The invention relates to a preparation method of cerium oxide polishing powder, which comprises the following steps, high temperature burning stage, at a temperature of 1100 DEG C conditions 800 ~, first by oxidizing atmosphere by burning, reducing atmosphere by burning, reducing atmosphere when burning, smoke control in gas flue gas accounted for CO the volume ratio of 0.005 to 5%; cooling stage, reducing atmosphere by burning cerium oxide polishing powder, cooling until the temperature is below 500 DEG C. The preparation method of cerium oxide polishing powder, in reducing atmosphere when burning, smoke control CO accounted for the volume ratio of 0.5 2%, the trivalent cerium content is higher, and the fuel can be fully combusted, so rare earth polishing powder polishing rate is higher, so as to improve the yield of rare earth polishing powder polishing rate.
【技术实现步骤摘要】
一种氧化铈抛光粉的制备方法
本专利技术涉及稀土抛光粉制备
，特别是涉及一种氧化铈抛光粉的制备方法。
技术介绍
传统的抛光粉如：氧化铁红、氧化铬、氧化铝等都是从矿物中提炼加工出来，利用金属氧化物的硬度与被抛光材料的硬度接近，在抛光与研磨过程中，通过抛光材料的颗粒与被加工材料的表面产生物理研磨作用，使物质从被加工的材料表面脱除从而实现表面的被抛光。近现代后由于稀土氧化物的发展，人们发现氧化铈的硬度尽管可能低于被抛光材料，但是有极好的抛光速率。经研究，是氧化铈与被抛光材料同时发生了机械研磨和化学研磨作用，这才使的氧化铈与传统的抛光材料有了本质的不同，大大提升了抛光的速率。对于氧化铈与抛光材料，主要是玻璃起的化学反应，有研究认为是氧化铈抛光时，铈离子与玻璃表面相互作用，产生氧化还原反应，从而破坏了玻璃基体表面的硅氧键和铝氧键，使抛光时形成了玻璃的碎屑加速从表面的脱除。但是，如何提高氧化铈与玻璃表面的化学反应的速率，从而如何提升氧化铈在抛光过程中氧化还原反应的能力未见报道和应用。
技术实现思路
基于此，有必要针对如何提高氧化铈与玻璃表面的化学反应的速率的问题，提供一种氧化...
【技术保护点】
一种氧化铈抛光粉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，高温保温灼烧阶段，在800 ～ 1100℃的温度条件下，先采用氧化性气氛灼烧，后采用还原性气氛灼烧；降温阶段，采用还原性气氛灼烧，降温直到温度低于500℃；其中，采用所述还原性气氛灼烧时，控制烟气中CO占烟气的体积比0.005‑5%。
【技术特征摘要】
1.一种氧化铈抛光粉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤，高温保温灼烧阶段，在800～1100℃的温度条件下，先采用氧化性气氛灼烧，后采用还原性气氛灼烧；降温阶段，采用还原性气氛灼烧，降温直到温度低于500℃；其中，采用所述还原性气氛灼烧时，控制烟气中CO占烟气的体积比0.005-5%。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，采用所述还原性气氛灼烧时，控制烟气中CO占烟气的体积比0.1-3%。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，采用所述还原性气氛...
【专利技术属性】
技术研发人员：张方，
申请(专利权)人：东莞市赛亚稀土实业有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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