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提供一种薄膜组件框架，其即使在光刻的曝光步骤中杂散光入射到薄膜组件框架的内侧面时也防止诸如炭黑颗粒或填料颗粒之类的颗粒污染光掩模。更具体地说，提供一种薄膜组件框架，包括：框架基座；和聚合物涂层，其涂覆所述框架基座的至少内周表面，所述聚合物涂...
该专利属于信越化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。

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