薄膜组件框架和薄膜组件制造技术

提供一种薄膜组件框架，其即使在光刻的曝光步骤中杂散光入射到薄膜组件框架的内侧面时也防止诸如炭黑颗粒或填料颗粒之类的颗粒污染光掩模。更具体地说，提供一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂层包括离所述框架基座最远一侧的最外聚合物层和所述框架基座与所述最外聚合物层之间的一个或多个内部聚合物层，其中所述一个或多个内部聚合物层中的至少一层包含颗粒，并且所述最外聚合物层不包含颗粒或者具有比所述一个或多个内部聚合物层中的最高颗粒浓度低的颗粒浓度。还提供一种包括所述薄膜组件框架的薄膜组件。

【技术实现步骤摘要】
薄膜组件框架和薄膜组件
本专利技术涉及在诸如半导体器件和液晶显示器等器件的生产中用作光掩模的防尘罩的光刻用薄膜组件，以及该薄膜组件所包括的薄膜组件框架。
技术介绍
在半导体器件如LSI和超LSI、液晶显示器或类似器件的生产中，使用光刻技术用光照射用于液晶的半导体晶片或有机板以形成图案。在光刻步骤中，当灰尘粘附到光掩模(曝光原始板)时，灰尘吸收光或者使光弯曲，导致尺寸、质量或者外观出现的问题，如转印图案变形、边缘粗糙或者基座上的黑点。为了解决这些问题，典型地在洁净室中执行这种步骤，但是即使在洁净室中也仍然难以保持光掩模完全洁净。因此，为了防止灰尘粘附，典型地将充分透射曝光用的光的薄膜组件附着到光掩模的表面。结果，灰尘不会直接粘附到光掩模的表面上，而是粘附到薄膜组件膜上。当曝光期间焦点被设定在光掩模上的图案时，薄膜组件膜上的灰尘不干扰转印。图2中示出典型薄膜组件的结构。充分透射曝光用的光的薄膜组件膜101通过粘合剂103设置在薄膜组件框架102的上端面上，并且用于将薄膜组件附着到光掩模105的粘合剂层104形成在薄膜组件框架102的下端面上。用于保护粘合剂层104的隔离件(未示出)可以可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂层包括离所述框架基座最远一侧的最外聚合物层和所述框架基座与所述最外聚合物层之间的一个或多个内部聚合物层，其中所述一个或多个内部聚合物层中的至少一层包含颗粒，并且所述最外聚合物层基本上不包含颗粒或者具有比所述一个或多个内部聚合物层中的最高颗粒浓度低的颗粒浓度。

【技术特征摘要】
2016.08.24 JP 2016-1638481.一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂层包括离所述框架基座最远一侧的最外聚合物层和所述框架基座与所述最外聚合物层之间的一个或多个内部聚合物层，其中所述一个或多个内部聚合物层中的至少一层包含颗粒，并且所述最外聚合物层基本上不包含颗粒或者具有比所述一个或多个内部聚合物层中的最高颗粒浓度低的颗粒浓度。2.根据权利要求1所述的薄膜组件框架，其中所述最外聚合物层基本上不包含颗粒。3.根据权利要求1或2所述的薄膜组件框架，其中所述颗粒是颜料颗粒和/或填料颗粒。4.根据权利要求1至3中任一项所述的薄膜组件框架，其中所述内部聚合物层中的至少一层具有50％以下的可见光透射率。5.根据权利要求1至4中任一项所述的薄膜组件框架，其中所述最外聚合物层具有大于50％的可见光透射率。6.根据权利要求1至5中任一项所述的薄膜组件框架，其中涂覆有所述聚合物涂层的所述框架基座的所述内周表面具有0.80～0.99的辐射率。...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨田裕一，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP