表膜构件制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种表膜构件，在使表膜构件框架与光掩模贴合时，能减少从表膜构件框架向光掩模传递的应力，抑制光掩模的变形。本发明专利技术的表膜构件包括框状的表膜构件框架和张设于表膜构件框架的上端面的表膜，其特征在于，在表膜构件框架的与上端面相对的下端面，在其整周上设有包括凝胶状物质的密封材料层，并且在表膜构件框架的下端面的一部分的多个部位设有粘合剂层。

Membrane component

The purpose of the present invention is to provide a kind of surface membrane component, which can reduce the stress transmitted from the membrane component frame to the photomask and restrain the deformation of the photomask when the film component frame is combined with the photomask. The table includes film pellicle frame shape and frame net is arranged on the upper end surface of the membrane surface membrane component frame member of the present invention, is characterized in the pellicle frame and the lower end face relative, in the whole week includes a sealing material layer of gelatinous material, and adhesive layers are arranged in multiple parts of a portion of the lower end of the pellicle frame.

【技术实现步骤摘要】
表膜构件
本专利技术涉及在制造半导体器件、印刷基板、液晶显示器等时用于防污的表膜构件(pellicle)。
技术介绍
在LSI、超LSI等半导体的制造、液晶显示器等的制造中，对半导体晶圆、液晶用原板照射光来形成图案，但是如果此时所使用的光掩模或者中间掩模(以下仅记为光掩模)附着有污物，则会有如下问题：边缘变粗糙，基底污黑等，导致尺寸、质量、外观受损。因此，通常在无尘室中进行这些作业，但是即使如此也难以保证光掩模总是清洁，因此对光掩模表面贴附用于防污的表膜构件之后进行曝光。在这种情况下，异物不会直接附着于光掩模的表面，而是附着在表膜构件上，因此在光刻时只要使焦点对准到光掩模的图案上即可，表膜构件上的异物与转印无关。一般，表膜构件是将透光性良好的包括硝化纤维、醋酸纤维或者氟树脂等的透明表膜在对包括铝、不锈钢、聚乙烯等的表膜构件框架的上端面涂敷表膜的良溶剂后进行风干而将其粘接(参照专利文献1)，或者用丙烯酸树脂、环氧树脂等粘接剂将透明表膜粘接(参照专利文献2和专利文献3)。而且，表膜构件框架的下端包括：粘合层，其用于粘接到光掩模，包括聚丁烯树脂、聚醋酸乙烯树脂、丙烯酸树脂、有机硅树脂等；以本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表膜构件，包括框状的表膜构件框架和张设于表膜构件框架的上端面的表膜，该表膜构件的特征在于，在该表膜构件框架的与上端面相对的下端面，在其整周上设有包括凝胶状物质的密封材料层，并且在上述表膜构件框架的下端面的一部分的多个部位设有粘合剂层。

【技术特征摘要】
2016.05.26 JP 2016-1049161.一种表膜构件，包括框状的表膜构件框架和张设于表膜构件框架的上端面的表膜，该表膜构件的特征在于，在该表膜构件框架的与上端面相对的下端面，在其整周上设有包括凝胶状物质的密封材料层，并且在上述表膜构件框架的下端面的一部分的多个部位设有粘合剂层。2.根据权利要求1所述的表膜构件，其特征在于，在上述表膜构件框架上设有多个伸出部，并且在该伸出部的下端面设有粘合剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村晃范，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP