喷嘴自清洁及防护系统技术方案

技术编号:17521966 阅读:65 留言:0更新日期:2018-03-23 23:27
本申请公开了一种喷嘴自清洁及防护系统,包括设备显影单元,所述设备显影单元内设有作业腔,所述作业腔旁安装有导轨,所述导轨上安装有机械臂,所述机械臂一端安装有喷嘴,所述喷嘴上安装有防护罩,所述设备显影单元内还设有清洗基座,所述清洗基座上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。根据本申请实施例提供的技术方案,通过在喷嘴上设置防护罩有效避免喷雾喷嘴在使用过程中对作业环境的沾污,并且能过对防护罩进行清洁,结构简单,成本低,效率高。

Self cleaning and protection system of nozzles

The invention discloses a self cleaning nozzle and protection system, including equipment developing unit, a working cavity of the equipment in developing unit, the working chamber are installed beside the guide rail, the guide rail is arranged on the mechanical arm, wherein one end of the mechanical arm is provided with a nozzle, the nozzle is provided with a protective cover. The equipment in developing unit is also provided with a cleaning base, wherein the base is provided with a plurality of cleaning spray nozzle for cleaning fluid or air. According to the technical proposal provided by the embodiment of the application, by setting a protective cover on the nozzle, the contamination of the spray nozzle in the operation environment can be effectively avoided, and the protective cover can be cleaned. The structure is simple, the cost is low, and the efficiency is high.

【技术实现步骤摘要】
喷嘴自清洁及防护系统
本公开一般涉及半导体制造领域,尤其涉及喷嘴自清洁及防护系统。
技术介绍
喷雾喷嘴是一种较常见的药液吐出装置,广泛应用于化学品作业领域。但喷雾作业方式易产生大量雾状挥发物,会导致作业环境的沾污,经过一定时间溶剂挥发后又会形成结晶物并产生粉尘,周而复始导致作业环境恶化。喷雾喷嘴在工业领域尤其半导体制造工艺中使用非常广泛,如图1所示,喷雾喷嘴1应用在半导体制造领域中进行光刻胶显影工艺,设备显影单元5中安装有作业腔4,作业腔4内放置有真空吸盘3,真空吸盘3上吸附放置晶圆2,喷雾喷嘴1对晶圆进行喷雾作业,由于药液的喷溅及挥发,作业腔4使用一段时间后会产生明显的污渍,显影作业单元5中也会出现污渍,使得作业环境恶化,影响后续工艺的效果。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种喷嘴自清洁及防护系统。一方面,提供一种喷嘴自清洁及防护系统,包括设备显影单元,所述设备显影单元内设有作业腔,所述作业腔旁安装有导轨,所述导轨上安装有机械臂,所述机械臂一端安装有喷嘴,所述喷嘴上安装有防护罩,所述设备显影单元内还设有清洗基座,所述清洗基座上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。根本文档来自技高网...
喷嘴自清洁及防护系统

【技术保护点】
一种喷嘴自清洁及防护系统,包括设备显影单元,所述设备显影单元内设有作业腔,所述作业腔旁安装有导轨,所述导轨上安装有机械臂,所述机械臂一端安装有喷嘴,其特征在于,所述喷嘴上安装有防护罩,所述设备显影单元内还设有清洗基座,所述清洗基座上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴自清洁及防护系统,包括设备显影单元,所述设备显影单元内设有作业腔,所述作业腔旁安装有导轨,所述导轨上安装有机械臂,所述机械臂一端安装有喷嘴,其特征在于,所述喷嘴上安装有防护罩,所述设备显影单元内还设有清洗基座,所述清洗基座上设有多个用于喷出清洗液或者空气的喷头。2.根据权利要求1所述的喷嘴自清洁及防护系统,其特征在于,所述防护罩设有开口,所述开口内有内腔,所述喷嘴出口具体设置在所述防护罩内腔内,所述防护罩开口方向与所述喷嘴方向一致。3.根据权利要求1或2所述的喷嘴自清洁及防护系统,其特征在于,所述清洗基座上设有多组喷头,每组喷头包括间隔设置的清洗液喷头和气浴喷头,每组喷头沿所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴谦国
申请(专利权)人:合肥通富微电子有限公司
类型:新型
国别省市:安徽,34

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