The utility model discloses a protection tool, which belongs to the field of semiconductor manufacturing technology, is suitable for maintenance in chemical vapor deposition equipment to protect the electrostatic chuck, the chemical vapor deposition apparatus includes an electrostatic chuck base, the electrostatic chuck is arranged on the electrostatic chuck base, wherein the base is provided with a circular to the electrostatic chuck on the opening of the door; the tool includes a cover body disc, wherein the cover body comprises at least one positioning structure for buckling to the electrostatic chuck base and sealing the opening. The beneficial effect of the above technical scheme is that the above protective tools can fully cover the surface of the electrostatic sucker when maintaining the dry etching equipment, effectively avoid damaging or polluting the electrostatic sucker in the maintenance process, and improve the maintenance efficiency.
【技术实现步骤摘要】
一种防护工具
本技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘的防护工具。
技术介绍
为克服传统的化学气相沉积设备中采用机械方式固定晶圆进行刻蚀所造成的损坏晶圆和刻蚀不均匀等问题,现有的化学气相沉积设备通常使用静电吸盘(ElectrostaticChuck;ESC)技术固定晶圆进行刻蚀,另外,为避免由于温度不均所造成的薄膜沉积不均的现象,在静电吸般的表面设置有细微的氦气通道,在晶圆背面使用了氦气(He)冷却技术。上述氦气除用作冷却晶圆外,还可用来反应晶圆与静电吸盘之间是否接触良好,当氦气背压过大时,化学气相沉积设备就会产生报警提示晶圆与静电吸盘之间的接触有问题。在化学气相沉积设备工作一段时间后会对其进行检修维护,在维护的过程中会产生微尘颗粒掉落在静电吸盘上面或者维护使用的湿布会掉落在静电吸盘上面,导致静电吸盘被污染;另外,在维护过程中可能会碰撞到静电吸盘上,损坏静电吸盘表面的陶瓷通道。
技术实现思路
根据现有技术中存在的上述问题,现提供一种可以在维护化学气相沉积设备时,避免静电吸盘被湿布或微尘颗粒污染,以及避免静电吸盘表面的陶瓷通道 ...
【技术保护点】
一种防护工具,适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘,所述化学气相沉积设备包括静电吸盘基座,所述静电吸盘设置于所述静电吸盘基座内,其特征在于,所述静电吸盘基座具有向上的圆形的开口;所述防护工具包括一圆盘状的盖体,所述盖体包括至少一个定位结构,用以扣合于所述静电吸盘基座上并封盖所述开口。
【技术特征摘要】
1.一种防护工具,适用于在维护化学气相沉积设备时保护静电吸盘,所述化学气相沉积设备包括静电吸盘基座,所述静电吸盘设置于所述静电吸盘基座内,其特征在于,所述静电吸盘基座具有向上的圆形的开口;所述防护工具包括一圆盘状的盖体,所述盖体包括至少一个定位结构,用以扣合于所述静电吸盘基座上并封盖所述开口。2.如权利要求1所述的防护工具,其特征在于,所述盖体包括:一与所述开口形状适配的盖板,所述盖板包括背向所述开口的正面和朝向所述开口的反面;环形凸缘,垂直向下的环设于所述盖板的反面的边缘处;于所述盖体封盖所述开口时,所述环形凸缘接触所述开口。3.如权利要求2所述的防护工具,其特征在于,所述定位结构包括:均布于所述开口上且垂直向上的定位销;均布于所述环...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑高锋,
申请(专利权)人:武汉新芯集成电路制造有限公司,
类型:新型
国别省市:湖北,42
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