The utility model discloses an optical isolation structure of a multi-channel integrated filter, including a black chromium metal film set on the surface of the substrate to prevent the passing of light. The black chromium metal film is distributed in the blank area between the multichannel integrated filter channels. Silicon oxide film, second chromium oxide film and second silicon dioxide film. The utility model sets a black chromium metal film layer on the substrate surface and the extinction layer composed of four oxide optical thin films on the substrate surface, and uses the black chromium metal film to meet the requirements of low optical transmission performance. At the same time, the reflection light is eliminated on the surface of the black chromium metal film by the extinction layer, and the multi-channel integration can be effectively realized. The isolation between the channels of the filter ensures the performance of the multi-channel integrated filter.
【技术实现步骤摘要】
一种多通道集成滤光片的光隔离结构
本技术涉及光学仪器
,具体涉及一种多通道集成滤光片的光隔离结构。
技术介绍
在对地遥感和观察卫星上使用的光学成像系统,由于其高可靠性要求和苛刻的体积要求,在光路中常常采用多通道集成滤光片来实现不同波长光的分离。多通道集成滤光片是将若干个通道的窄带滤光片通过特殊的多道工艺依次制备在同一块基片上形成的。通道间的隔离就要使用光隔离结构,以实现对通道间的空白区域涂黑,阻止光线通过空白区,避免引起通道间信号的串扰;同时光隔离结构又要不引起入射光线的反射,以免剩余反射的光线经过多次反射后引起信号噪声。这就要求光隔离结构具备两个作用:一、阻止光线通过(在要求波段上透过率低);二、消光(在要求波段上具有低的剩余反射率)。现有技术中,通常采用在通道间的空白区域涂上黑漆的方式形成光隔离结构,虽然能满足光学透过性能低的要求,但达不到消光目的。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种多通道集成滤光片的光隔离结构。为实现上述技术目的,本技术采用如下技术方案:一种多通道集成滤光片的光隔离结构,包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层,以阻止光线通过,所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域;还包括消光层,所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成,所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上,所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上,所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上,所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。作为本技术进一步改进的技术方案,所述黑铬金属膜层的厚度为200-500纳米 ...
【技术保护点】
1.一种多通道集成滤光片的光隔离结构,其特征在于,包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层,以阻止光线通过,所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域;还包括消光层,所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成,所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上,所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上,所述第二氧化铬膜层设置在所述第一二氧化硅膜层上,所述第二二氧化硅膜层设置在所述第二氧化铬膜层上。
【技术特征摘要】
1.一种多通道集成滤光片的光隔离结构,其特征在于,包括设置在基片表面上的黑铬金属膜层,以阻止光线通过,所述黑铬金属膜层分布于多通道集成滤光片通道间的空白区域;还包括消光层,所述消光层由第一氧化铬膜层、第一二氧化硅膜层、第二氧化铬膜层、第二二氧化硅膜层组成,所述第一氧化铬膜层设置在所述黑铬金属膜层上,所述第一二氧化硅膜层设置在所述第一氧化铬膜层上,所述第二氧化铬膜层设...
【专利技术属性】
技术研发人员:周东平,
申请(专利权)人:苏州晶鼎鑫光电科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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