一种用于样品形貌的检测装置制造方法及图纸

技术编号:17569873 阅读:24 留言:0更新日期:2018-03-28 18:10
本实用新型专利技术公开了一种用于样品形貌的检测装置,包括激光器、反射镜、光电二极管、控制器、扫描器、以及探针;激光器位于反射镜入射光的一侧;探针位于反射镜的下方;扫描器位于探针的下方;控制器具有第一接口、第二接口,第一接口与光电二极管的负极电连接,第二接口与扫描器电连接。本实用新型专利技术公开的用于样品形貌的检测装置,扫描器在探针扫描的过程中控制排斥力恒定,获得待检测样品形貌上点的位置信息,提高了抗环境光干扰性能,降低了激光功率。

A detection device for sample morphology

The utility model discloses a device for detecting samples, including lasers, mirrors, photodiodes, controller, scanner and laser probe; located on one side of the mirror of the incident light; the probe is located below the reflector; the scanner is located below the probe; a controller has a first interface and the second interface is electrically connected with the first electrode interface with the photodiode, second is connected with the electrical interface scanner. The utility model discloses a device for detecting the appearance of the sample. The scanner controls the repulsion force in the process of the scanning of the probe, and obtains the location information of the sample's point on the sample to be detected, which improves the performance of resisting the environmental light interference and reduces the laser power.

【技术实现步骤摘要】
一种用于样品形貌的检测装置
本技术涉及检测领域,更具体的,涉及一种用于样品形貌的检测装置。
技术介绍
微纳结构在超材料在航空航天、微电子、环境能源、生物技术等领域的应用愈加流行,微纳结构技术的进步使得智能化、高集成、高密度和信息超快传输成为了可能。微纳器件的形貌将直接影响产品的性能特征,精密的形貌检测将是微纳结构发展道路上必不可少的重要手段。目前,针对微纳结构的检测技术可以分为接触和非接触两类,而运用光学手段具有量程大、非接触、灵敏度高、无损伤、精密度高的特点。但由于在微纳结构的形貌检测技术中,测量稳定性不足,受外界干扰严重,那么,寻找一种简单、精密度高、稳定性强的检测手段,对于现在的微纳结构器件起着关键的作用。要实现原理简单、成本较低的形貌检测技术仍然是目前需要继续解决的难题。
技术实现思路
为了克服现有技术的缺陷,本技术所要解决的技术问题在于提出一种用于样品形貌的检测装置,扫描器在探针扫描的过程中控制排斥力恒定,获得待检测样品形貌上点的位置信息,提高了抗环境光干扰性能,降低了激光功率。为达此目的,本技术采用以下技术方案:本技术提供了一种用于样品形貌的检测装置,包括激光器、反射镜、光电二极管、控制器、用于扫描待检测样品的扫描器、以及用于检测所述待检测样品的探针;所述激光器位于所述反射镜入射光的一侧;所述探针位于所述反射镜的下方;所述扫描器位于所述探针的下方;所述控制器的第一接口与所述光电二极管的负极电连接,所述控制器的第二接口与所述扫描器电连接。可选地,还包括光电探测器;所述光电探测器位于所述反射镜的出射光所在侧。可选地,还包括准直器;所述准直器的第一端位于所述光电探测器的输出端所在侧,所述准直器的第二端与所述光电二极管的正极电连接;可选地,还包括显示器;所述显示器与所述控制器的第三接口电连接。可选地,所述扫描器配置为压电晶体扫描器。可选地,所述光电探测器配置为CMOS感光器。可选地,所述反射镜是激光谱线反射镜。可选地,所述激光谱线反射镜的波长是1064nm。本技术的有益效果为:本技术提供的一种用于样品形貌的检测装置,扫描器在探针扫描的过程中控制排斥力恒定,获得待检测样品形貌上点的位置信息,提高了抗环境光干扰性能,降低了激光功率。此外,由于处理信息简化为对点位置的判断,可以简化信息处理程序,实时性强、可靠性高。同时还可以看出,本技术提供的一种用于试样拉伸试验的装置,具有结构与原理简单,成本低的特点。附图说明图1是本技术具体实施方式提供的一种用于样品形貌的检测装置的结构示意图。图中:1、激光器;2、反射镜;3、光电二极管;4、控制器;5、扫描器;6、探针;7、光电探测器;8、准直器;9、显示器;11、待检测样品。具体实施方式下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。图1示例性地示出了本技术提供的一种用于样品形貌的检测装置的结构示意图,如图1所示。该装置包括激光器1、反射镜2、光电二极管3、控制器4、用于扫描待检测样品11的扫描器5、以及用于检测待检测样品11的探针6;激光器1位于反射镜2入射光的一侧;探针6位于反射镜2的下方;扫描器5位于探针6的下方;控制器4具有第一接口、第二接口,第一接口与光电二极管3的负极电连接,第二接口与扫描器5电连接。可选地,该装置还包括光电探测器7;光电探测器7位于反射镜2的出射光所在侧。可选地,该装置还包括准直器8;准直器8的第一端位于光电探测器7的输出端所在侧,准直器8的第二端与光电二极管3的正极电连接;可选地,该装置还包括显示器9,控制器4还具有第三接口;显示器9与第三接口电连接。以上实施中,具体来说,探针6在扫描待检测样品11的过程中,随待检测样品11表面的起伏上下移动进行扫描,从而记录下探针6上下移动扫描的轨迹。使用对微弱力非常敏感的探针6对待检测样品11表面作光栅式扫描。当探针6和待检测样品11表面的距离非常接近时,探针6的原子与待检测样品11表面的原子之间存在极微弱的作用力。探针6与待检测样品11之间的作用力与距离有强烈的依赖关系,所以在扫描过程中保持探针6与待检测样品11之间的作用力恒定,探针6就会随待检测样品11表面的起伏上下移动,记录探针6上下移动的轨迹即可得待检测样品11表面形貌上点的位置信息。探针6与待检测样品11形貌表面轻轻接触,由于探针6的原子与待检测样品11表面原子间存在极微弱的排斥力,通过扫描时扫描器5控制排斥力恒定,探针6将与待检测样品11表面原子间作用力的等位面而垂直于待检测样品11的表面方向起伏运动,利用探针6对应于扫描各点的位置变化来获得待检测样品11表面形貌的信息。扫描器5在探针6扫描的过程中控制排斥力恒定,获得待检测样品11形貌上点的位置信息,提高了抗环境光干扰性能,降低了激光功率。此外,由于处理信息简化为对点位置的判断,可以简化信息处理程序,实时性强、可靠性高。同时还可以看出,本技术提供的一种用于试样拉伸试验的装置,具有结构与原理简单,成本低的特点。可选地,扫描器5配置为压电晶体扫描器。可选地,光电探测器7是CMOS(ComplementaryMetal-OxideSemiconductor,互补金属氧化物导体)感光器。此外,光电探测器7是能够根据光电原理将光斑位置检测出来的任何元器件,例如,还可以是CCD(ChargeCoupledDevice,电荷耦合)感光器件、PSD(PositionSensitiveDetector,位置敏感器件)等多种元器件。可选地,反射镜2配置为激光谱线反射镜。可选地,激光谱线反射镜的波长是1064nm。本技术是通过优选实施例进行描述的,本领域技术人员知悉,在不脱离本技术的精神和范围的情况下,可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本技术不受此处所公开的具体实施例的限制,其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本技术保护的范围。本文档来自技高网...
一种用于样品形貌的检测装置

【技术保护点】
一种用于样品形貌的检测装置,其特征在于:包括激光器(1)、反射镜(2)、光电二极管(3)、控制器(4)、用于扫描待检测样品(11)的扫描器(5)、以及用于检测所述待检测样品(11)的探针(6);所述激光器(1)位于所述反射镜(2)入射光的一侧;所述探针(6)位于所述反射镜(2)的下方;所述扫描器(5)位于所述探针(6)的下方;所述控制器(4)的第一接口与所述光电二极管(3)的负极电连接,所述控制器(4)的第二接口与所述扫描器(5)电连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于样品形貌的检测装置,其特征在于:包括激光器(1)、反射镜(2)、光电二极管(3)、控制器(4)、用于扫描待检测样品(11)的扫描器(5)、以及用于检测所述待检测样品(11)的探针(6);所述激光器(1)位于所述反射镜(2)入射光的一侧;所述探针(6)位于所述反射镜(2)的下方;所述扫描器(5)位于所述探针(6)的下方;所述控制器(4)的第一接口与所述光电二极管(3)的负极电连接,所述控制器(4)的第二接口与所述扫描器(5)电连接。2.如权利要求1所述的一种用于样品形貌的检测装置,其特征在于:还包括光电探测器(7);所述光电探测器(7)位于所述反射镜(2)的出射光所在侧。3.如权利要求2所述的一种用于样品形貌的检测装置,其特征在于:还包括准直器(8...

【专利技术属性】
技术研发人员:张浩
申请(专利权)人:翔鹰航空工业有限公司
类型:新型
国别省市:江西,36

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