一种掩膜版及其制作方法技术

本发明专利技术公开了一种掩膜版及其制作方法。所述制作方法包括：提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。本发明专利技术实施例提供的技术方案，相对于现有技术中分别在玻璃面和蒸镀面采用黄光工艺的掩膜版制作方法，减少了一次黄光工艺，进而提高了掩膜版的制作效率，且由于采用激光形成的凹槽与对应开孔连通后能够平滑过渡，避免了连接处阴影效应的产生，提高了掩膜版的精度。

A mask plate and its fabrication method

The invention discloses a mask plate and a making method. Including the fabrication method includes the following steps: providing a mask substrate, the mask substrate including relative glass surface and the evaporation surface; the glass side laser mask substrate formed in said plurality of grooves which are mutually independent; the technology of yellow light mask on the evaporation side corresponding to the the groove to form a plurality of openings, wherein a plurality of holes respectively and corresponding grooves communicated. Technical scheme provided by the embodiment of the invention, the mask in the existing technology in glass surface and the evaporation surface with yellow light craft making method, reduced a yellow light process, and improve the production efficiency of the mask, and the groove is formed by laser and the hole should be connected can a smooth transition to avoid the connection effect of shadow mask, improves the accuracy of.

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版及其制作方法
本专利技术实施例涉及掩膜版制备技术，尤其涉及一种掩膜版及其制作方法。
技术介绍
有机发光显示装置性能优良，能够自发光无需背光，易于实现柔性显示，且响应时间短，因此备受用户青睐。有机发光器件的有效制备是实现有机发光显示装置应用的基础，现有技术中实现有机发光器件的制备方法有多种，其中使用较为广泛的一种方法是像素并置法，采用这种方法制作出的有机发光器件显示色彩纯正，且发光效率高。具体的，像素并置法利用掩膜版作为镀膜工艺中的掩膜工具来形成像素材料层，因此，掩膜版的精度直接影响着形成有机发光器件的性能。目前掩膜版的制作方法中需要采用两次黄光工艺，由于黄光工艺步骤相对较多，所以制作效率不高，且掩膜版通孔内壁存在阴影效应，导致掩膜版的精度降低。
技术实现思路
本专利技术提供一种掩膜版及其制作方法，以提高掩膜版的制作效率和精度。第一方面，本专利技术实施例提供了一种掩膜版的制作方法，所述制作方法包括：提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；以及采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版的制作方法，其特征在于，包括：提供一掩膜基板，所述掩膜基板包括相对的玻璃面和蒸镀面；采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽；以及采用黄光工艺在所述掩膜基板的蒸镀面侧对应所述凹槽形成多个开孔，所述多个开孔分别与对应的凹槽连通。2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩模基板采用金属材料形成。3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板采用不锈钢或镍铁合金形成。4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述掩膜基板的厚度取值范围为10μm～50μm。5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤之前，还包括：采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成对位标记。6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧标定对位标记的步骤，包括：确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个点为标记中心点；根据所述标记中心点以及预设尺寸、形状及深度，采用激光形成对应的对位标记。7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述确定与所述玻璃面的几何中心距离相等的四个位置为标记中心点的步骤，包括：获取所述玻璃面的两条对角线；选择所述两条对角线上分别与所述玻璃面上用以获取两条对角线的四个顶点距离相等的四个点为标记中心点。8.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述采用激光在所述掩膜基板的玻璃面侧形成多个相互独立的凹槽的步骤，包括：根据所述对位标记确定所...

【专利技术属性】
技术研发人员：高志豪，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31