自带密封门的推送机构和带该机构的反应炉以及密封方法技术

本发明专利技术公开了一种自带密封门的推送机构，其包括水平布置的传送轨道（11）、受传送轨道驱动并沿轨道移动的基座（12），水平固定在基座上的悬臂（13），水平固定在悬臂顶端的可伸入反应炉炉膛中的硅片舟托架（2），所述悬臂上套接一个密封门（1）；本发明专利技术还公开了一种带所述推送机构的反应炉，以及该反应炉的密封方法；与现有技术相比，本发明专利技术推送机构自带密封门，在将石墨舟推入炉膛的同时就封堵上炉膛门，加快了工艺进程，节省了推送机构进出一次炉膛的时间、和一段升温的时间，提高了反应炉产能；避免炉膛因开门时间过长而造成的热能流失，节约了大量能源。

The push mechanism with the self sealing door and the reaction furnace with the mechanism and the sealing method

The invention discloses a self sealing door push mechanism, which comprises a horizontal conveyor (11), conveyor drive and move along the rail base (12), the level of a cantilever fixed on the base (13), fixed on the top of the horizontal cantilever can be inserted into the wafer boat bracket reaction furnace in (2), the cantilever is sheathed with a sealing door (1); the invention also discloses a reaction furnace with the push mechanism, and the reaction furnace sealing method; compared with the prior art, the invention push mechanism with sealing door, in the graphite boat at the same time plugging into a hearth furnace door, to speed up the process, save the push mechanism out of a furnace, and a heating time time, improve the reaction furnace capacity; avoid heat furnace due to open long time caused by the loss of, A lot of energy is saved.

【技术实现步骤摘要】
自带密封门的推送机构和带该机构的反应炉以及密封方法
本专利技术涉及太阳能电池片生产设备，尤其涉及一种自带密封门的推送机构，带有该机构的反应炉、以及该反应炉的密封方法。
技术介绍
随着新能源行业的发展，太阳能作为人类取之不尽用之不竭的可再生能源，其特有的充分清洁性，绝对安全性，相对的广泛性，在长期的能源战略中具有重要的影响地位。PECVD设备是太阳能电池片镀减反射膜的主要设备。其工作原理是利用等离子增强化学气相沉积法给硅片镀上一层减反射膜。硅片镀膜需特殊的高温真空环境，需要将硅片放在石墨舟内，然后整体放入反应炉中密闭后进行工艺处理。PECVD设备完成一次存、取石墨舟，镀膜处理的总时间将决定了设备的产能。现有的工艺流程是：打开炉门，用一个托架将载有硅片的石墨舟送入炉膛，退出托架将石墨舟留在炉膛内，关上炉门，进行PECVD反应，待工艺完成后打开炉门，托架进入炉膛中托住石墨舟，托架后退将石墨舟取出，关上炉门对炉膛进行保温等待下一次工艺加工。在这样一个工艺流程中，托架要反复进出炉膛二次，一是耗费时间减小产能；二是在工艺完成后打开炉门，托架进入炉膛的过程中，炉膛内温度很高，大量热能向外涌出，在下一次加工中待炉门关闭后需加温，等待温度重新升到反应需求的温度值，这造成能源的极大浪费，同时又增加了一个升温的时间。故此业内亟需开发一种自带密封门的石墨舟推送机构，来加快推送时间，减少热能浪费。
技术实现思路
本专利技术是要解决现有技术的上述问题，提出一种自带密封门的石墨舟推送机构、带有该机构的反应炉、以及该反应炉的密封方法。为解决上述技术问题，本专利技术提出的技术方案是设计一种自带密封门的推送机构，其包括：水平布置的传送轨道、受传送轨道驱动并沿轨道移动的基座，水平固定在基座上的悬臂，水平固定在悬臂顶端的可伸入反应炉炉膛中的硅片舟托架，所述悬臂上套接一个密封门。所述密封门的端面上可以设置与反应炉炉膛密封的密封垫。所述密封门的外周面上也可以设置与反应炉密封的密封圈。所述硅片舟托架可承托石墨舟，所述反应炉为PECVD反应炉。本专利技术还设计一种反应炉，其具有炉膛和铰接在炉膛口的炉膛门，具有自带密封门的推送机构，以及控制炉膛门启闭和推送机构往复推送的控制器。所述炉膛门口还具有将密封门扣紧在炉膛口的锁紧装置，锁紧装置受所述控制器控制。本专利技术还设计一种反应炉的密封方法，其具有以下密封步骤：步骤一：控制器控制炉膛门打开；步骤二：控制器控制自带密封门的推送机构将载有硅片的硅片舟送入炉膛内，所述密封门与炉膛密封；步骤三：所述硅片在密封的炉膛内进行工艺反应；步骤四：所述工艺反应完成后，控制器控制推送机构将载有硅片的硅片舟拖出炉膛；步骤五：控制器控制炉膛门关闭。优选方案中，在所述步骤二完成后，控制器控制位于炉膛门口的锁紧装置闭锁将密封门扣紧在炉膛口上，继而再执行步骤三；在所述步骤三完成后，控制器控制锁紧装置开启，继而再执行步骤四。与现有技术相比，本专利技术推送机构自带密封门，在将石墨舟推入炉膛的同时就封堵上炉膛门，加快了工艺进程，节省了推送机构进出一次炉膛的时间、和一段升温的时间，提高了反应炉产能；避免炉膛因开门时间过长而造成的热能流失，节约了大量能源。附图说明图1为本专利技术较佳实施例推送机构的示意图；图2为石墨舟未进炉膛示意图；图3为石墨舟进入炉膛示意图；图4为本专利技术密封方法的步骤流程图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术作进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。本专利技术公开了一种自带密封门的推送机构，参看图1，其具有水平布置的传送轨道11、受传送轨道驱动并沿轨道移动的基座12，水平固定在基座上的悬臂13，水平固定在悬臂顶端的可伸入反应炉炉膛中的硅片舟托架2，所述悬臂上套接一个密封门1。使用时，硅片舟4放在托架2上，伸缩机构向左推动硅片舟托架2，将硅片舟4推入炉膛中，由于悬臂上套接密封门所以再送入硅片舟的时候，同时就把炉膛给密封了，炉膛可以立即进行工艺反应，提高了工作效率。在图1示出的较佳实施例中，传送轨道为同步带传送轨道，动力来源是电机14。在较佳实施例中，所述密封门的端面上设有与反应炉炉膛密封的密封垫3，实施端面密封方式。在另一个实施例中，所述密封门的外周面上设有与反应炉密封的密封圈，实施径向密封方式。在较佳实施例中，所述硅片舟托架2可承托石墨舟4，所述反应炉为PECVD反应炉。本专利技术还公开了一种反应炉，参看图2和图3，其具有炉膛6和铰接在炉膛口的炉膛门5，该炉膛门由两个气缸驱动，一个气缸负责把炉膛门门体旋转到炉膛口，另一个气缸负责把门体压在炉膛口上。该炉膛门的专利已获国家专利局授权。反应炉还具有自带密封门的推送机构、以及控制炉膛门启闭和推送机构往复推送的控制器。在较佳实施例中，所述炉膛门口还具有将密封门扣紧在炉膛口的锁紧装置，在较佳实施例中，锁紧装置由锁扣和气缸构成，所述锁紧装置受所述控制器控制。当硅片舟托架2插入炉膛后，锁紧装置在控制器的指令下，可将密封门扣压在炉膛口上。当硅片舟托架2要退出炉膛，先要控制锁紧装置开启，硅片舟托架方能退出。将密封门压在炉膛口上实现密封的力量有两种，一是来自推送机构持续的推力，二是来自锁紧装置的压力。在具体实施中，采用一种或两种方式皆可。本专利技术还公开了所述反应炉的密封方法，参看图4，以及图2示出的石墨舟未进炉膛示意图和图3示出的石墨舟进入炉膛示意图，密封方法具有以下密封步骤：步骤一：控制器控制炉膛门打开；步骤二：控制器控制自带密封门的推送机构将载有硅片的硅片舟送入炉膛内，所述密封门与炉膛密封；步骤三：所述硅片在密封的炉膛内进行工艺反应；步骤四：所述工艺反应完成后，控制器控制推送机构将载有硅片的硅片舟拖出炉膛；步骤五：控制器控制炉膛门关闭。本专利技术中推送机构自带密封门，在执行步骤二将石墨舟推入炉膛的同时就封堵上炉膛门，无需在像现有技术一样令硅片舟托架退出，然后再关炉门。步骤三完成之后，也需在像现有技术一样先开炉门、硅片舟托架进入炉膛，然后才能将硅片舟拖出；使用本专利技术工艺结束后硅片舟托架只需直接拖出硅片舟即可。使用本专利技术加快了工艺进程，节省了推送机构进出一次炉膛的时间、和一段升温的时间，提高了反应炉产能；避免炉膛因开门时间过长而造成的热能流失，节约了大量能源。在较佳实施例中，在所述步骤二完成后，控制器控制位于炉膛门口的锁紧装置闭锁将密封门扣紧在炉膛口上，继而再执行步骤三；在所述步骤三完成后，控制器控制锁紧装置开启，继而再执行步骤四。以上实施例仅为举例说明，非起限制作用。任何未脱离本申请精神与范畴，而对其进行的等效修改或变更，均应包含于本申请的权利要求范围之中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自带密封门的推送机构，其特征在于包括：水平布置的传送轨道（11）、受传送轨道驱动并沿轨道移动的基座（12），水平固定在基座上的悬臂（13），水平固定在悬臂顶端的可伸入反应炉炉膛中的硅片舟托架（2），所述悬臂上套接一个密封门（1）。

【技术特征摘要】
1.一种自带密封门的推送机构，其特征在于包括：水平布置的传送轨道（11）、受传送轨道驱动并沿轨道移动的基座（12），水平固定在基座上的悬臂（13），水平固定在悬臂顶端的可伸入反应炉炉膛中的硅片舟托架（2），所述悬臂上套接一个密封门（1）。2.如权利要求1所述的自带密封门的推送机构，其特征在于：所述密封门的端面上设有与反应炉炉膛密封的密封垫（3）。3.如权利要求1所述的自带密封门的推送机构，其特征在于：所述密封门的外周面上设有与反应炉密封的密封圈。4.如权利要求1所述的自带密封门的推送机构，其特征在于：所述硅片舟托架（2）可承托石墨舟（4），所述反应炉为PECVD反应炉。5.一种使用权利要求1所述推送机构的反应炉，具有炉膛（6）和铰接在炉膛口的炉膛门（5），其特征在于：具有权利要求1所述的自带密封门的推送机...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晨光，张勇，王凯，余仲，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44