺陷。为实现上述目的，本技术提出的一种光波导薄膜，应用于阵列波导光栅，其特征在于，所述光波导薄膜包括硅基底层和设于所述硅基底层一侧的二氧化锆芯层、及包裹于所述二氧化锆芯层外表面的二氧化硅层，所述二氧化硅层与所述硅基底层层之间还设有连接层，所述连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，所述连接层在波长为0.750um-1.55um范围内为透明，且折射率为1.40-1.70。。可选地，连接层采用聚甲基丙烯酸甲酯，其在波长为0.80um-1.50um范围内为透明，且折射率为1.40-1.58。可选地，连接层的厚度值为18um-20um。可选地，连接层的厚度值为1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波导薄膜，应用于阵列波导光栅，其特征在于，所述光波导薄膜(100)包括硅基底层(10)和设于所述硅基底层(10)一侧的二氧化锆芯层(70)及包裹于所述二氧化锆芯层(70)外表面的二氧化硅层(50)，所述二氧化硅层(50)与所述硅基底层(10)层之间还设有连接层(30)，所述连接层(30)采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，所述连接层(30)在波长为0.750um‑1.55um范围内为透明，且折射率为1.40‑1.70。

【技术特征摘要】
1.一种光波导薄膜，应用于阵列波导光栅，其特征在于，所述光波导薄膜(100)包括硅基底层(10)和设于所述硅基底层(10)一侧的二氧化锆芯层(70)及包裹于所述二氧化锆芯层(70)外表面的二氧化硅层(50)，所述二氧化硅层(50)与所述硅基底层(10)层之间还设有连接层(30)，所述连接层(30)采用聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚二甲酸乙醇酯中的任一项，所述连接层(30)在波长为0.750um-1.55um范围内为透明，且折射率为1.40-1.70。2.如权利要求1所述的光波导薄膜，其特征在于，所述连接层(30)采用聚甲基丙烯酸甲酯，其在波长为0.80um-1.50um范围内为透明，且折射率为1.40-1.58。3.如权利要求2所述的光波导薄膜，其特征在于，所述连接层(30)的厚度值为18um-20...

【专利技术属性】
技术研发人员：王明利，曹华燕，周培，
申请(专利权)人：深圳正和捷思科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44