自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统技术方案

本实用新型专利技术涉及薄膜制备装置，旨在提供自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。该种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜。本实用新型专利技术能够在太阳能电池片表面镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜，氧化铝薄膜能够对电池片起到钝化的作用，氮化硅薄膜能够起到减反的作用，不仅能大幅度的提高产能，并且叠层薄膜能够在一定程度上提高电池片的转换效率。

Automatic plate type PECVD alumina and silicon nitride laminated film preparation system

The utility model relates to a film preparation device, which aims to provide an automatic plate type PECVD alumina and silicon nitride laminated film preparation system. The automatic flat PECVD alumina and silicon nitride laminated film preparation system includes preheating cavity, alumina process cavity, buffer cavity, silicon nitride process cavity and discharge chamber. It is used for coating aluminum oxide and silicon nitride laminated film on battery sheet. The utility model can be used in solar cell coated alumina and silicon nitride laminated film, aluminum oxide film to the passivation effect on solar cell, silicon nitride thin films can play the role of anti reflection, not only can greatly improve the production capacity, and the laminated film can improve the conversion efficiency of the battery in a certain degree on.

【技术实现步骤摘要】
自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统
本技术是关于薄膜制备装置领域，特别涉及自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。
技术介绍
近年来，为了降低太阳能电池的成本，硅片的厚度不断降低，但是随着硅片厚度的减薄，少数载流子的扩散长度可能接近或大于硅片的厚度，部分少数载流子将会扩散到电池背面而产生复合，这将对电池效率产生重要影响。另外，为了提高电池片的转换效率，需要在电池片表面镀减反射膜，目前镀减反射膜主要采用PECVD方法，同时PECVD方法也能起到钝化的作用，降低电池片背面复合速率。PECVD方法是制备减反膜方法中最为成熟，操作也较为简单，能够实现全自动化生产，目前的PECVD设备主要有两种，一种是管式PECVD设备，这种设备采用的工作方法是在单一腔室内连续实现镀减反膜的一系列过程，导致产能非常低；另一种是板式PECVD设备，这种设备能够实现连续生产，产能也很高，但是目前技术被国外垄断，进口的价格成本很高。
技术实现思路
本技术的主要目的在于克服现有技术中的不足，提供一种多腔室在真空条件下连续工作的全自动平板PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统。为解决上述技术问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜，其特征在于，所述自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔；所述预热腔采用铝制腔体，铝制腔体的内部安装有加热灯管，用于对电池片进行初步加热；所述氧化铝工艺腔采用不锈钢腔体，不锈钢腔体内部安装有加热管A、工艺气体喷气口A、微波源A，所述加热管A用于对电池片进行充分加热，所述工艺气体喷气口A用于作为三甲基铝、一氧化二氮的喷气口，所述微波源A能通过激发等离子体为工艺气体在低温下反应生成氧化铝提供条件；所述缓冲腔采用铝制中空腔体，设置在氧化铝工艺腔...

【技术特征摘要】
1.一种自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统，用于对电池片镀氧化铝和氮化硅叠层薄膜，其特征在于，所述自动平板式PECVD氧化铝与氮化硅叠层薄膜制备系统包括预热腔、氧化铝工艺腔、缓冲腔、氮化硅工艺腔、卸料腔；所述预热腔采用铝制腔体，铝制腔体的内部安装有加热灯管，用于对电池片进行初步加热；所述氧化铝工艺腔采用不锈钢腔体，不锈钢腔体内部安装有加热管A、工艺气体喷气口A、微波源A，所述加热管A用于对电池片进行充分加热，所述工艺气体喷气口A用于作为三甲基铝、一氧化二氮的喷气口，所述微波源A能通过激发等离子体为工艺气体在低温下反应生成氧化铝提供条件；所述缓冲腔采用铝制中空腔体，设置在氧化铝工艺腔与氮化硅工艺腔之间，用于进行过渡；所述氮化硅工艺腔采用不锈钢腔体，不锈钢腔体内部安装有加热管B、工艺气体喷气口B、微波源B，所述加热管B用于电池片进行充分加热，所述工艺气体喷气口B用于作...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅林坚，石刚，洪昀，祝广辉，王伟星，吴威，高振波，
申请(专利权)人：绍兴上虞晶信机电科技有限公司，浙江晶盛机电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33